[发明专利]一种首饰用硬质千足金的表面处理工艺有效
| 申请号： | 201611126812.6 | 申请日： | 2016-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN106756827B | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | 李银余 | 申请（专利权）人： | 嘉兴市纳川真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/16;C22C5/02 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 王菊花 |
| 地址： | 314000 浙江省嘉*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 千足金 靶材 首饰 表面处理工艺 硬质 双层辉光等离子 表面处理技术 低温等离子体 硬化合金层 表面硬化 工作气压 合金原子 辉光放电 源级电压 色彩度 硬化层 吸附 源级 轰击 饰品 保温 硬化 扩散 | ||
【权利要求书】：
1.一种首饰用硬质千足金的表面处理工艺，其特征在于，采用双层辉光等离子表面处理技术，利用辉光放电所产生的低温等离子体，使源级靶材中能使千足金硬化的合金原子，吸附和扩散在升温至一定温度且保温一段时间的千足金饰品表面，形成硬质合金层；
其中，源极靶材采用粉末冶金工艺制备，其合金重量比例为Au：60％～75％，Ti：5～35％，Dy：2％～18％，Te：1～10％。
2.如权利要求1所述的表面处理工艺，其特征在于，硬质合金层厚度为5～15微米，其硬度达到HV190～250以上。
3.如权利要求1所述的表面处理工艺，其特征在于，源级电压为800～1000V。
4.如权利要求1所述的表面处理工艺，其特征在于，工件极电压为50～200V。
5.如权利要求1所述的表面处理工艺，其特征在于，工作气压为100～1000Pa。
6.如权利要求1所述的表面处理工艺，其特征在于，极间距为200mm～500mm。
7.如权利要求1所述的表面处理工艺，其特征在于，所述升温至一定温度为500～800℃，保温一段时间为10～30min。
8.如权利要求1或2所述的表面处理工艺，其特征在于，源极靶材为一端封闭的层间距为1～3cm的双层圆柱体结构，其上设置均匀分布的圆孔。
9.如权利要求8所述的表面处理工艺，其特征在于，圆孔直径为5mm～10mm。
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