[发明专利]多功能RF电容加热式食物制备装置

权利要求书

1.一种食物制备装置，包括：

射频电容加热源；

液体温度控制组件；

烹饪控制器，所述烹饪控制器操作性地耦接到所述射频电容加热源和所述液体温度控制组件以将功率选择性地分配到所述射频电容加热源和所述液体温度控制组件；

盆，所述盆被配置成盛装液体并接纳食品；以及

盖，所述盖铰接地附接到所述盆，所述盖被配置成具有与所选择的食物制备程序相关的功能，

其中所述射频电容加热源包括设置在所述盆的相对表面上的接地板和高电压板，

其中所述烹饪控制器被配置成根据所选择的食物制备程序经由所述射频电容加热源和所述液体温度控制组件来控制所述食品和所述液体的体积热条件，

其中所述射频电容加热源被配置成烹饪或解冻所述食品的内部芯层，而所述食品的外表面经由所述液体和所述液体温度控制组件来同时烹饪或解冻。

2.根据权利要求1所述的食物制备装置，其中所述盖和所述盆中的每一者都被配置成经由射频屏蔽、射频绝缘中的至少一者或其任何组合而包容射频能量。

3.根据权利要求1所述的食物制备装置，其中所述接地板和所述高电压板在大致平行于所述盆的侧壁的平行平面内延伸。

4.根据权利要求1所述的食物制备装置，其中所述接地板和所述高电压板在大致垂直于所述盆的侧壁的平行平面内延伸，以使得所述接地板或所述高电压板中的一者设置在所述盖内。

5.根据权利要求1所述的食物制备装置，其中所述盖包括压力释放阀、压力计、蒸汽释放口中的至少一者或其任何组合。

6.根据权利要求1所述的食物制备装置，其中所述烹饪控制器监视湿度、温度、时间、压力、射频能量中的至少一者或其任何组合，并且其中所述烹饪控制器被配置成至少提供第一定时功能和第二定时功能，所述第一定时功能定义所述食品在所述液体中的浸没时间，而所述第二定时功能定义用于将所述射频能量施加到所述食品的射频能量施加时间。

7.根据权利要求6所述的食物制备装置，其中所述射频能量施加时间小于所述浸没时间。

8.根据权利要求1所述的食物制备装置，其中所述烹饪控制器被配置成根据所述所选择的食物制备程序而提供连续或间断的开/关循环。

9.根据权利要求1所述的食物制备装置，其中所述液体温度控制组件控制所述液体的所述温度并使所述液体在所述盆中循环。

10.根据权利要求1所述的食物制备装置，其中所述所选择的食物制备程序包括真空低温解冻、真空低温烹饪中的至少一者或其任何组合。

11.根据权利要求10所述的食物制备装置，其中所述食品被密封在所述盆中的不渗透的、射频能量可透过的器皿内，并且所述盖包括蒸汽释放口。

12.根据权利要求10所述的食物制备装置，其中所述所选择的食品制备程序包括真空低温解冻，并且所述烹饪控制器被配置成经由所述射频电容加热源和所述液体温度控制组件而迅速地解冻所述食品，以使得所述液体维持在0.1℃到5℃的温度。

13.根据权利要求10所述的食物制备装置，其中所述所选择的食品制备程序包括真空低温烹饪，并且所述烹饪控制器被配置成经由所述射频电容加热源和所述液体温度控制组件而迅速地烹饪所述食品，以使得所述液体维持在61℃到99℃的温度。

14.根据权利要求1所述的食物制备装置，其中所述所选择的食物制备程序包括炖煮或压力烹饪。

15.根据权利要求14所述的食物制备装置，其中所述食品直接浸没在所述液体中，并且所述盖包括非穿孔盖，所述非穿孔盖具有压力阀、压力计中的至少一者或其任何组合。