[发明专利]研磨垫修整方法、研磨垫修整装置及化学机械研磨设备

权利要求书

1.一种研磨垫修整方法，其特征在于其包括：

先硬化位于一研磨垫的一抛光面上的一待修整区内的多个软质微结构；以及

利用一修整器切削位于所述待修整区内的被硬化的多个所述软质微结构，以修整所述研磨垫的所述抛光面；

其中，硬化位于所述待修整区内的多个所述软质微结构的步骤是通过急速冷冻来完成；所述急速冷冻是在所述待修整区内喷洒一冷冻剂；所述冷冻剂为液态氮、液态氧、干冰或是冷媒。

2.根据权利要求1所述的研磨垫修整方法，其中，利用所述修整器修整所述研磨垫的所述抛光面时，所述研磨垫通过一转轴以产生自转，且喷洒所述冷冻剂的步骤与利用所述修整器修整所述抛光面的步骤是沿着同一方向同步进行。

3.根据权利要求2所述的研磨垫修整方法，其中，在喷洒所述冷冻剂的步骤中，还进一步包括：沿着所述研磨垫的一径向方向移动，并且连续地或间歇地喷洒所述冷冻剂在所述研磨垫的所述抛光面上，在喷洒所述冷冻剂的步骤中，还进一步包括：在所述研磨垫的一径向方向上连续地或间歇地喷洒所述冷冻剂于所述研磨垫的所述抛光面上。

4.一种研磨垫修整装置，其包括：

一修整器，其用以修整一研磨垫的一抛光面；以及

一抛光面处理单元，其设置于所述研磨垫的上方，其中，在所述修整器修整所述抛光面上的一待修整区之前，先利用所述抛光面处理单元硬化位于所述待修整区内的多个软质微结构；

所述抛光面处理单元包括一用于供应一冷冻剂的供应单元以及一与所述供应单元互相连通的喷嘴，且所述供应单元所供应的所述冷冻剂通过所述喷嘴以喷洒在所述待修整区；还包括一移动臂及一能自转地连接于所述移动臂的自转轴；所述抛光面处理单元设置于所述移动臂上，且所述修整器通过所述自转轴以设置于移动臂上，以使得所述抛光面处理单元与所述修整器两者通过所述移动臂以同步移动；所述抛光面处理单元与所述修整器相邻，当所述研磨垫通过一转轴以朝一自转方向自转时，所述抛光面处理单元与所述修整器沿着所述自转方向依序设置。

5.一种化学机械研磨设备，其包括：

一载台，其连接于一转轴以产生自转；

一研磨垫，其设置于所述载台上，所述研磨垫具有一抛光面；以及

一研磨垫修整装置，其包括：

一修整器，其设置于所述研磨垫上，用以修整所述抛光面；以及

一抛光面处理单元，其设置于所述研磨垫的上方，其中，在所述修整器通过所述抛光面上的一待修整区之前，先利用所述抛光面处理单元硬化位于所述待修整区内的多个软质微结构；

所述抛光面处理单元包括一用于供应一冷冻剂的供应单元以及一与所述供应单元互相连通的喷嘴，且所述供应单元所供应的所述冷冻剂通过所述喷嘴以喷洒在所述待修整区；还包括一清洁单元，其通过喷洒一清洁液，以清洗所述研磨垫并使所述研磨垫的所述待修整区内被硬化的多个所述软质微结构解冻。

6.根据权利要求5所述的化学机械研磨设备，其中，所述研磨垫修整装置还包括一移动臂以及一能自转地连接于所述移动臂的自转轴；所述抛光面处理单元设置于所述移动臂上，且所述修整器通过所述自转轴以设置于移动臂上，以使得所述抛光面处理单元与所述修整器两者通过所述移动臂而同步移动。

7.根据权利要求5所述的化学机械研磨设备，其中，所述抛光面处理单元与所述修整器彼此相邻，当所述研磨垫通过所述转轴以朝一自转方向自转时，所述抛光面处理单元与所述修整器沿着所述自转方向依序设置。