[发明专利]一种LED晶圆的紫外激光表面切割方法有效
申请号: | 201610362405.9 | 申请日: | 2016-05-26 |
公开(公告)号: | CN107437532B | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
发明(设计)人: | 王焱华;何俊;庄昌辉;李福海;张红江;曾威;朱炜;尹建刚;高云峰 | 申请(专利权)人: | 大族激光科技产业集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78;B28D5/00;B23K26/364;B23K26/60;B23K26/16 |
代理公司: | 深圳市世联合知识产权代理有限公司 44385 | 代理人: | 汪琳琳 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 led 紫外 激光 表面 切割 方法 | ||
1.一种LED晶圆的紫外激光表面切割方法,其特征在于:该切割方法具体包括如下:
步骤S1:将晶圆片(9)平放在载台(10)上;
步骤S2:储存胶水的容器(13)移至晶圆片(9)上方,并喷出胶水滴(14)到晶圆片(9)上;
步骤S3:启动载台(10)使其高速旋转,甩干晶圆片(9)上的胶水并使胶水平铺在晶圆片(9)的表面;
步骤S4:采用多光点激光装置发出激光光束,并在晶圆片(9)的激光入射面形成多光点聚焦,激光切割晶圆片(9);
步骤S5:清洗晶圆片(9)上的胶水,通过喷水装置(15)喷水到晶圆片(9)的激光入射面,同时旋转载台(10)以去除晶圆片(9)上的胶水;
步骤S6:加工完成,晶圆片(9)分离形成芯粒(16)。
2.根据权利要求1所述的LED晶圆的紫外激光表面切割方法,其特征在于:所述多光点激光装置包括激光器(1)、光闸(2)、第一45度反射镜(3)、第二45度反射镜(4)、扩束镜(5)、第三45度反射镜(6)、衍射光学元器件(7)和聚焦镜(8);
所述激光器(1)发射出激光光束,所述激光光束经过光闸(2)后,通过第一45度反射镜(3)和第二45度反射镜(4)进行反射后,经过扩束镜(5)改变发散角度,之后经过第三45度反射镜(6)也进行反射后,进入衍射光学元器件(7)分束成多光束,多光束通过聚焦镜(8)并在晶圆片(9)的表面形成多光点聚焦,从而切割晶圆片(9)。
3.根据权利要求2所述的LED晶圆的紫外激光表面切割方法,其特征在于:所述激光器(1)为紫外激光器,激光器(1)的波长是355nm,为脉冲激光,激光光束的偏振态为线偏振,偏振比大于50:1,脉冲宽度范围是0.1~100ns,激光的频率范围是50-500kHz,单点能量范围是1-200μJ,加工LED晶圆的速度能够到达200-450mm/s。
4.根据权利要求2或3所述的LED晶圆的紫外激光表面切割方法,其特征在于:所述晶圆片(9)平放在载台(10)上,第三45度反射镜(6)、衍射光学元器件(7)和聚焦镜(8)依次由上至下同轴位于晶圆片(9)的上方;第二45度反射镜(4)和扩束镜(5)沿水平方向同轴位于第三45度反射镜(6)的一侧,激光器(1)、光闸(2)和第一45度反射镜(3)也沿水平方向由左至右依次设置,第一45度反射镜(3)同轴位于第二45度反射镜(4)的上方。
5.根据权利要求1所述的LED晶圆的紫外激光表面切割方法,其特征在于:所述晶圆片(9)的激光入射面为其发光区或背面的硅衬底。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造