[发明专利]能够收容工件的网结构体

说明书

技术分野

本发明涉及能够收容工件的网结构体，特别涉及能够收容电子部件等小型工件的网结构体。这些网结构体例如在洗涤工件的洗涤装置、对工件进行镀敷处理的镀敷装置中使用。

背景技术

作为洗涤电子部件等小型工件的洗涤装置，已知桶状洗涤装置。例如，在日本特开平7-205018号公报(专利文献1)、日本特开2003-53279号公报(专利文献2)中，公开了一种具备用于收容工件的网的筐的桶状洗涤装置。在通常的桶状洗涤装置中，通过将收容有工件的筐浸渍于洗涤液中，并在洗涤液中旋转该筐，由此在洗涤液中搅拌工件来洗涤附着于该工件上的污垢。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平7-205018号公报

专利文献2：日本特开2003-53279号公报

发明内容

发明要解决的问题

在被收容的工件为小型的情况下，需要按照该工件的尺寸使构成筐的网的开口部变小。然而，若使网的开口部变小，则将筐向洗涤液中浸渍时，因表面张力的作用会在网的开口部形成洗涤液的膜，结果，洗涤液变得不能在隔着网的筐内部与外部洗涤槽、空气等气体(气氛)之间顺利出入。因此，在筐内部装入洗涤液为止的时间变长，从而洗涤操作的效率恶化。除此以外，若网的开口部变小，则在将筐从洗涤槽中拉起时，变得容易在网的开口部残留洗涤液，液体除去状况差，从而会增加操作者用于拉起筐的负担、施加到上拉机构的负荷。另外，残留在网上的洗涤液、处理液，在放置后会干燥固化从而有可能引起网的开孔的堵塞、或者成为其他工序的处理环境的污染源。

能够收容工件的网状的筐也可以在镀敷装置中使用。在镀敷装置中，将收容有电子部件等工件的筐浸渍于镀敷液中，并对该电子部件进行镀敷处理。在这种镀敷装置中，也会与上述洗涤装置同样地产生由使网的开口部变小而引起的各种不良情况。

因此，根据本发明的各种实施方式，提供透液性得到改善的网结构体。该网结构体例如以适于洗涤电子部件等工件的洗涤装置、对电子部件等工件进行镀敷处理的镀敷处理装置的形状构成。

解决问题的手段

本发明的一个实施方式的网结构体具备：划出用于收容工件的收容空间的网基体、及形成在所述网基体的表面上且具有比该网基体更高的疏水性的涂层薄膜。通过在划出用于收容工件的收容空间的网基体的表面上设置具有比该网基体的疏水性更高的疏水性的涂层薄膜，洗涤液、镀敷液等液体变得易于在用于收容工件的收容空间内部与外部之间透过。另一个实施方式的网结构体，具备划出用于收容工件的收容空间的网基体，其以该网基体的表面的至少一部分具有比该表面的其他部分更高的疏水性的方式构成。根据这样的实施方式，通过使网基体的表面的一部分具有更高的疏水性，洗涤液、镀敷液等液体变得易于在用于收容工件的收容空间内部与外部之间透过。

本发明的另一个实施方式的网结构体，在网基体的表面上具备通过干式工艺形成的底涂剂薄膜。此时，疏水性的涂层薄膜形成在该底涂剂薄膜的表面上。作为底涂剂薄膜，若使用液体状的底涂剂，则液体状的底涂剂会在网基体的开口部(构成网基体的线构件之间的间隙)润湿展开，从而有可能堵塞其开口部。因此，在本发明的一个实施方式中，不通过液体状的底涂剂，而通过CVD法等干式工艺在网基体上形成底涂剂薄膜。可见，通过在网基体上隔着底涂剂薄膜形成涂层薄膜，可以在不堵塞网基体的开口部的情况下提高涂层薄膜的固着性。涂层薄膜例如为包含含氟硅烷偶联剂的涂层。

一个实施方式中的底涂剂薄膜含有选自Si、Ti、Al、Zr及它们的氧化物中的至少一种物质。含有硅(Si)、钛(Ti)、铝(Al)、氧化铝(Al₂Ox(x为任意数))或锆(Zr)的底涂剂组合物层，会与含有氟的硅烷偶联剂牢固地键合(参考日本特愿2012-29090)。认为，在该底涂剂薄膜中，源自硅(Si)、钛(Ti)、铝(Al)、氧化铝(Al₂Ox)或锆(Zr)、或者它们的氧化物的羟基，会与含氟硅烷偶联剂的官能团形成基于脱水缩合反应的共价键、氢键和/或这些以外的键，因此，底涂剂薄膜与含氟硅烷偶联剂可牢固地键合。该底涂剂薄膜可以在基体上直接形成，也可以隔着中间层间接形成。