[实用新型]用于碳化硅生产过程中的浊度改善装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种浊度处理装置，具体涉及一种用于碳化硅生产过程中的浊度改善装置。

背景技术

浊度是指水中悬浮物对光线透过时所发生的阻碍程度。在碳化硅生产过程中，其洗涤溶液的浊度是一项重要的控制指标，其浊度主要是碳化硅中含有的微小颗粒与杂质引起的，将碳化硅中微小颗粒与杂质分离去除就可以降低浊度。碳化硅浊度检验仪器主要为浊度计，检验方法为称取5g样品放入烧杯中，加入200mL去离子水，混合均匀静置30分钟，提取上层溶液测样品清洁度。

在碳化硅生产的行业内，降低改善浊度的方式采用三种方法：①采用多次水（或纯水）水洗（虹吸或溢流或两者结合）的方法，将碳化硅中的杂质除去，降低浊度；②采用分级机分离的方法，将碳化硅中的杂质除去，降低浊度；③采用分散剂的方法，将碳化硅中的杂质除去，降低浊度。

目前随着科技的发展，各行各业对碳化硅产品的纯度等质量指标要求日益严格来越高。现有方法中有的工艺流程较为复杂，有的浊度改善效果差强人意，有的会引入新的杂质，均难以满足人们对的碳化硅产品的纯度等质量需要。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种工艺流程简单、不引入新杂质且改善效果较好的用于碳化硅生产过程中的浊度改善装置。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

设计一种用于碳化硅生产过程中的浊度改善装置，包括由相应的管道依次连接的料浆池、上料泵、离心机，所述离心机为刮刀离心机。

所述刮刀离心机为平板式刮刀下部卸料离心机。

所述平板式刮刀下部卸料离心机包括转鼓、刮刀组件、转鼓驱动机构、控制单元、机壳及机座，所述转鼓安装于所述机壳内，两者之间形成排液通道，所述转鼓下部开设有卸料口，所述刮刀组件包括刮刀、刮刀驱动部件，所述刮刀伸展至所述转鼓内，所述控制单元分别与所述转鼓驱动机构、刮刀驱动部件信号连接。

所述平板式刮刀下部卸料离心机还设置有布料机构，其包括布料电机、安装在所述转鼓内的布料盘、伸展至所述转鼓内的进料管以及洗涤管，所述布料盘倾斜设置，所述进料管、洗涤管分别与所述布料盘相连接。

所述上料泵为隔膜泵。

本实用新型具有积极有益的效果：

该装置是通过物理离心方式将碳化硅中的杂质及微小颗粒分离取出，来降低浊度，工艺流程简单、处理效果好且不引入杂质。

附图说明

图1为一种用于碳化硅生产过程中的浊度改善装置的结构示意图；

图2为图1中平板式刮刀下部卸料离心机的结构示意图。

图中，1为转鼓，2为壳体，3为排液通道，4为机座，5为卸料口,6为下料斗，7为转鼓驱动电机，8为刮刀，9为刮刀驱动部件,10为进料通道，11为布料电机，12为布料盘，13为平板式刮刀下部卸料离心机，14为隔膜泵，15为料浆池，16为搅拌机构。

具体实施方式

以下结合具体实施例进一步阐述本实用新型。下述实施例中的各参数测定方法或检查方法，如无特别说明，均为常规方法。

实施例1  一种用于碳化硅生产过程中的浊度改善装置，参见图1、图2，包括由相应的管道依次连接的料浆池15、隔膜泵14、平板式刮刀下部卸料离心机13（PGZ1250），该所述平板式刮刀下部卸料离心机13包括转鼓1、刮刀组件、转鼓驱动电机7、布料机构、控制单元、壳体2及机座4，转鼓1安装于壳体2内，两者之间形成排液通道3，转鼓1下部开设有卸料口5，所述刮刀组件包括刮刀8、刮刀驱动部件9，刮刀8伸展至转鼓1内，所述控制单元分别与所述转鼓驱动机构、刮刀驱动部件信号连接；上述刮刀驱动部件包括旋转油缸、升降油缸，所述旋转油缸完成刮刀的旋转及旋转复位，所述升降油缸完成刮刀的下降及上升复位；所述布料机构包括布料电机11、安装在转鼓1内的布料盘12、伸展至转鼓1内的进料通道10以及洗涤管，布料盘12倾斜设置，进料通道10、洗涤管分别与布料盘12相连接。

利用上述浊度改善装置进行浊度处理的方法：