[发明专利]用于浸没式光刻机的阶梯式自适应气体密封装置

权利要求书

1. 一种用于浸没式光刻机的阶梯式自适应气体密封装置，包括投影透镜组（1）、密封装置和衬底（3），密封装置设置在投影透镜组（1）和衬底（3）之间；其特征在于：所述的密封装置为阶梯式自适应气体密封装置（2），包括下构件（2A）、上构件（2B）和旋转构件（2C）；其中：

1）下构件（2A）：下构件（2A）为环状柱体，圆周方向等距开有10~18个扇形多层的气密封通道（4A），并且每个气密封通道为5~8层；气密封通道下部开有倾斜气密封腔（5A）；在气密封通道外围设有等距分布的回气通道（6A），回气通道（6A）的下部设有回气腔（7A），回气腔（7A）内填充吸水性多孔介质（9）；在下构件（2A）圆周外壁开有环状的旋转凹槽（8A）；

2）上构件（2B）：上构件（2B）为环状柱体，下表面圆周方向开有与下构件（2A）环状柱体的扇形多层的气密封通道（4A）相应个数的扇形的气流缓冲腔（5B），对应紧贴与下构件（2A）环状柱体的扇形多层的气密封通道（4A），每个气流缓冲腔（5B）的上方均开有与气流缓冲腔（5B）连通的注气通道（4B）；注气通道(4B)位于最外层的气密封通道(4A)之外；

3）旋转构件（2C）：旋转构件（2C）为环状柱体，贯穿上下表面等距开有8~10个倾斜旋转气流通道（4C）；在中心圆周内壁设有环状的旋转凸台（5C），旋转凸台（5C）与下构件（2A）环状柱体的环状的旋转凹槽（8A）镶嵌配合。

2. 根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的阶梯式自适应气体密封装置，其特征在于：所述的扇形多层的气密封通道（4A），从中心向外部方向，每层气密封通道的宽度逐渐增大，递增宽度在0.5~1mm。

3. 根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的阶梯式自适应气体密封装置，其特征在于：所述的倾斜气密封腔（5A），从中心向外倾斜角度β为20~40度。

4. 根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的阶梯式自适应气体密封装置，其特征在于：所述的倾斜旋转气流通道（4C）从上表面外部向下表面中心呈倾斜分布，倾斜角度与衬底夹角γ为60~80度，并且上表面气孔与下表面的气孔在圆周方向上下两气孔圆心角度θ为20~40度。