[发明专利]一种涂层沉积方法

权利要求书

1.一种涂层沉积方法，包括

基体材料前处理和PVD步骤，所述PVD步骤依次包括色彩沉积步骤和氧化步骤；

所述色彩沉积步骤是在前处理后的所述基体材料上沉积色彩涂层；

所述氧化步骤是在所述色彩涂层上沉积氧化物涂层；

其特征在于：在所述色彩沉积步骤中，通过调节反应气体流量控制所述色彩涂层的化学物质的组成和晶相结构，从而控制所述色彩涂层的A值和B值，得到特定色彩的涂层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述色彩涂层为Zr-N-C复合物。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述氧化物涂层为氧化锆。

4.根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于：在所述色彩沉积步骤中，所述反应气体为氮气与甲烷或氮气与乙炔；调节所述氮气流量来控制所述色彩涂层的B值；调节所述甲烷或乙炔流量来控制所述色彩涂层的A值。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：调节所述氮气流量为120-200毫升/分，调节时每次增量为5-10毫升/分，从而控制所述色彩涂层的B值为25-30；调节所述甲烷或乙炔流量为25-75毫升/分，调节时每次增量为5毫升/分，从而控制所述色彩涂层的A值为1.5-3.0。

6.根据权利要求1-5任一所述的方法，其特征在于：所述基体材料前处理具体包括以下步骤：

对所述基体材料表面进行光洁度处理，获得表面光洁度为Ra0.04-Ra0.08的基体材料；

对经过所述光洁度处理后的基体材料依次电镀上镍层和铬层，获得表层覆盖有镍层和铬层的基体材料。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于：获得的所述基体材料的表面光洁度为Ra0.04-Ra0.06。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其特征在于：通过控制所述镍层和铬层的厚度来控制所述涂层的L值，得到特定亮度的涂层。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于：所述镍层的厚度为14 um -18um，所述铬层的厚度大于或者等于0.25um-1um时，所述涂层的L值为76-78。

10.根据权利要求6-9任一所述的方法，其特征在于：所述基体材料为金属基体材料或非金属基体材料。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于：所述光洁度处理具体包括，将所述金属基体材料先进行粗磨清洁，粗磨用砂轮粒度为180#或400#，然后采用布轮清光。

12.根据权利要求10或11所述的方法,其特征在于：所述PVD步骤中，所述金属基体材料的辉光放电电压为400-500伏，最大偏压为400-600伏；所述非金属基体材料的辉光放电电压为350-400伏，最大偏压为250-350伏。

13.一种使用权利要求1－12任一所述方法获得的涂层，其特征在于：所述涂层由上到下依次包括氧化物涂层、色彩涂层、铬层和镍层；所述涂层颜色的L值为76-81，A值为1.5-3.0，B值为25-30。