[发明专利]选择性腐蚀石英晶片的装置

权利要求书

1.选择性腐蚀石英晶片的装置，其特征是：包括由耐腐蚀材料制成的上、下夹板(1、2)，上夹板(1)下端面与下夹板(2)上端面上有相互配合的平面区域，下夹板(2)上端面的平面区域开有数个与晶体方片形成配合的模腔，上、下夹板(1、2)上分别开有与晶体方片上、下端待腐蚀区域相通的腐蚀孔(11、21)，腐蚀孔(11、21)的形状与晶体方片待腐蚀区域形状相同。

2.根据权利要求1所述的选择性腐蚀石英晶片的装置，其特征是：上、下夹板(1、2)的边缘设有与平面区域交错设置的配合面。

3.根据权利要求1所述的选择性腐蚀石英晶片的装置，其特征是：上、下夹板(1、2)的边缘对应位置开有定位孔(4)。

4.根据权利要求1或2或3所述的选择性腐蚀石英晶片的装置，其特征是：上、下夹板(1、2)呈对称设置，上夹板(1)下端面和下夹板(2)上端面的平面区域分别开有上、下模腔（13、23），上、下模腔（13、23）合在一起形成与晶体方片形成配合的整体模腔。