[发明专利]一种深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统有效
| 申请号： | 201210264944.0 | 申请日： | 2012-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN102955371A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 卢亮;张海波;廖志杰;林妩媚;邢廷文;甘大春;何毅 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 成金玉;李新华 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 深紫 光刻 照明 系统 中的 相干 因子 调整 | ||
1.一种深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统，其特征在于包括：
聚光镜组，位于深紫外光刻照明系统的照明光路上，将经扩束整形得到的平行光会聚到匀光棒入射端口附近；
匀光棒，位于所述聚光镜组后的光路上，聚光镜组出射的光经由匀光棒的入射端入射，并由其出射端出射；所述匀光棒有多根，所有匀光棒的出射端口径相同，入射端口径不同；
控制装置，被固定在深紫外光刻照明系统的机械外壳上，用来固定所述多根匀光棒，控制装置有平行于照明系统光轴的旋转轴，控制装置绕此轴旋转即可调整每根匀光棒的位置，使指定的匀光棒置于照明系统光路中参与调节照明系统的相干因子；
中继透镜，位于所述控制装置的出光光路上；
照明场，位于所述中继透镜后的系统光路上。
2.根据权利要求1所述的深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统，其特征在于：所述匀光棒入射端口口径与出射端口口径的比值在1/3到1.333的范围内变化，匀光棒的端面形状为正方形或长方形。
3.根据权利要求1所述的深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统，其特征在于：所述匀光棒的材料是熔石英或者氟化钙。
4.根据权利要求1所述的深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统，其特征在于：所述控制装置由分辨率＞0.0001°，单向重复性＞0.0005°，绝对控制精度达到0.01°的旋转台驱动。
5.根据权利要求1所述的深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统，其特征在于：所述聚光镜组还是变焦镜组。
6.根据权利要求1所述的深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统，其特征在于：所述照明场为掩模面。
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