[发明专利]SiO2/Al双材料复合梁的应力调整工艺有效
| 申请号： | 201210256492.1 | 申请日： | 2012-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN103569944A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 李志刚;尚海平;焦斌斌;卢狄克;孔延梅;刘瑞文;陈大鹏 | 申请（专利权）人： | 昆山光微电子有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 昆山四方专利事务所 32212 | 代理人： | 盛建德 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | sio sub al 材料 复合 应力 调整 工艺 | ||
1.一种SiO2/Al双材料复合梁的应力调整工艺，其特征在于包括以下步骤：
①在一块体硅（1）表面淀积一层SiO2层（2）；
②对上述SiO2层采用离子注入工艺进行P型杂质注入；
③采用炉管退火工艺进行退火；
④采用蒸发或者溅射工艺，在SiO2层表面淀积一层Al膜（3）；
⑤在上述Al膜表面淀积一层非晶硅层（4）；
⑥将上述SiO2层和Al膜形成的复合梁上面的非晶硅层以及下面的体硅采用腐蚀工艺去除；
⑦采用烘箱退火工艺进行退火处理。
2.根据权利要求1所述的SiO2/Al双材料复合梁的应力调整工艺，其特征在于：在所述步骤①中，所述SiO2层厚度为400-600nm。
3.根据权利要求1所述的SiO2/Al双材料复合梁的应力调整工艺，其特征在于：在所述步骤②中，注入的P型杂质为磷，注入能量为14～16 keV，注入剂量为5e13～5e15 cm-2。
4.根据权利要求1所述的SiO2/Al双材料复合梁的应力调整工艺，其特征在于：在所述步骤③中，所述炉管退火温度为600～900℃，时间1～3h。
5.根据权利要求1所述的SiO2/Al双材料复合梁的应力调整工艺，其特征在于：在所述步骤④中，所述Al膜厚度为200～300nm。
6.根据权利要求1所述的SiO2/Al双材料复合梁的应力调整工艺，其特征在于：在所述步骤⑤中，所述非晶硅层的厚度为200～300nm。
7.根据权利要求1所述的SiO2/Al双材料复合梁的应力调整工艺，其特征在于：在所述步骤⑥中，采用XeF2干法腐蚀工艺将复合梁上面的非晶硅层去除，采用湿法腐蚀工艺将复合梁下面的体硅去除。
8.根据权利要求1所述的SiO2/Al双材料复合梁的应力调整工艺，其特征在于：在所述步骤⑦中，所述烘箱退火工艺为从室温开始升温，升至160～180℃，恒温0.5～1h，然后继续升温至280～300℃,恒温0.5～1h，然后再继续升温至340～380℃，恒温1～2h，之后再降温至160～180℃。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山光微电子有限公司，未经昆山光微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210256492.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 一种Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>复相热障涂层材料
- 无铅[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>纳米管及其制备方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一种Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 复合膜及其制备方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 荧光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一种(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制备方法
- 荧光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>复合材料的制备方法
