[发明专利]表面处理膜及其制造方法

权利要求书

1.一种表面处理膜，其特征在于，具有包含透光性树脂与透光性微粒的光扩散层，

将所述光扩散层中的所述透光性微粒的体积填充率设为P、所述光扩散层的层厚设为l时，下述式(1)规定的线填充指数A为4.5以上，其中P以％计，l和A的单位为μm，

A＝l×(P/100)式(1)。

2.根据权利要求1所述的表面处理膜，其中，所述光扩散层的所述透光性微粒的体积填充率为25％以上。

3.根据权利要求1所述的表面处理膜，其中，在所述光扩散层中，所述透光性树脂与所述透光性微粒的折射率之差为0.02～0.05。

4.根据权利要求1所述的表面处理膜，其中，所述透光性微粒包含第1透光性微粒、和重均粒径大于所述第1透光性微粒的第2透光性微粒。

5.根据权利要求4所述的表面处理膜，其中，所述第2透光性微粒与所述第1透光性微粒的重均粒径的比率大于1且为8以下。

6.根据权利要求1所述的表面处理膜，其中，所述光扩散层的层厚为9μm～30μm。

7.制造权利要求1所述的表面处理膜的方法，其特征在于，

所述光扩散层利用下述方法形成，所述方法具有以下工序：

涂布工序，其涂布含有所述透光性树脂和所述透光性微粒的涂布液来形成涂布层；

压缩工序，其把平坦面推抵到所述涂布层的表面而将所述涂布层压缩；和

固化工序，其将所述涂布层固化。