[发明专利]描画数据修正装置及描画装置

说明书

技术领域

本发明涉及描画数据修正装置及描画装置，特别涉及与印刷基板、半导体基板、液晶基板等基板的制造相关的描画数据修正装置及描画装置。

背景技术

以往，众所周知有如下的直接描画装置(直描装置)，该直描装置通过扫描并照射激光等曝光用光，连续对印刷基板、半导体基板、液晶基板等描画对象物(下面，还简称为基板)的局部进行曝光，由此描画所希望的电路图等来形成电路图的装置。

直描装置根据描画数据来描画电路图，该描画数据是基于电路图的设计数据来转换的描画数据，且具有直描装置能够处理的描述形式。其中，在如上述那样的基板中，会产生弯曲、畸变、伴随前工序处理的应变等变形，但一般而言，不考虑这些变形而作成设计数据，因而即使直接利用转换后的描画数据来描画电路图，也会与之前形成的电路图的位置关系之间产生偏差而导致得不到足够的描画品质，因此不能提高成品率。

因此，关于这种直描装置提出了如下技术：进行被称为局部对准(1ocal alignment)的修正处理，并利用修正后的该描画数据来进行描画，被称为局部对准的所述修正处理是指，预先测定作为描画对象的基板的形状，并根据得到的测定结果计算基板的各点的位移，由此修正描画数据本身，使得描画数据本身与该位移相匹配。在日本特开2008-3441号公报(文献1)中，根据特定四角形的四个顶点的位置信息，来计算描画数据的修正量，该特定四角形包围作为对象的描画数据。另外，在日本特开2010-204421号公报(文献2)中，将作为对象的整体描画区域分割成多个小区域，基于对准标记的位置，根据基板的形状来再配置各小区域，由此合成与各小区域相对应的描画内容来生成描画数据。

在文献1、2中记载的技术中，由于只根据对准标记的位置变化而来修正了描画数据，并未考虑描画对象物即要制造的基板的最终使用方式，因而有时在后工序中发生不良或成品率劣化。例如，在利用印刷基板的组合法(Build Up Method)的情况下，若针对因蚀刻及冲压等变形发生要因而发生的应变，对每次描画的数据进行修正，则因该修正的积累而导致有可能使最终形成的图案与安装于该图案上的部件的大小不匹配。或者，在对一个描画对象物描画所谓带有多个面的图案的情况下，若基于整个描画区域的对准标记的位置变化来将该整个描画区域看做一个图案而进行修正，则不能恰当地进行修正，所述带有多个面的图案是指，排列配置有多个尺寸比该描画对象物小的图案的图案。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种描画数据修正装置，该描画数据修正装置基于基板定位标记的位置信息，来对用于在基板上进行描画的图像数据进行修正，根据要制造的基板来选择修正方法，由此能够与后工序及用途等使用方式相适合地对描画数据进行修正。

本发明的描画数据修正装置，基于基板的定位标记的位置信息，对用于在基板上进行描画的图像数据进行修正，该描画数据修正装置的特征在于，具有：图像数据输入接收部，其接收所输入的用于在描画基板上进行描画的图像数据；定位标记位置输入部，其输入基板的定位标记的位置信息；多个数据修正部，这些各数据修正部基于所接收的定位标记的位置信息，利用各不相同的算法修正描画数据；修正方法选择部，其对所述多个数据修正部进行选择使用，来对描画数据进行修正。若使用本发明，根据要制造的基板来选择修正方法，由此能够与后工序及用途等使用方式相适合地对描画数据进行修正。

作为本发明的一个优选方式，还具有信息输入部，该信息输入部输入用于选择修正方法的修正信息；所述修正方法选择部根据由所述信息输入部输入的修正信息来选择数据修正部。

此时，优选所述图像数据输入接收部，从用于作成图像数据的图案作成装置接收所输入的图像数据；所述信息输入部，在向图像数据输入部输入图像数据的同时，输入来自所述图案作成装置的修正信息。

作为本发明的一个优选方式，所述修正方法选择部，根据所接收的描画数据的图像是否含有多个相同的单片图案，来选择数据修正部。作为本发明的另一个优选方式，所述修正方法选择部，根据所接收的描画数据的图像是否整体为单一图案的图像，来选择数据修正部。进而，作为本发明的另一个优选方式，所述修正方法选择部，根据所接收的描画数据的图像是否含有多个相同的单片图案并且还包含其他图案，来选择数据修正部。