[发明专利]识别化学机械研磨设备的研磨性能的方法在审
| 申请号： | 201210030428.1 | 申请日： | 2012-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN102554768A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 李协吉;张泽松;程君;李志国 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/04 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 识别 化学 机械 研磨 设备 性能 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种识别化学机械研磨设备的研磨性能的方法，其特征在于包括：
为研磨垫提供U型细磨垫；
使修整部件仅仅沿固定修整方向在所述U型细磨垫上进行修整；
测试U型缓冲垫的弯曲部分的抗弯强度；以及
根据U型缓冲垫的弯曲部分的抗弯强度判断化学机械研磨设备的研磨性能。
2.根据权利要求1所述的改善研磨平坦度的方法，其特征在于，所述测试U型缓冲垫的弯曲部分的抗弯强度的步骤包括：
在所述U型细磨垫的弯曲部分上放置测量重块，该测量重块W的重量已知；
测量所述U型细磨垫的弯曲部分在沿所述固定修整方向上的长度、以及所述U型细磨垫由于所述测量重块的重量而下压的深度；以及
根据所述长度以及所述深度计算U型缓冲垫的弯曲部分的抗弯强度。
3.根据权利要求1或2所述的改善研磨平坦度的方法，其特征在于，所述U型细磨垫上具有横竖相交的沟槽。
4.一种化学机械研磨方法，其特征在于采用了根据权利要求1至3之一所述的识别化学机械研磨设备的研磨性能的方法。
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