[发明专利]薄膜的制法及共蒸镀用蒸镀材、薄膜、薄膜片及层叠片

权利要求书

1.一种薄膜的制造方法，其特征在于，

使用由第1氧化物构成的升华性蒸镀材和由第2氧化物构成的熔融性蒸镀材，利用通过真空成膜法同时蒸镀的共蒸镀法，在基材上形成由所述第1氧化物和所述第2氧化物构成的氧化物薄膜。

2.如权利要求1所述的薄膜的制造方法，其中，

以所述形成的薄膜的碱度成为0.03以上的方式组合由所述第1氧化物构成的升华性蒸镀材和由所述第2氧化物构成的熔融性蒸镀材。

3.如权利要求1或2所述的薄膜的制造方法，其中，

以所述形成的薄膜的第1氧化物与第2氧化物的摩尔比率成为5～85∶95～15的方式组合由所述第1氧化物构成的升华性蒸镀材和由所述第2氧化物构成的熔融性蒸镀材。

4.如权利要求1所述的薄膜的制造方法，其中，

所述升华性蒸镀材的第1氧化物为选自ZnO、CaO、MgO、SnO₂及CeO₂中的至少1种，所述熔融性蒸镀材的第2氧化物为选自SiO₂、Al₂O₃及TiO₂中的至少1种。

5.如权利要求1所述的薄膜的制造方法，其中，

所述真空成膜法为电子束蒸镀法、离子镀法、反应性等离子体蒸镀法、电阻加热法或感应加热法中的任意一种。

6.如权利要求1所述的薄膜的制造方法，其中，

所述升华性蒸镀材的第1氧化物颗粒的平均粒径及所述熔融性蒸镀材的第2氧化物颗粒的平均粒径分别为0.1～10μm。

7.一种共蒸镀用蒸镀材，其特征在于，

用于权利要求1至6中任一项所述的制造方法，

包括由所述第1氧化物构成的升华性蒸镀材与由所述第2氧化物构成的熔融性蒸镀材的组合。

8.如权利要求7所述的共蒸镀用蒸镀材，其中，

所述升华性蒸镀材的第1氧化物为选自ZnO、CaO、MgO、SnO₂及CeO₂中的至少1种，所述熔融性蒸镀材的第2氧化物为选自SiO₂、Al₂O₃及TiO₂中的至少1种。

9.如权利要求7或8所述的共蒸镀用蒸镀材，其中，

所述升华性蒸镀材的第1氧化物颗粒的平均粒径及所述熔融性蒸镀材的第2氧化物颗粒的平均粒径分别为0.1～10μm。

10.一种氧化物薄膜，其中，

通过权利要求1至6中任一项所述的制造方法得到，

使用由所述第1氧化物构成的升华性蒸镀材和由所述第2氧化物构成的熔融性蒸镀材，利用通过真空成膜法同时蒸镀的共蒸镀法成膜，并由所述第1氧化物及所述第2氧化物构成。

11.一种薄膜片，其中，

通过权利要求1至6中任一项所述的制造方法，在第1基材膜上形成氧化物薄膜而成，所述氧化物薄膜使用由所述第1氧化物构成的升华性蒸镀材和由所述第2氧化物构成的熔融性蒸镀材，利用通过真空成膜法同时蒸镀的共蒸镀法成膜，并由所述第1氧化物及所述第2氧化物构成。

12.如权利要求11所述的薄膜片，其中，

所述真空成膜法为电子束蒸镀法、离子镀法、反应性等离子体蒸镀法、电阻加热法或感应加热法中的任意一种。

13.如权利要求11或12所述的薄膜片，其中，

在温度20℃、相对湿度50％RH的条件下放置1小时时的水蒸气渗透率S为0.3g/m²·天以下。

14.一种层叠片，该层叠片在权利要求11至13中任一项所述的薄膜片的薄膜形成侧，通过粘着层层叠第2基材膜而成。