[实用新型]一种用于离子源的栅网装置有效
申请号: | 201420694914.8 | 申请日: | 2014-11-19 |
公开(公告)号: | CN204289361U | 公开(公告)日: | 2015-04-22 |
发明(设计)人: | 佘鹏程;孙雪平;陈特超;彭立波;张赛;胡凡;陈庆广 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | H01J37/08 | 分类号: | H01J37/08 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 马强 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于离子源的栅网装置,包括加速法兰和抑制法兰;所述加速法兰和抑制法兰内分别安装有加速栅网和抑制栅网;所述加速法兰设置在所述抑制法兰上方,且所述加速法兰通过连接杆与所述抑制法兰连接成一体结构;所述加速栅网的网格与所述抑制栅网的网格一一对应;所述抑制法兰圆周部分开设有用于将所述抑制法兰安装于离子源放电室上的安装孔。本实用新型可提高离子源装配一致性,从而提高离子源性能重复性和稳定性,最终能获得稳定的离子束刻蚀工艺。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 离子源 装置 | ||
【主权项】:
一种用于离子源的栅网装置,包括加速法兰(1)和抑制法兰(3);所述加速法兰(1)和抑制法兰(3)内分别安装有加速栅网(2)和抑制栅网(4);其特征在于,所述加速法兰(1)设置在所述抑制法兰(3)上方,且所述加速法兰(1)通过连接杆(5)与所述抑制法兰(3)连接成一体结构;所述加速栅网(2)的网格与所述抑制栅网(4)的网格一一对应;所述抑制法兰(4)圆周部分开设有用于将所述抑制法兰(4)安装于离子源放电室上的安装孔(13)。
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