[实用新型]一种用于离子源的栅网装置有效

专利信息
申请号: 201420694914.8 申请日: 2014-11-19
公开(公告)号: CN204289361U 公开(公告)日: 2015-04-22
发明(设计)人: 佘鹏程;孙雪平;陈特超;彭立波;张赛;胡凡;陈庆广 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
主分类号: H01J37/08 分类号: H01J37/08
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 马强
地址: 410111 湖南*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种用于离子源的栅网装置,包括加速法兰和抑制法兰;所述加速法兰和抑制法兰内分别安装有加速栅网和抑制栅网;所述加速法兰设置在所述抑制法兰上方,且所述加速法兰通过连接杆与所述抑制法兰连接成一体结构;所述加速栅网的网格与所述抑制栅网的网格一一对应;所述抑制法兰圆周部分开设有用于将所述抑制法兰安装于离子源放电室上的安装孔。本实用新型可提高离子源装配一致性,从而提高离子源性能重复性和稳定性,最终能获得稳定的离子束刻蚀工艺。
搜索关键词: 一种 用于 离子源 装置
【主权项】:
一种用于离子源的栅网装置,包括加速法兰(1)和抑制法兰(3);所述加速法兰(1)和抑制法兰(3)内分别安装有加速栅网(2)和抑制栅网(4);其特征在于,所述加速法兰(1)设置在所述抑制法兰(3)上方,且所述加速法兰(1)通过连接杆(5)与所述抑制法兰(3)连接成一体结构;所述加速栅网(2)的网格与所述抑制栅网(4)的网格一一对应;所述抑制法兰(4)圆周部分开设有用于将所述抑制法兰(4)安装于离子源放电室上的安装孔(13)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第四十八研究所,未经中国电子科技集团公司第四十八研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420694914.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top