[发明专利]一种用于原子层沉积设备的气体分配器有效
申请号: | 201210002317.X | 申请日: | 2012-01-05 |
公开(公告)号: | CN103194737A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 张艳清;夏洋;李超波;万军;吕树玲;陈波;石莎莉;李楠 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 原子 沉积 设备 气体 分配器 | ||
1.一种用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述气体分配器设置在原子层沉积设备的反应腔室内,位于所述反应腔室内基片台的上方;所述气体分配器为环型或U型的气路管道,所述气路管道上设有一个进气口和若干个出气口;所述进气口与所述反应腔室的进气管道相连通,所述出气口均匀分布在所述气路管道的内外两侧,所述出气口的出气方向与垂直方向形成倾斜角度。
2.如权利要求1所述的用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述气路管道的横截面为圆形或多边形。
3.如权利要求1所述的用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述出气口包括内排出气孔和外排出气孔,分别均匀设置在所述气路管道的内侧和外侧。
4.如权利要求3所述的用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述出气口的个数为偶数个,所述内排出气孔和外排出气孔交错排列。
5.如权利要求1所述的用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述出气口的孔径为1mm-1.5mm。
6.如权利要求1所述的用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述出气口的面积总和小于所述进气口的面积。
7.如权利要求1所述的用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述出气口的出气方向与垂直方向呈30度角倾斜。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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