[发明专利]一种用于原子层沉积设备的气体分配器有效

专利信息
申请号: 201210002317.X 申请日: 2012-01-05
公开(公告)号: CN103194737A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 张艳清;夏洋;李超波;万军;吕树玲;陈波;石莎莉;李楠 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 原子 沉积 设备 气体 分配器
【权利要求书】:

1.一种用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述气体分配器设置在原子层沉积设备的反应腔室内,位于所述反应腔室内基片台的上方;所述气体分配器为环型或U型的气路管道,所述气路管道上设有一个进气口和若干个出气口;所述进气口与所述反应腔室的进气管道相连通,所述出气口均匀分布在所述气路管道的内外两侧,所述出气口的出气方向与垂直方向形成倾斜角度。

2.如权利要求1所述的用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述气路管道的横截面为圆形或多边形。

3.如权利要求1所述的用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述出气口包括内排出气孔和外排出气孔,分别均匀设置在所述气路管道的内侧和外侧。

4.如权利要求3所述的用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述出气口的个数为偶数个,所述内排出气孔和外排出气孔交错排列。

5.如权利要求1所述的用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述出气口的孔径为1mm-1.5mm。

6.如权利要求1所述的用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述出气口的面积总和小于所述进气口的面积。

7.如权利要求1所述的用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述出气口的出气方向与垂直方向呈30度角倾斜。

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