[发明专利]用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔

说明书

技术领域

本发明涉及半导体领域，尤其涉及一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔。

背景技术

半导体厂房等洁净室的工艺排气系统所排放的气体通常呈酸碱性，如果直接排放到环境中会产生污染，因此，会采用洗涤塔对该酸碱性排气进行处理。酸碱性排气经过洗涤塔时与其内的洗涤剂发生化学反应，以去除所包含的酸碱性成分。

洗涤塔内洗涤剂液位的补水和排水等均由液位计联动控制。大部分厂房的洗涤塔均安装在室外，长期运行后，洗涤塔内的洗涤剂中会存在大量杂物。此外，为了增大洗涤塔的处理效率，洗涤塔内通常会设置有填料，填料在长期工作后会发生脆化破碎的现象。上述杂物和填料的破碎物等如果进入液位计并且未及时处理的话，可能会造成液位计浮球卡住，而导致液位计无法正确地反应洗涤塔内洗涤剂的液位。其后果是，如果液位过低而不能及时补水，则会严重影响洗涤塔的洗涤效果，进而对环境造成不利的影响。

因此，需要一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔以解决上述问题。

发明内容

为了克服上述现有技术的不足，本发明提供了一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，所述洗涤塔包括： 

循环洗涤剂箱，所述循环洗涤剂箱的中部设置有多孔的隔板，所述隔板下方的所述循环洗涤剂箱用于收集洗涤剂，所述隔板上设置有用于增大所述酸碱性排气与所述洗涤剂的接触面积的填料；

循环泵和循环管路，所述循环泵通过所述循环管路与所述循环洗涤剂箱连接，用于驱动所述洗涤剂循环流动；以及

液位计，所述液位计设置在所述循环洗涤剂箱的下部，并通过连接装置与所述循环洗涤剂箱连接，所述连接装置上设置有过滤装置。

优选地，所述连接装置包括设置在所述液位计的入口管上的第一法兰环、设置在所述循环洗涤剂箱的出口管上的第二法兰环以及用于连接所述第一法兰环和所述第二法兰环的连接件。

优选地，所述过滤装置设置在所述第一法兰环和所述第二法兰环之间。

优选地，所述过滤装置为过滤网。

优选地，所述过滤网是由非金属材料制成的。

优选地，所述过滤网是由无纺布编织材料制成的。

优选地，所述填料为特拉瑞德环结构的填料。

优选地，所述循环管路在所述循环洗涤剂箱内的入口设置在所述洗涤剂循环箱的顶部，且所述循环管路的入口处设置有喷嘴。

优选地，所述循环洗涤剂箱的前端和后端分别设置有气体入口和气体出口，以使所述酸碱性排气从所述气体入口进入经由所述填料并从所述气体出口排出。

根据本发明的用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔不但能够有效地防止杂物和填料的破碎物等进入液位计而将其损坏，进而避免由于洗涤塔内液位过低而影响洗涤塔的洗涤效果，还具有结构简单、对半导体厂房的酸碱性排气处理效果优异等优点。

在发明内容部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本发明内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。

以下结合附图，详细说明本发明的优点和特征。

附图说明

本发明的下列附图在此作为本发明的一部分用于理解本发明。附图中示出了本发明的实施例及其描述，用来解释本发明的原理。在附图中，

图1是根据本发明一个实施方式的用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔的示意图；以及

图2是图1中区域A的放大视图。

具体实施方式

在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本发明更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员来说显而易见的是，本发明可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本发明发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。

为了彻底了解本发明，将在下列的描述中提出详细的结构。显然，本发明的施行并不限定于本领域的技术人员所熟习的特殊细节。本发明的较佳实施例详细描述如下，然而除了这些详细描述外，本发明还可以具有其他实施方式。

图1是根据本发明一个实施方式的用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔的示意图。下面将结合图1对根据本发明的用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔（以下简称洗涤塔）进行详细描述。如图1所示，洗涤塔100包括循环洗涤剂箱110、循环泵120、循环管路130和液位计140。