[发明专利]掩膜框架组件、其制造方法及制造有机发光显示器的方法

权利要求书

1.一种掩膜框架组件包括：

框架；以及

安装在所述框架上同时在第一方向上被拉伸的掩膜，其中所述掩膜包括：

包括多个沉积图案部分的沉积区域；

形成为具有厚度大于所述沉积区域的厚度并且包括在所述沉积区域的两侧上沿所述第一方向延伸的第一边缘和第二边缘的边缘单元；以及

均被形成为具有厚度大于所述沉积区域的厚度、形成在相邻的沉积图案部分之间并且在第二方向上延伸的两个或更多个肋，其中所述第二方向垂直于所述第一方向。

2.根据权利要求1所述的掩膜框架组件，进一步包括设置于所述肋之间的伪沉积图案部分。

3.根据权利要求2所述的掩膜框架组件，其中所述伪沉积图案部分的图案与所述多个沉积图案部分中每一个沉积图案部分的图案相同。

4.根据权利要求2所述的掩膜框架组件，进一步包括用于覆盖与所述伪沉积图案部分相对应的区域的覆盖掩膜。

5.根据权利要求2所述的掩膜框架组件，其中所述伪沉积图案部分的宽度小于所述多个沉积图案部分中每一个沉积图案部分的宽度。

6.根据权利要求1所述的掩膜框架组件，其中所述边缘单元的厚度与所述两个或更多个肋中每一个肋的厚度相同。

7.根据权利要求1所述的掩膜框架组件，其中所述边缘单元和所述肋相互连接。

8.根据权利要求1所述的掩膜框架组件，其中所述掩膜包括安装在所述框架上的多个分割的掩膜，

其中所述第一方向是所述多个分割的掩膜中每一个的长度方向，并且所述第二方向是所述多个分割的掩膜中每一个的宽度方向。

9.一种制造掩膜框架组件的方法，所述方法包括：

制备框架；

制备掩膜，所述掩膜包括：包括多个沉积图案部分的沉积区域，形成为具有厚度大于所述沉积区域的厚度并且包括在所述沉积区域的两侧上沿第一方向延伸的第一边缘和第二边缘的边缘单元，以及形成为具有厚度大于所述沉积区域的厚度、形成在相邻的沉积图案部分之间并且在第二方向上延伸的两个或更多个肋，其中所述第二方向垂直于所述第一方向；以及

通过在所述第一方向上拉伸所述掩膜的两端将所述掩膜安装到所述框架上。

10.根据权利要求9所述的制造掩膜框架组件的方法，其中所述掩膜通过电铸而制备。

11.根据权利要求9所述的制造掩膜框架组件的方法，其中所述掩膜框架组件进一步包括形成于所述肋之间的伪沉积图案部分。

12.根据权利要求11所述的制造掩膜框架组件的方法，其中所述伪沉积图案部分的图案与所述多个沉积图案部分中每一个沉积图案部分的图案相同。

13.根据权利要求11所述的制造掩膜框架组件的方法，进一步包括制备用于覆盖与所述伪沉积图案部分相对应的区域的覆盖掩膜，以及安装所述覆盖掩膜以覆盖所述伪沉积图案部分。

14.根据权利要求9所述的制造掩膜框架组件的方法，其中所述掩膜和所述框架通过激光焊接来相互焊接。

15.根据权利要求9所述的制造掩膜框架组件的方法，其中所述掩膜包括多个分割的掩膜，所述多个分割的掩膜通过在所述第一方向上拉伸所述多个分割的掩膜的两端而安装在所述框架上，

其中所述第一方向是所述多个分割的掩膜中每一个的长度方向，并且所述第二方向是所述多个分割的掩膜中每一个的宽度方向。

16.一种制造有机发光显示器的方法，所述有机发光显示器包括基板、相互面对地设置在基板上的第一电极和第二电极以及设置在所述第一电极和所述第二电极之间的有机膜，

其中所述有机膜或者所述第二电极通过使用包括框架和安装在所述框架上同时在第一方向上被拉伸的掩膜的掩膜框架组件而沉积，

其中所述掩膜包括：

包括多个沉积图案部分的沉积区域；

形成为具有厚度大于所述沉积区域的厚度并且包括在所述沉积区域的两侧上沿所述第一方向延伸的第一边缘和第二边缘的边缘单元；以及

形成为具有厚度大于所述沉积区域的厚度、形成在相邻的沉积图案部分之间并且在第二方向上延伸的两个或更多个肋，其中所述第二方向垂直于所述第一方向。