[发明专利]一种彩膜基板及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器技术领域，特别涉及一种彩膜基板及其制作方法。

背景技术

TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器)是目前平面显示器的主流，其具有功耗低、成本相对较低以及基本无辐射等优点。TFT-LCD面板由彩膜基板和阵列基板对盒而成，并且通过隔垫物来维持液晶盒的厚度。

如图1所示，为现有技术彩膜基板结构的侧视图。该彩膜基板包括玻璃基板10、黑矩阵11、像素层、光刻隔垫物15和保护层16。现有的彩膜基板中的光刻隔垫物15的制作方法通常采用在玻璃基板10上首先形成黑矩阵11，然后在形成黑矩阵11的玻璃基板10上依次形成红色像素层12、绿色像素层13、蓝色像素层14和保护层16，待完成上述工艺步骤之后，需要额外增加一道掩模版重新进行清洗、涂胶、固化、光刻、显影等一系列工艺流程才形成光刻隔垫物15，并且该额外形成的光刻隔垫物只有一层，其层数和弹性参数比较固定。由于现有技术中的隔垫物需要额外使用一道掩模版对其进行相应的工艺流程才能形成，导致隔垫物的制作流程方法比较复杂，并且增加了液晶显示器的生产成本。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是提供一种彩膜基板及其制作方法，以克服需要额外增加一道掩模版单独进行工艺制作而带来的制作工艺复杂、制作成本高的问题。

(二)技术方案

为了解决上述问题，本发明一方面提供一种彩膜基板，包括：基板、在所述基板上形成的黑矩阵、位于基板上方的彩色像素层，所述彩色像素层包括第一彩色像素层、第二彩色像素层、第三彩色像素层和隔垫物，其特征在于，所述隔垫物包括两个或两个以上的隔垫层，每个隔垫层与一种所述彩色像素层的材料相同。

进一步地，所述隔垫物设置在所述黑矩阵的上方。

进一步地，与黑矩阵相接触的隔垫层与相邻的彩色像素层相连接。

进一步地，所述隔垫物位于黑矩阵的中部。

进一步地，所述隔垫物厚度为2.0～4.0μm。

进一步地，还包括保护层，覆盖于第一彩色像素层、第二彩色像素层、第三彩色像素层和隔垫物上。

进一步地，所述保护层的厚度为2.0-3.0μm。

另一方面，本发明还提供一种上述彩膜基板的制作方法，包括如下步骤：

步骤S1、在基板上形成黑矩阵图形；

步骤S2、在完成步骤S1的基板上形成第一彩色像素层、第二彩色像素层、第三彩色像素层和隔垫物的隔垫层，而且隔垫物的各隔垫层是与相应颜色的彩色像素层同时形成。

进一步地，在完成步骤S2的基板上涂布保护层，并对其进行固化。

(三)有益效果

本发明提供的彩膜基板及其制作方法，所述隔垫物包括两个或两个以上的隔垫层，每个隔垫层与一种所述彩色像素层的材料相同，可与彩色像素层同时形成，因而可最大程度地减少使用掩模版的次数，具有制作工艺简单，制作成本较低等优点。

附图说明

图1为现有技术彩膜基板结构侧视图；

图2为本发明实施例彩膜基板侧视图；

图3为本发明实施例彩膜基板俯视图；

图4为本发明实施例彩膜基板制作方法的流程图。

其中：10、玻璃基板；11、黑矩阵；12、红色像素层；13、绿色像素层；14、蓝色像素层；15、光刻隔垫物；16、保护层；17、红色像素隔垫层；18、绿色像素隔垫层；19、蓝色像素隔垫层。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

如图2-3所示，本发明实施例提供的彩膜基板，包括：玻璃基板10、在玻璃基板10上形成的黑矩阵11和位于基板上方的彩色像素层，该彩色像素层包括红色像素层12、绿色像素层13和蓝色像素层14，还包括，保护层16和隔垫物，该保护层位于彩膜基板的顶层；隔垫物位于黑矩阵11和保护层16之间。其中，隔垫物包括两个或两个以上的隔垫层，每个隔垫层与一种所述彩色像素层的材料相同。