[发明专利]2,4-二取代噻唑类衍生物作为DHODH抑制剂的应用

权利要求书

1.下列通式I所示的2，4-二取代噻唑类化合物，其对映异构体、非对映异构体、外消旋体、顺反异构体及其组合、其药学上可接受的盐、前药或溶剂化合物在制备治疗或预防DHODH介导的疾病用的药物中的用途：

其中，

A为芳香基、5或6元芳杂环或3-8元环烷烃；

R⁰为NHCOR³或N＝CR⁴R⁵；

各R¹独立选自：氢、C₁-C₃烷基、卤素、氰基、硝基、羟基、羟基C₁-C₃烷基、C₁-C₄烷氧基、C₁-C₄不饱和烃氧基、羧基、酯基、卤代C₁-C₃烷基、卤代C₁-C₃烷氧基、磺酰基、巯基；

n为0-5的整数；

R²为氢、C₁-C₃烷基、卤素、羟基、氨基、C₁-C₄烷氧基；

R³选自：氢，C₁-C₆的直链或支链的、饱和或不饱和烃基，C₃-C₇的饱和或不饱和环烷烃基，卤素，羟基C₁-C₃烷基，C₁-C₄烷氧基，任选取代的3-7元杂环基和任选取代的芳香基，其中，所述C₁-C₆的直链或支链的、饱和或不饱和烃基任选含有一个或多个选自卤素、氰基、硝基、氨基、羟基、羟基C₁-C₃烷基、卤代C₁-C₃烷基、卤代C₁-C₃烷氧基、羧基、C₁-C₄烷氧基、巯基和C₁-C₄酰基中的取代基，并且链中可含有一个或多个选自O和S的杂原子；

R⁴和R⁵相同或不同，各独立地选自：氢、C₁-C₃烷基、卤素、C₃-C₇的饱和或不饱和环烷烃基、任选取代的3-7元杂环基和任选取代的芳香基，或者R³和R⁴与它们所连接的碳形成环，该环可被选自卤素、氰基、硝基、氨基、羟基、羟基C₁-C₃烷基、卤代C₁-C₃烷基、卤代C₁-C₃烷氧基、羧基、C₁-C₄烷氧基、巯基和C₁-C₄酰基中的一种或多种取代基取代并且其可包含一个或多个杂原子。

2.如权利要求1所示的2，4-二取代噻唑类化合物，其对映异构体、非对映异构体、外消旋体、顺反异构体及其组合、其药学上可接受的盐、前药或溶剂化合物在制备抑制DHODH活性用的药物中的用途。

3.如权利要求1所述的用途，其特征在于，所述疾病选自炎症反应、癌症和由于同种或异种器官移植引起的宿主排斥反应。

4.如权利要求3所述的用途，其特征在于，所述疾病选自类风湿性关节炎、结肠炎、红斑狼疮、继发性和原发性肾小球疾病、抗器官移植物排异反应和黑色素瘤。