[发明专利]一种谷子大豆栽培方法无效

专利信息
申请号: 201110291946.4 申请日: 2011-09-30
公开(公告)号: CN103026871A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 邢春莺 申请(专利权)人: 邢春莺
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 太原同圆知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14107 代理人: 王金锁
地址: 036002 山西省*** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: 一种 谷子 大豆 栽培 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于农业种植管理技术领域,特别涉及一种谷子大豆栽培方法。

背景技术

谷子和大豆均是我国北方旱作地区的主要种植作物。近年来,谷子和大豆由于受到大宗粮饲作物的冲击,种植面积逐年缩小,又因其单位面积产量低而不稳,因此市场缺口较大,价格不断攀升。为保证粮食安全和市场稳定,选育良种成为目前提高谷豆产量的主要手段。但是,由于自然条件的不确定性,同时缺乏深入的基础生理研究,没有形成高产、高效的谷豆作物种植技术。新品种结合常规的单一露地平播种植模式并不能发挥明显增产效果,谷豆作物产量并没有实质性突破,与其他大宗粮食作物相比没有效益优势,种植户积极性较低。因此,在保证大宗粮食作物的供给和充分利用旱区有限的土地面积等自然因素的前提下,创新谷豆种植技术势在必行。 

发明内容

针对现有常规种植技术存在的不足,本发明目的是提供一种应用于谷子、大豆的高产高效种植技术。该技术将谷豆条带种植技术、谷子覆膜穴播栽培技术、大豆膜际条播栽培技术进一步研究集成,形成谷子大豆覆膜条带种植技术模式,可显著提高单位面积土地谷子和大豆的产量及效益。

本发明采用的技术解决方案如下:

一种谷子大豆栽培方法,集成谷豆条带种植技术、谷子覆膜穴播栽培技术和大豆膜际条播栽培技术,形成一种新的高产高效种植模式,基本方法是在覆膜穴播谷子带间种植大豆。

其增产增效机理是:谷豆条带种植能改变田间小气候,从而引起谷子体内一系列生理变化,有利于光合作用和蒸腾作用的进行,提高了谷子植株对光能和水分的利用率;增加了体内干物质积累量,加速了物质向穗部运转。覆膜穴播和膜际条播均能程度不同地改善土壤物理性能,提高耕层土壤含水量和土壤温度,创造更适合谷子、大豆生育的土壤环境,从而促进谷子、大豆的生长发育,提高成苗率、成株(穗)率和成粒数。

    具体实施方式

一种谷子大豆栽培方法,集成谷豆条带种植技术、谷子覆膜穴播栽培技术和大豆膜际条播栽培技术,形成一种新的高产高效种植模式,基本方法是在覆膜穴播谷子带间种植大豆。

种植比例及方法。

谷豆覆膜条带种植模式,带宽0.9m,其中谷子带45cm、大豆带45cm。谷子带采用覆膜穴播法,即先整地铺膜,选用幅宽为40cm,厚0.002~0.004mm的强力超微膜,覆膜时不起垄,平铺地面,膜面30cm,膜间距15cm,膜上种谷子5行,用覆膜穴播机播种,穴距平均6cm,每穴播种2~5粒,播后及时堵膜孔。大豆带种植5行,行距15cm,用三行播种机一次完成。

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