[发明专利]湿浸式光刻系统无效
| 申请号： | 201110291288.9 | 申请日： | 2006-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN102331686A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 张庆裕;林本坚 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 姜燕;邢雪红 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 湿浸式 光刻 系统 | ||
1.一种湿浸式光刻系统，包括：
湿浸液体密封反应器，包括多个表面；
湿浸液体，放置在该湿浸液体密封反应器内；
衬底夹片台，放置在该湿浸液体密封反应器内；
镜头；以及
降低污染附着的涂层，涂布在所述衬底夹片台及镜头的多个表面的一个或多个表面上，使所述衬底夹片台及镜头的所有涂层表面均为疏水性，其中所述降低污染附着的涂层包含聚乙烯、聚氯乙烯或前述的组合。
2.如权利要求1所述的湿浸式光刻系统，还包括在湿浸液体密封反应器的多个表面上涂布所述降低污染附着的涂层。
3.如权利要求1所述的湿浸式光刻系统，还包括在湿浸液体密封反应器的多个表面上涂布二氧化硅涂层。
4.如权利要求1所述的湿浸式光刻系统，其中所述降低污染附着的涂层设置成具有大于50°的接触角。
5.如权利要求1所述的湿浸式光刻系统，其中涂布在所述衬底夹片台的一个或多个表面上的降低污染附着的涂层与涂布在镜头上的一个或多个表面上的降低污染附着的涂层具有不同的厚度。
6.一种湿浸式光刻系统，包括：
湿浸液体密封反应器，包括多个表面；
湿浸液体，放置在该湿浸液体密封反应器内；
衬底夹片台，放置在该湿浸液体密封反应器内；
镜头；以及
降低污染附着的涂层，涂布在所述衬底夹片台及镜头的多个表面的一个或多个表面上，使所述衬底夹片台及镜头的所有涂层表面均为親水性，其中所述降低污染附着的涂层包含二氧化硅。
7.如权利要求6所述的湿浸式光刻系统，还包括在湿浸液体密封反应器的多个表面上涂布所述降低污染附着的涂层。
8.如权利要求6所述的湿浸式光刻系统，还包括在湿浸液体密封反应器的多个表面上涂布由聚乙烯、聚氯乙烯或前述的组合所組成的塗層。
9.如权利要求6所述的湿浸式光刻系统，其中所述降低污染附着的涂层设置成具有大于50°的接触角。
10.如权利要求6所述的湿浸式光刻系统，其中涂布在所述衬底夹片台的一个或多个表面上的降低污染附着的涂层与涂布在镜头上的一个或多个表面上的降低污染附着的涂层具有不同的厚度。
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