[发明专利]基板处理设备以及磁记录介质制造方法

权利要求书

1.一种基板处理设备，其能够向包括开口的基板照射离子束以进行预定处理，所述基板处理设备包括：

第一离子束产生器，其包括用于提取等离子体中的离子的第一提取机构；以及

第二离子束产生器，其包括用于提取等离子体中的离子的第二提取机构，所述第二离子束产生器被布置成与所述第一离子束产生器相对，其中

所述第一离子束产生器和所述第二离子束产生器均被布置成向所述第一离子束产生器和所述第二离子束产生器之间的区域照射离子束；

所述第一提取机构包括第一栅格，并且所述第二提取机构包括第二栅格；以及

所述第一栅格和所述第二栅格被布置成相互不对称。

2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其特征在于，至少所述第一栅格的中心区域和所述第二栅格的中心区域被配置成相互不对称。

3.根据权利要求1所述的基板处理设备，其特征在于，所述第一栅格和所述第二栅格至少之一包括用于转动该栅格的栅格转动机构。

4.一种使用根据权利要求1所述的基板处理设备来制造磁记录介质的方法，所述方法包括如下步骤：

将保持有包括开口的基板的基板承载器布置在所述第一离子束产生器和所述第二离子束产生器之间的区域中；以及

通过所述第一离子束产生器向所述基板的一个待处理表面照射离子束，并且通过所述第二离子束产生器向所述基板的另一个待处理表面照射离子束。