|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 342906个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]真平方正射影像制作方法-CN201911038995.X有效
-
周国清;潘秋雨;岳涛
-
桂林理工大学
-
2019-10-29
-
2023-08-11
-
G06T17/00
- 真平方正射影像(True Square Orthophoto Map‑T2OM)是在真正射影像(True Orthophoto Map‑TOM)的基础上增加三维可量测信息(x,y,z)和墙面纹理信息。因此，它不仅提供真正射影像所具有的二维几何位置(x,y)和地表灰度信息，而且提供三维几何位置(x,y,z)和墙面纹理信息。T2OM的制作方法，包括了步骤(1)T2OM的数据结构设计；步骤(2)T2OM的数据获取与存储；步骤(3)建筑物T2OM的空间索引创建；步骤(4)建筑物三维建模及编辑。
- 平方射影制作方法
- [发明专利]一种监控蚀刻的工艺方法及系统-CN201910250405.3有效
-
郭文海
-
福建省福联集成电路有限公司
-
2019-03-29
-
2020-12-22
-
H01L21/67
- 本发明涉及一种监控蚀刻的工艺方法及系统，所述方法包括以下步骤：将待检视晶圆通过传送模组传送至定位模组；通过定位模组对待检视晶圆进行notch角定位后，再将待检视晶圆经过传送模组传送至OM检视模组载台上；通过第一OM检视模组扫描待检视晶圆的X轴及Y轴，生成晶圆MAP图；PC端数据处理中心将收到的晶圆MAP图的坐标与OM检视模组的载台上的待检测晶圆同步，定位模组根据给定坐标将待检视晶圆定位至与标准图片上PCM区监测Model相对应的位置；通过第二OM检视模组对待检视晶圆进行拍照晶圆图片并保存晶圆图片；PC端数据处理中心将接收到的晶圆图片与标准图片进行比对，输出比对结果。
- 一种监控蚀刻工艺方法系统
|
