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[发明专利] 透过型液晶显示装置 -CN200610164161.X 有效
发明人：
矢野周治
- 专利权人：
日东电工株式会社
申请日：
2003-09-29
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公布日：
2007-05-16
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主分类号：
G02F1/1335 文献下载
摘要： 本发明的液晶显示装置用光学薄膜，是以使偏振片的吸收轴和相位差薄膜的滞相轴垂直或平行的方式进行层叠的，其特征在于，所述偏振片是在偏振镜的两面上层叠透明保护薄膜，该透明保护薄膜的面内相位差Re1 ＝(nx1－ny 1 )×d1 ，为10nm以下，且厚度方向相位差Rth＝{(nx1 +ny 1 )/2－nz1 }×d1 ，为30～100nm；所述相位差薄膜的用Nz＝(nx2 －nz2 )/(nx2 －ny 2 )表示的Nz值满足0.1～0.8，且面内相位差Re2 ＝(nx2 －ny 2 x)×d2 ，为60～300nm以下。透过 液晶 显示装置
[发明专利] 用于烘焙咖啡豆的设备和方法 -CN201980085213.X 有效
发明人：
F·迪比耶夫 ;N·比格勒 ;S·切卡罗利
- 专利权人：
雀巢产品有限公司
申请日：
2019-12-19
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公布日：
2023-07-25
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主分类号：
A23N12/08 文献下载
摘要： 所述容器用以容纳咖啡豆，‑加热装置(12)，所述加热装置用以加热容纳在所述容器中的咖啡豆，‑控制系统(180)，所述控制系统可操作以控制所述加热装置并且被配置成应用烘焙配方(R)，其中对于引入所述容器内的定制的量m的Ny 类型的咖啡豆，‑所述控制系统被配置成至少获得引入所述容器内的咖啡豆的所述量m和引入所述容器内的咖啡豆的所述类型Ny ，并且‑所述控制系统被配置成基于所获得的类型Ny ，至少访问烘焙配方Ry和预先确定量M，其中所述配方适于烘焙预先确定量M的Ni类型咖啡豆，并且‑所述控制系统被配置成基于可访问的烘焙配方Ry并且基于所获得的引入所述容器内的咖啡豆的量m，确定要应用于引入所述容器内的所述量m的Ny 类型咖啡豆的所述烘焙配方(R)。用于 烘焙 咖啡豆 设备 方法
[发明专利] 光学补偿膜 -CN201410053626.9 有效
发明人：
村上奈穗 ;河崎元子 ;吉见裕之
- 专利权人：
日东电工株式会社
申请日：
2011-04-07
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公布日：
2014-05-07
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主分类号：
G02B5/30 文献下载
摘要： 根据本发明实施例的光学补偿膜包括：以倾斜配向方式设置的非液晶聚合物，其中所述光学补偿膜满足以下表达式（1）和（2）：（1）3[nm]<（nx-ny ）×d；以及（2）5°<β，其中，在作为三维坐标系的平面方向轴的X-轴和Y-轴彼此垂直并且将在厚度方向上与所述X-轴和所述Y-轴垂直的轴定义为Z-轴时，nx和ny 分别表示在所述光学补偿膜的XY-平面中的最大折射率和最小折射率，d表示膜厚度[nm]，并且β表示在用于提供所述最小折射率ny 的方向与在所述光学补偿膜的YZ-平面中用于提供最大折射率nb的方向之间形成的角度。光学 补偿
[发明专利] 光学补偿膜 -CN201110094663.0 有效
发明人：
村上奈穗 ;河崎元子 ;吉见裕之
- 专利权人：
日东电工株式会社
申请日：
2011-04-07
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公布日：
2011-10-12
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主分类号：
G02B5/30 文献下载
摘要： 根据本发明实施例的光学补偿膜包括：以倾斜配向方式设置的非液晶聚合物，其中所述光学补偿膜满足以下表达式(1)和(2)：(1)3[nm]≤(nx-ny )×d；以及(2)5°＜β，其中，在作为三维坐标系的平面方向轴的X-轴和Y-轴彼此垂直并且将在厚度方向上与所述X-轴和所述Y-轴垂直的轴定义为Z-轴时，nx和ny 分别表示在所述光学补偿膜的XY-平面中的最大折射率和最小折射率，d表示膜厚度[nm]，并且β表示在用于提供所述最小折射率ny 的方向与在所述光学补偿膜的YZ-平面中用于提供最大折射率nb的方向之间形成的角度。光学 补偿
