专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]样品传送系统-CN202122458253.1有效
  • 王新;陶章峰 - 材料科学姑苏实验室;埃特曼(苏州)半导体技术有限公司
  • 2021-10-12 - 2022-01-25 - C30B35/00
  • 本实用新型公开了一种样品传送系统,包括样品传递室、MOCVD托盘通道、MBE托盘通道及自动输送通道,MOCVD托盘通道用于将MOCVD托盘或承载有样品的MOCVD托盘输送给样品传递室;MBE托盘通道用于将MBE托盘或承载有样品的MBE托盘输送给样品传递室;自动输送通道用于将样品传递室内MOCVD托盘上的样品转移到MBE托盘上,或将样品传递室内的MBE托盘上的样品转移到MOCVD托盘上,并将完成样品转移后的MOCVD托盘输送给MOCVD托盘通道或将完成样品转移后的MBE托盘输送给MBE托盘通道;MBE托盘通道还用于将承载有样品的MBE托盘输送给MBE系统,MOCVD托盘通道还用于将承载有样品的MOCVD托盘输送给
  • 样品传送系统
  • [发明专利]真空互联系统及其自动传输方法-CN202111189908.8在审
  • 王新;陶章峰 - 材料科学姑苏实验室;埃特曼(苏州)半导体技术有限公司
  • 2021-10-12 - 2022-03-01 - C30B25/02
  • 本发明公开了一种真空互联系统及其自动传输方法,真空互联系统包括样品传递室、MOCVD托盘通道、MBE托盘通道及自动输送通道,MOCVD托盘通道与样品传递室相连,用于将MOCVD系统的承载有样品的MOCVD托盘输送给样品传递室;MBE托盘通道与样品传递室相连,用于将MBE托盘输送给样品传递室;自动输送通道与样品传递室相连,用于将样品传递室内MOCVD托盘上的样品转移到MBE托盘上,并将承载有样品的MBE托盘输送给MBE托盘通道;MBE托盘通道还用于将承载有样品的MBE托盘输送给MBE系统。本发明实现了MOCVD系统和MBE系统的直接互联,且实现样品在高温、真空环境条件下的自动化传输。
  • 真空联系及其自动传输方法
  • [发明专利]一种集成MBE装置的激光加工系统-CN202310611288.5在审
  • 刘胜;东芳;甘志银;沈桥;雷诚;翁跃云;芦相宇;刘剑辉;周易岗 - 武汉大学
  • 2023-05-29 - 2023-08-18 - C30B25/02
  • 本发明提出了一种集成MBE装置的激光加工系统,包括MBE生长室、样品台、光路机构、隔热机构和冷却机构,MBE生长室的一侧设有开口;样品台固定在MBE生长室的内部,且与开口的位置相对应,样品台用于放置衬底样品材料;光路机构相对设置于MBE生长室的一侧,且光路机构上设有出光端,出光端的一侧贯穿MBE生长室的开口并伸入其内部,并与样品台呈相对间隔设置,光路机构与MBE生长室的开口处密封连接,本系统将光路机构集成于MBE装置内,将光路机构集成到MBE装置内,采用激光直写的方式近距离对样品加工,提高了激光聚焦能力,有效保证了激光加工的精度和质量。
  • 一种集成mbe装置激光加工系统
  • [发明专利]一种衬底加热器-CN202110615227.7在审
  • 刘胜;甘志银;王亦凡;沈桥 - 广东众元半导体科技有限公司
  • 2021-06-03 - 2022-12-06 - H05B3/02
  • 一种用于MBE设备的衬底加热器,主要包括外框、固定顶板、上隔热板、侧隔热环、下层隔热板、内圈加热丝、外圈加热丝。可以提高衬底片的加热温度均匀性,提高分子束外延反应速率,能够提高晶体生长质量,显著提高晶体生长速率,提高生产效率,降低生产成本;采用多层隔热板平行排布设计,有效降低样品台加热丝热源对腔体内部热量的耗散,减少对MBE腔体内其他组件的热影响,保障MBE运行性能。
  • 一种衬底加热器
  • [发明专利]一种MBE外延片生产方法-CN202210552291.X在审
  • 路云峰;温涵 - 苏州信越半导体有限公司
  • 2022-05-20 - 2022-09-16 - H01L33/00
  • 本发明公开了一种MBE外延片生产方法,包括如下步骤:步骤S1、衬底处理、步骤S2、生长介质层、步骤S3、热化学处理、步骤S4、生长氮化物润湿层、步骤S5、依次生长AlGaN缓冲层、n‑GaN层、InGaN本发明公开的MBE外延片生产方法工艺简单,操作控制方便,耗能低,对设备依赖性小,适合工业化大规模生产;通过该生产方法制成的MBE外延片表面质量好、缺陷少,衬底易去除,电化学性能优异。
  • 一种mbe外延生产方法

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