专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]改善2Cr13转子探伤杂波的调质热处理工艺-CN202110576660.4有效
  • 周鹏;雷冲;王雪松;张巧换;郑安雄;李占华;李玉标;双伟鹏 - 河南中原特钢装备制造有限公司
  • 2021-05-26 - 2023-03-31 - C21D1/18
  • 本发明涉及一种改善2Cr13转子探伤杂波的调质热处理工艺,一次淬火:采用井式加热炉生产,炉温在≤500℃,以≤50℃/h~100℃/h升温至550℃~700℃保温3h~6h后以≥100℃/h升至980℃~1040℃,保温5h~30h后出炉冷却,高温回火:炉温在≤450℃,以≤50℃/h~100℃/h升至550℃~750℃保温10h~40h后出炉油冷,油冷至工件达到300℃~400℃后空冷至室温,二次淬火:炉温在≤500℃,以≤50℃/h~100℃/h升至550℃~700℃保温3h~6h后以≥100℃/h升至980℃~1040℃,保温5h~30h后出炉冷却,高温回火:炉温在≤450℃,以≤50℃/h~100℃/h升至550℃~750℃保温10h~40h后出炉油冷,温度达到300℃~400℃后空冷至室温,低温回火:炉温在≤450℃,以≤50℃/h~100℃/h升温至550℃~750℃保温10h~40h后出炉空冷至室温
  • 改善cr13转子探伤热处理工艺
  • [发明专利]准稀疏光学照射-CN201780046237.5有效
  • V·R·巴克塔 - 德克萨斯仪器股份有限公司
  • 2017-07-26 - 2023-01-20 - B60Q1/00
  • 在所描述的示例中,DMD(1040)包括微镜。第一光源(1022)产生照射DMD(1040)的第一组微镜的第一光束廓线。第二光源(1024)产生照射DMD(1040)的第二组微镜的第二光束廓线。第一光束廓线和第二光束廓线在DMD(1040)的至少一些微镜上部分地重叠。第一光源(1022)独立于第二光源(1024)进行源调制,以响应于感测的驱动条件调节功率和亮度。响应于感测的驱动条件调制DMD(1040)的微镜。
  • 稀疏光学照射

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