专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种用于对硬件加速器的请求队列重排的方法和系统-CN201010188583.7有效
  • 梅小露;常晓涛;谢东;冯宽;郑珺 - 国际商业机器公司
  • 2010-05-31 - 2011-11-30 - G06F12/02
  • 本发明公开了一种用于对硬件加速器的请求队列重排的系统和方法,其中,请求队列中存储着将要输入到硬件加速器中的多个CRB,该系统包括:内容可寻址存储器,与请求队列相连,以与在请求队列中相同的物理存储位置存储着请求队列中的每个CRB的状态指针,并且响应于有新的CRB要求加入到请求队列中,接收所述新的CRB的状态指针,并将内容可寻址存储器中存储的状态指针中与所述新的CRB的状态指针相同的CRB在请求队列中的物理存储位置输出;以及CRB插入模块,用于接收与所述新的CRB的状态指针相同的CRB在请求队列中的物理存储位置,并控制请求队列中所述新的CRB和请求队列中与该新的CRB状态指针相同的CRB,按照进入请求队列的顺序,相邻地输入到硬件加速器中
  • 一种用于硬件加速器请求队列重排方法系统
  • [发明专利]高Cr含量CrB2-CN202011474101.4有效
  • 王铁钢;张雅倩;刘艳梅;阎兵;曹凤婷 - 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
  • 2020-12-14 - 2023-05-02 - C23C14/06
  • 本发明公开了一种高Cr含量CrB2‑Cr涂层的制备工艺,属于涂层制备技术领域。采用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术在金属或硬质合金基体上制备CrB2‑Cr纳米复合涂层。为了更好的控制涂层中Cr元素的含量,靶材同时选用CrB2靶和两个金属Cr靶,对基材表面分别进行辉光放电清洗和离子轰击清洗后沉积金属Cr过渡层,最后同时开启Cr靶和CrB2靶,沉积CrB2‑Cr涂层,镀膜过程始终在氩气气氛内进行。本发明工艺简单,重复性好;制备出的CrB2‑Cr涂层中Cr元素含量显著增加,涂层具有较高的硬度和熔点、优异的高温热稳定性以及耐腐蚀性能,其韧性也得到了一定改善,
  • cr含量crbbasesub
  • [发明专利]一种CrB2-CN201811119013.5有效
  • 汪爱英;翁佳豪;柯培玲;张栋;左潇 - 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
  • 2018-09-25 - 2020-05-08 - C23C14/06
  • 本发明公开了一种CrB2涂层的制备方法,属于表面强化技术领域。采用直流磁控溅射法,设计靶源磁场由位于靶面底部的环形磁铁与直线型磁铁组成,通过对靶源磁场的设计,使靶面不同位置具有不同的磁场强度,并对应的放置一系列样品,在各样品表面沉积CrB2涂层,然后对各涂层进行性能检测,得到与所需CrB2涂层性能最接近的CrB2样品涂层,该样品在样品架上的放置位置即为待沉积基体的放置位置
  • 一种crbbasesub

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