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- [发明专利]CMOS带隙基准电压产生电路-CN201010187337.X无效
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段新东
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上海宏力半导体制造有限公司
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2010-05-28
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2010-09-22
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G05F3/30
- 本发明提出一种CMOS带隙基准电压产生电路,用于基准电压的输出,包括:第一CMOS、第二CMOS和第三CMOS、第一三极管、第二三极管、放大器、第四CMOS,所述第四CMOS的基极和所述放大器的输出端相连,所述第四CMOS的源极和所述第一CMOS的源极、所述第二CMOS的源极、所述第三CMOS的源极相连,第三三极管,所述第三三极管的基极和集电极接地,所述第三三极管的发射极和所述第四CMOS的漏极相连。本发明CMOS带隙基准电压产生电路通过增加一个支路和若干电阻,有效的消除了原电路中三极管的二阶温度调制效应,提高了基准电压产生电路的稳定性。
- cmos基准电压产生电路
- [实用新型]一种基于CMOS传感器的光强检测装置-CN202023057029.3有效
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钟土基
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佛山市双耀科技有限公司
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2020-12-17
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2021-10-26
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H04N5/374
- 本实用新型公开了一种基于CMOS传感器的光强检测装置,包括CMOS传感器模块、第一AD转换模块、第二AD转换模块、供电模块以及处理器模块;所述CMOS传感器模块包括衰减片、分光片以及呈镜像设置的第一CMOS传感器和第二CMOS传感器,光线经所述分光片反射后依次射向所述衰减片以及第二CMOS传感器,光线经所述分光片折射后射向所述第一CMOS传感器;所述第一CMOS传感器、第二CMOS传感器、第一AD转换模块以及第二AD转换模块均与所述处理器模块连接,所述第一CMOS传感器与所述第一AD转换模块连接,所述第二CMOS传感器与所述第二AD转换模块连接;所述供电模块用于给整个装置供电。采用本实用新型,能够扩展CMOS传感器采集图像的位深,提高CMOS传感器采集图像的质量。
- 一种基于cmos传感器检测装置
- [发明专利]一种基于CMOS工艺的红外探测器-CN202110324084.4有效
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翟光杰;武佩;潘辉;翟光强
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北京北方高业科技有限公司
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2021-03-26
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2022-11-08
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G01J5/20
- 本公开涉及一种基于CMOS工艺的红外探测器,包括:CMOS测量电路系统和位于CMOS测量电路系统上的CMOS红外传感结构,CMOS测量电路系统上方包括至少一层密闭释放隔绝层,至少一层密闭释放隔绝层位于CMOS红外传感结构中;CMOS红外传感结构包括位于CMOS测量电路系统上的反射层、红外转换结构和多个柱状结构,红外转换结构通过柱状结构和支撑底座与CMOS测量电路系统电连接,至少部分相邻的红外探测器像元的反射板相互接触;至少一层密闭释放隔绝层位于CMOS测量电路系统和CMOS红外传感结构之间的界面,解决了传统MEMS工艺红外探测器的性能低,像素规模低,良率低等问题,位于CMOS红外传感结构中的密闭释放隔绝层降低了牺牲层的释放难度
- 一种基于cmos工艺红外探测器
- [发明专利]一种基于CMOS工艺的可调谐超材料器件-CN201910877965.1有效
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温良恭;吴欣羽
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北京航空航天大学
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2019-09-17
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2020-08-04
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H01Q15/00
- 本发明实施例提供一种基于CMOS工艺的可调谐超材料器件,该器件包括:CMOS兼容电路系统和多个金属层,相邻金属层之间设置有介质层;至少有一个金属层为超材料结构层;超材料结构层与至少一个CMOS器件集成,CMOS器件用于调整超材料结构层的电磁响应特性;CMOS兼容电路系统用于将不同控制电压传送至CMOS器件,以动态调谐可调谐超材料器件。通过将超材料与CMOS器件进行集成,并通过CMOS兼容电路系统控制CMOS器件的偏置电压,加工制造工艺为标准CMOS工艺,工艺简单,稳定性高,易于实现规模化生产,能够大大降低生产成本;且该器件具有设计流程标准,不依赖工艺、材料等特点,并可利用不同CMOS工艺节点实现较宽的可调谐超材料响应频段。
- 一种基于cmos工艺调谐材料器件
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