专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种焊接合金薄膜的热沉及其制备方法-CN201310639344.2有效
  • 陈卫民 - 广州先艺电子科技有限公司
  • 2013-12-04 - 2014-03-05 - H01L23/473
  • 本发明公开了一种焊接合金薄膜的热沉,包括:可伐合金基板,化学镀于上述可伐合金基板表面的镍层,以及用超声波焊接于所述镍层表面的合金薄膜,所述合金薄膜是超声波焊接于所述可伐合金基板镍层表面上的基系Au80Sn20共晶合金薄膜。本发明还公开了一种上述焊接合金薄膜的热沉的制备方法。本发明公开的超声波焊接制造带合金薄膜的热沉,具有合金薄膜贴合平整牢固,合金焊料表面清洁无污染等优点;而其焊料成分、厚度的良好均匀性,及生产工艺的精简高效,为其后续钎焊应用及大批量生产创造了有利条件
  • 一种焊接合金薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种LED光源-CN201510752239.9在审
  • 江向东;江浩澜;陈柏尧;吴小军;汪春涛 - 安徽湛蓝光电科技有限公司
  • 2015-11-04 - 2016-01-13 - H01L33/64
  • 本发明提供一种LED光源,所述LED光源包括基板以及固定在所述基板上的LED晶片;所述基板为氮化铝陶瓷基板;所述LED晶片的底部覆有合金层,所述合金层为-合金层;所述-合金层中的比重为7:3;所述-合金层分为正、负极两部分;所述氮化铝陶瓷基板上设有电路;所述-合金层与所述电路进行电性连接。与现有技术相比,氮化铝陶瓷基板与-合金层共晶焊接后产生的共晶层,该共晶层导热系数高,热稳定性好,在固晶的同时,满足了大功率LED芯片的散热需求。
  • 一种led光源
  • [发明专利]一种合金返回料的净化重熔方法-CN202311174834.X在审
  • 王捷;陈卫民 - 广州先艺电子科技有限公司
  • 2023-09-13 - 2023-10-20 - C22C1/06
  • 本发明公开了一种合金返回料的净化重熔方法,涉及金属合金处理技术领域。本发明对焊片生产中产生的残次品、边角料等返回料进行纯净化处理,利用覆盖剂熔融覆盖在合金表面进行吸附,同时控制好熔化温度以及陶瓷过滤器的孔径,保证将覆盖剂以及其上的杂质与合金熔体完全分离,实现净化合金返回料的效果,确保材料指标合格,使之能够再次投入使用,实现高价值金属元素金和的循环利用。本发明所述净化重熔方法对合金返回料中的杂质去除率高,达到43.3%。
  • 一种合金返回净化方法
  • [发明专利]一种共晶合金材料的制备方法-CN202010290132.8在审
  • 林烽先;钟茂礼;应宗波;周方;李良;罗鹏荷 - 紫金矿业集团黄金冶炼有限公司
  • 2020-04-14 - 2020-07-03 - C22C1/02
  • 本发明公开了一种共晶合金材料的制备方法,操作步骤(一)将纯金料和纯粒按质量比8:2备好后粒均分3份;(二)将料投入石英坩埚并放入中频感应炉熔化成纯金溶液,将3份纯粒置于1#‑3#石墨模具中,预热1#‑4#石墨模具;随后将溶液倒入1#模具并覆盖纯粒以防氧化挥发实现预合金化;再将该预合金放入石英坩埚中熔化后倒入2#模具;之后将2#模具的预合金放入石英坩埚中熔化后倒入3#模具;最后将3#模具的预合金放入石英坩埚中熔化后倒入4#模具中制成成分均匀、厚度为1~4mm的共晶合金扁坯;(三)将扁坯恒温多道次热轧,道次变形量5%~20%,得到15~30μm厚的共晶合金箔材。本发明操作简单高效,共晶合金成分均匀,加工性好,安全环保。
  • 一种金锡共晶合金材料制备方法
  • [发明专利]一种合金薄膜的制备方法-CN202010737990.2在审
  • 杨曌;李保昌;李淑华;罗俊尧;沓世我 - 广东风华高新科技股份有限公司
  • 2020-07-28 - 2020-11-03 - C23C14/18
  • 本发明涉及一种可用于共晶焊接的多层合金薄膜制备工艺,根据理论计算膜层厚度,结合磁控溅射方式加工形成多层结构单质薄膜再经快速后退火处理工艺,制备得到合金化完全和成份均匀的合金薄膜。本发明以单质金属为原料,制备出合金薄膜,有效简化工艺过程;采用磁控溅射制备方法,避免了化学法、真空蒸镀法的缺点,可制备出成分、厚度可控、图形复杂、位置灵活的叠层薄膜,工艺稳定性良好,适用大批量生产;通过层数调节和热退火处理,可以有效调节薄膜层合金化区域,获得合金化均匀的薄膜层;采用RTP快速热退火处理,大大缩短了退火时间,有效提高了生产效率;合金比例可控制在80:20~70:30之间,适用于共晶焊接
  • 一种合金薄膜制备方法

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