专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种晶体管管芯结构及制作方法-CN201910942730.6有效
  • 郑伯涛;陈建星;邱文宗;林易展;王淋雨;林伟;章剑清;郭一帆;林伟铭 - 福建省福联集成电路有限公司
  • 2019-09-30 - 2022-10-11 - H01L29/778
  • 本发明提供了一种晶体管管芯结构及制作方法,其中制作方法包括如下步骤:在具有有源区、无源区、源、漏和栅极的半导体衬底上沉积第一层金属,在有源区形成源金属和漏金属,靠近源的一侧的最外侧源金属为第一源金属,其余的源金属为第二源金属,源金属的一侧延伸至无源区;沉积第二层金属,在相邻的源金属和漏金属之间形成栅极金属;沉积第三层金属,形成源连线金属、漏连线金属和栅极连线金属;以第一源金属无源区部分和第二源无源区部分为桥墩位置制作源金属桥,源金属桥连接源金属和源金属;本发明制作连通源时不跨越有源区的栅极金属和漏金属金属桥结构,减小了寄生电容,提升器件射频工作性能。
  • 一种晶体管管芯结构制作方法
  • [实用新型]耳连接结构、电池单元及电池模组-CN202021957566.0有效
  • 牛从酥;王涛;彭祖铃 - 中航锂电技术研究院有限公司
  • 2020-09-09 - 2021-03-23 - H01M50/531
  • 本实用新型涉及电池技术领域,具体提出一种耳连接结构、电池单元及电池模组。耳连接结构包含金属耳束、金属箔材及第二金属耳;金属耳束包含叠置的至少两个第一金属耳,第一金属耳的材质包含金属锂,金属耳束沿叠置方向的两侧分别具有连接表面;金属箔材压合连接于两个连接表面;第二金属耳以一连接端焊接连接于金属箔材,以使金属耳束、金属箔材与第二金属耳焊接连接。本实用新型能够使得金属耳束与第二金属耳的连接关系更加牢固,避免金属耳束与第二金属耳直接焊接,利用金属箔材对金属耳束提供保护功效,使得该耳连接结构不易产生剥离,从而避免接触不良,保证耳结构的导电性能
  • 连接结构电池单元模组
  • [实用新型]氮化镓MISHEMT结构-CN202020496854.4有效
  • 刘春利 - 深圳镓华微电子有限公司
  • 2020-04-07 - 2020-09-08 - H01L21/335
  • 本实用新型提供一种氮化镓MISHEMT结构,包括晶圆,晶圆形成有源金属、漏金属以及栅门金属,在源金属、漏金属以及栅门金属上方覆盖有第一绝缘介质层,第一绝缘介质层于源金属以及漏金属相应位置处分别具有开口并在开口内形成有第一链接金属,第一链接金属上方覆盖有第一源金属场板以及第一漏金属场板,第二绝缘介质层覆盖第一源金属场板、第一漏金属场板以及露出的第一绝缘介质层,第二绝缘介质层于源金属以及漏金属相应位置处分别具有开口并在开口内形成有第二链接金属,第二链接金属表面覆盖有第二源金属场板以及第二漏金属场板,在第二源金属场板和第二漏金属场板表面覆盖有钝化层,能够有效提高器件抗压性能。
  • 氮化mishemt结构
  • [发明专利]半导体器件-CN202111052909.8有效
  • 林坤;杨天应;刘丽娟;吴文垚 - 深圳市时代速信科技有限公司
  • 2021-09-09 - 2021-12-14 - H01L29/40
  • 该半导体器件包括衬底、位于衬底上的半导体叠层、位于半导体叠层上且间隔排布的源欧姆金属和漏欧姆金属、与源欧姆金属接触连接的源互连金属、与漏欧姆金属接触连接的漏互连金属、位于源互连金属与漏互连金属之间且与半导体叠层接触连接的栅极金属,以及位于半导体叠层上且与源互连金属形成金属互连的源场板;其中,源场板位于源互连金属和漏互连金属之间,源场板至漏欧姆金属的距离小于源场板至漏互连金属的距离。该半导体器件能够在不额外增加器件面积的条件下减小源和漏之间的寄生电容,从而提高器件的漏效率。
  • 半导体器件
  • [实用新型]一种五耳机插头-CN201420455376.7有效
  • 李晓锋 - 李晓锋
  • 2014-08-13 - 2015-01-14 - H04R1/10
  • 本实用新型公开一种五耳机插头,包括一绝缘轴心,所述绝缘轴心由内至外依次同轴排布有第一金属、第二金属、第三金属、第四金属和第五金属,每两个金属之间均由绝缘材料隔开,第五金属的前端与末端一体成型,第一金属的末端连接耳机左声道,第二金属的末端接耳机右声道,第三金属的末端接麦克风左声道,第四金属接地线,第五金属的末端接麦克风右声道。本实用新型增加第五金属,第五金属连接麦克风右声道,耳机输出声音时具有左右声道同时输出,大大提高了耳机输出的音质和音效。
  • 一种耳机插头
  • [发明专利]氮化镓MISHEMT的制作方法以及结构-CN202010265918.4在审
  • 刘春利 - 深圳镓华微电子有限公司
  • 2020-04-07 - 2020-06-26 - H01L21/335
  • 本发明提供一种氮化镓MISHEMT的制作方法,包括:晶圆开槽并在槽内沉积金属得到源金属、漏金属以及栅门金属;表面沉积第一绝缘介质层;将第一绝缘介质层开口以打开源金属以及漏金属,并在开口内形成第一链接金属;表面沉积第一金属层;刻蚀第一金属层得到链接源金属的第一源金属场板以及链接漏金属的第一漏金属场板;表面沉积第二绝缘介质层;将第二绝缘介质层开口以分别打开第一源金属场板以及第一漏金属场板,并在开口内形成第二链接金属;表面沉积第二金属层;刻蚀第二金属层得到链接第一源金属场板的第二源金属场板以及链接第一漏金属场板的第二漏金属场板;表面沉积钝化层。
  • 氮化mishemt制作方法以及结构
  • [发明专利]半导体装置-CN201710073456.4有效
  • 林立凡;杨竣杰 - 台达电子工业股份有限公司
  • 2017-02-10 - 2021-06-04 - H01L29/778
  • 一种半导体装置包含主动层、源电极、漏电极、栅极电极、第一绝缘层、栅极金属层、贯穿结构、第一源金属层、漏金属层与第二源金属层。源电极、漏电极与栅极电极置于主动层上。栅极电极置于源电极与漏电极之间。第一绝缘层置于源电极、漏电极与栅极电极上。栅极金属层置于栅极电极与第一绝缘层上。栅极金属层包含窄部与宽部。贯穿结构置于栅极金属层与栅极电极之间。第一源金属层置于源电极与第一绝缘层上。漏金属层置于漏电极与第一绝缘层上。第二源金属层置于栅极金属层与漏金属层之间。
  • 半导体装置
  • [实用新型]一种防雷恒压装置-CN201620977157.4有效
  • 张万岭;朱世华;谭安民;余勇 - 谭安民;余勇
  • 2016-08-30 - 2017-03-01 - H01T19/04
  • 本实用新型公开了一种防雷恒压装置,包括金属I、金属II、电解液,所述的金属I、金属II分别与电解液相接触,金属I和金属II不接触;所述的金属I、金属II为属性相同的金属材料制备而成;所述的金属I与接闪器连接,该装置可以钳制金属导体静电感应电压以消除其静电高压放电现象,并能够实现将瞬间直流高压转换成大电流泄放。
  • 一种防雷装置
  • [发明专利]一种LED晶片结构-CN201710386564.7在审
  • 陈永平 - 厦门市东太耀光电子有限公司
  • 2017-05-26 - 2017-07-21 - H01L33/62
  • 本发明提供了一种LED晶片结构,属于LED领域,包括由依次层叠的P导电金属层、P结晶基板、N结晶基板和N导电金属层构成的本体,N导电金属层连接有N引脚,所述P导电金属层下方连接有至少一个P引脚,所述本体内设有贯穿N结晶基板、P结晶基板和P导电金属层的通道,通道内壁还设有绝缘层,通道内设有导电柱,导电柱的两端分别连接有N导电金属层和与N引脚。与现有技术相比,该LED晶片结构在本体中设有通道,通道内设有与N金属层和N引脚连接的导线柱,P导电金属层直接连接P引脚,这样避免利用金线将N金属层和P金属层分别与N引脚和P引脚连接,减少制造工序
  • 一种led晶片结构
  • [实用新型]一种LED晶片结构-CN201720602054.4有效
  • 陈永平 - 厦门市东太耀光电子有限公司
  • 2017-05-26 - 2018-01-12 - H01L33/62
  • 本实用新型提供了一种LED晶片结构,属于LED领域,包括由依次层叠的P导电金属层、P结晶基板、N结晶基板和N导电金属层构成的本体,N导电金属层连接有N引脚,所述P导电金属层下方连接有至少一个P引脚,所述本体内设有贯穿N结晶基板、P结晶基板和P导电金属层的通道,通道内壁还设有绝缘层,通道内设有导电柱,导电柱的两端分别连接有N导电金属层和与N引脚。与现有技术相比,该LED晶片结构在本体中设有通道,通道内设有与N金属层和N引脚连接的导线柱,P导电金属层直接连接P引脚,这样避免利用金线将N金属层和P金属层分别与N引脚和P引脚连接,减少制造工序
  • 一种led晶片结构
  • [发明专利]一种叠状电感及制作方法-CN201910380364.X有效
  • 林张鸿;林豪;詹智梅;王潮斌;肖俊鹏;陈东仰;郑育新 - 福建省福联集成电路有限公司
  • 2019-05-08 - 2021-03-09 - H01L23/64
  • 本发明公开一种叠状电感及制作方法,制作方法包括如下步骤:在半导体器件上制作第一光阻层,在源金属、漏金属和电感底层金属处进行曝光显影,电感底层金属处在半导体器件的绝缘区域;沉积晶体管的源金属、漏金属和电感底层金属;去除第一光阻层,沉积第一保护层,在栅极位置、源金属、漏金属和电感底层金属蚀刻出开口;制作第二光阻层,在栅极位置、源金属、漏金属和电感底层金属处进行曝光显影;沉积栅极金属、源叠层金属、漏叠层金属和电感叠层金属本方案相对于改进前的制程工艺,节省光罩和金属沉积工艺,同时降低了电感内电阻。
  • 一种电感制作方法

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