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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光学邻近校正方法-CN200910194449.5有效
发明人：周从树 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2009-08-17 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种光学邻近校正方法，包括：根据光学衍射原理对设计图形进行修正以获得期望图形；根据掩模版图形，获得对应的曝光图形；获取所述曝光图形中的图案与所述期望图形中相应图案的差异；将所获得的差异与预定阈值进行比较：当所述差异小于或等于预定阈值时，光学邻近校正完成；当所述差异大于预定阈值时，调整掩模版图形，并对新的掩模版图形重新执行上述曝光、计算和比较的步骤，直至光学邻近校正完成。本发明缩短了光学邻近校正的时间，提高了生产效率。
光学邻近校正方法

[发明专利]多模态邻近度检测-CN201010221279.8有效
发明人： R·C·沙阿;J·J·黄;G·拉法;L·纳赫曼;J·李 -专利权人：英特尔公司
申请日： 2010-06-30 - 公布日： 2011-01-05 - 主分类号： H04W4/02 文献下载
摘要：公开了用于在电子设备之间进行邻近度检测的系统和方法。一个或多个电子设备向邻近度服务器发送信号，邻近度服务器确定第一电子设备是否紧邻第二电子设备。邻近度服务器向第一电子设备和第二电子设备发送信号，响应于该信号，第一和第二电子设备激活环境传感器，收集环境数据的至少一个采样，提取环境数据的至少一个特征组；根据特征组生成第一模糊特征，向邻近度服务器发送第一和第二模糊特征组邻近度服务器使用第一模糊特征组和第二模糊特征组以确定第一电子设备和第二电子设备是否是紧邻的。
多模态邻近检测

[发明专利]光学邻近修正的方法-CN200910085446.8有效
发明人：张飞 -专利权人：中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2009-05-22 - 公布日： 2010-11-24 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学邻近修正的方法，该方法包括：提供包括主图案图形的晶片；在所述主图案图形的空隙处插入散射条SBAR；交替修正主图案图形和SBAR，达到目标图案。
光学邻近修正方法

[发明专利]光学邻近修正方法-CN200810040372.1有效
发明人：朴世镇 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2008-07-08 - 公布日： 2010-01-13 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法，在对电路图形修正时同时考虑边缘布置误差以及工艺窗口相关参数，例如光强斜率，并且选取对边缘布置误差敏感的子电路图形修正步骤进行针对性修正，而对另一子电路图形修正进行工艺窗口相关参数针对性修正所述光学邻近修正方法对工艺窗口有明显助益。
光学邻近修正方法

[发明专利]光学邻近校正方法-CN201710200670.1有效
发明人：李亮;杜杳隽;陈啸 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2017-03-29 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近校正方法，包括：提供目标图形；对所述目标图形边界进行初始分段，将所述目标图形边界分为多个片段；对所述初始分段后的目标图形进行OPC运算，获得OPC多边形；判断所述OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内本发明提供的光学邻近校正方法能够找出对目标图形进行分段后的坏点，及时对目标图形边界进行重新分段，使得获得的校正后OPC多边形可以很好的被OPC模型覆盖。
光学邻近校正方法

[发明专利]光学邻近修正方法-CN201310505098.1有效
发明人：王辉 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2013-10-23 - 公布日： 2018-10-16 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供一种光学邻近修正方法，提出同时对光学模型与可变曝光参考阈值的光刻胶模型进行拟合，以获得测试掩膜版图形的最佳修正参数值。本发明提供的光学邻近修正方法中，光刻胶模型不依赖并不准确的光学模型搭配固定曝光参考阈值光刻胶模型所获得的光学模型参数，从而保证了光学邻近修正模型的物理性，因而所获得的结果更接近实际光学邻近修正，采用上述结果进行光学邻近修正的效果更好
光学邻近修正光刻胶模型光学模型掩膜版图形参考曝光物理性可变拟合搭配测试修正保证

[发明专利]光学邻近矫正方法-CN201811154411.0有效
发明人：王丹;赵璇;于世瑞 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2018-09-30 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种优化集成电路电源线周围热点图形工艺窗口的光学邻近矫正方法，包括获取该光学邻近矫正目标层的亚分辨率辅助图形规则；计算第一目标宽度W1和第二目标宽度W2，选择需要添加亚分辨率辅助图形的目标电源线，根据第一预设规则对所述目标电源线进行扩展，对符合第二预设规则的目标电源线添加亚分辨率辅助图形，对第五步形成的目标电源线生成光学邻近矫正目标层，根据第三预设规则对添加的亚分辨率辅助图形进行修正，基于光学邻近矫正目标层和修正后的亚分辨率辅助图形，添加光学邻近矫正亚分辨率辅助图形，进行后续光学邻近矫正修正。
光学邻近矫正方法

[发明专利]用于邻近修正的方法-CN201210387301.5有效
发明人：许照荣;林世杰;林华泰;林本坚 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2012-10-12 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明还公开了用于邻近修正的方法。
用于邻近修正方法

[发明专利]光学邻近修正方法-CN201210312992.2有效
发明人：王辉 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2012-08-29 - 公布日： 2014-03-12 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：发明提供一种光学邻近修正方法，所述方法包括：提供测试掩模板，所述测试掩模板上形成有至少一个第一测试图形；以所述测试掩模板进行曝光，形成与所述第一测试图形相对应的曝光图形；基于曝光图形对第一测试图形进行调整以形成第二测试图形本发明光学邻近修正方法具有较高的精度。
光学邻近修正方法

[发明专利]光学邻近修正方法-CN201110444785.8有效
发明人：陈洁;王谨恒;张雷;万金垠 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2011-12-27 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法，基于光学邻近修正工艺，通过在对金属线条进行OPC处理时，增加判断和修改缩进量的步骤，使得金属线条中的凹凸结构在进行OPC修正时能够达到最佳的缩进量，从而减少实际硅片上得到的光刻图形与掩膜版图形之间存在变形和偏差
光学邻近修正方法

[发明专利]光学邻近修正的方法-CN201110109857.3有效
发明人：杨青;刘娟 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2011-04-28 - 公布日： 2012-10-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种光学邻近修正的方法，包括：提供测试图形，所述测试图形与待曝光图形对应；根据所述待曝光图形，提供至少两组光学邻近修正参数；利用光学邻近修正参数对所述测试图形进行光学邻近修正模拟，获得至少两组模拟图形；将所述至少两组模拟图形分别与所述测试图形比较，获得至少两个偏差值，每个偏差值分别与每组光学邻近修正参数对应；选择所述至少两个偏差值中最小的偏差值，将所述最小的偏差值对应的光学邻近修正参数作为最优光学邻近修正参数；利用所述最优光学邻近修正参数对所述待曝光图形进行光学邻近修正。本发明实施例减小了光学邻近修正的循环时间，节省了半导体代工厂的生产成本。
光学邻近修正方法

[发明专利]感应式邻近开关-CN201110269998.1有效
发明人： M·德胡;P·海米利彻尔 -专利权人：奥普托塞斯股份有限公司
申请日： 2011-09-14 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： H03K17/95 文献下载
摘要：一种感应式邻近开关，用于检测受监控区中物体的存在，该开关包括：线圈(2)；用于向所述线圈(2)提供按周期(T)的发送电流脉冲(S1、S2、S3)的脉冲源(4)，该周期(T)大于所述发送电流脉冲的持续时间一种对外部扰动场较不敏感的输出信号，能够由装配有抑制电路(13、13a、13b、13c)的邻近开关提供，该抑制电路(13、13a、13b、13c)用于把信号持续时间抑制到小于所述输出信号(9)中的预定扰动时间
感应邻近开关

[发明专利]光学邻近修正掩膜-CN201110269209.4有效
发明人：叶癸廷 -专利权人：华邦电子股份有限公司
申请日： 2011-09-13 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学邻近修正掩膜，其包括二个开口图案以及一对散射条图案。开口图案沿一第一方向排列于一基底上，且彼此隔开一既定距离。一对散射条图案沿垂直于第一方向的一第二方向排列于基底上，且邻近于每一开口图案的二个相对侧。本发明的光学邻近修正掩膜，可降低开口图案边缘的光强度但不降低开口图案本身的光强度，进而改善经由掩膜转印至光阻上的开口图案的轮廓，并增加光刻工艺中的对比度。另外，由于光刻工艺中的对比度的增加，因此可增加光阻材料的选择弹性或进一步增加光学邻近修正掩膜的工艺容许度。
光学邻近修正

[发明专利]光学邻近修正方法-CN201010118841.4有效
发明人：洪齐元 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2010-03-05 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法，包括：提供待曝光图形；对所述待曝光图形进行校验，确定弱点；确定修正区，所述修正区包括所述弱点；对所述修正区内的待曝光图形进行光学邻近修正。本发明缩短了光学邻近修正过程的时间，提高了生产效率，降低了生产成本。
光学邻近修正方法

[发明专利]感应邻近传感器-CN201110046071.1有效
发明人：龚晓峰;金强;廖建勇 -专利权人：洛克威尔自动控制技术股份有限公司
申请日： 2011-02-22 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： G01V3/10 文献下载
摘要：本发明提供一种感应邻近传感器，该传感器具有多接收器线圈组件和配置成从多接收器线圈组件接收差分信号以确定存在目标的评估器电路。接近感应邻近传感器的目标破坏电磁场并且改变各接收器线圈上的感应电压、由此改变差分信号。评估器电路对差分信号进行处理以确定改变是否指示目标存在。
感应邻近传感器

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