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[实用新型]衬底支撑件-CN201922123241.6有效
发明人： A·A·哈贾;V·S·C·帕里米;S·M·博贝克;P·K·库尔施拉希萨;V·K·普拉巴卡尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-12-02 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本公开的方面涉及用于处理腔室的衬底支撑件的一个或多个实现方式。在一个实现方式中，一种衬底支撑件包括：主体，所述主体具有中心；以及支撑表面，所述支撑表面在所述主体上，所述支撑表面被配置为至少部分地支撑衬底。所述衬底支撑件包括：第一成角度壁，所述第一成角度壁从所述支撑表面向上且径向向外延伸；以及第一上表面，所述第一上表面设置在所述支撑表面上方。所述衬底支撑件还包括第二成角度壁，所述第二成角度壁从所述第一上表面向上且径向向外延伸，所述第一上表面在所述第一成角度壁与所述第二成角度壁之间延伸。所述衬底支撑件还包括第二上表面，所述第二上表面从所述第二成角度壁延伸。所述第二上表面设置在所述第一上表面上方。
衬底支撑

[实用新型]衬底支撑件-CN202021336306.1有效
发明人： A·A·哈贾;V·S·C·帕里米;S·M·博贝克;P·K·库尔施拉希萨;V·K·普拉巴卡尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-12-02 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本公开的方面涉及用于处理腔室的衬底支撑件的一个或多个实现方式。在一个实现方式中，一种衬底支撑件包括：主体，所述主体具有中心；以及支撑表面，所述支撑表面在所述主体上，所述支撑表面被配置为至少部分地支撑衬底。所述衬底支撑件包括：第一成角度壁，所述第一成角度壁从所述支撑表面向上且径向向外延伸；以及第一上表面，所述第一上表面设置在所述支撑表面上方。所述衬底支撑件还包括第二成角度壁，所述第二成角度壁从所述第一上表面向上且径向向外延伸，所述第一上表面在所述第一成角度壁与所述第二成角度壁之间延伸。所述衬底支撑件还包括第二上表面，所述第二上表面从所述第二成角度壁延伸。所述第二上表面设置在所述第一上表面上方。
衬底支撑

[发明专利]衬底支撑件-CN02820630.4无效
发明人：约翰·M·怀特;细川明广 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2002-09-24 - 公布日： 2005-01-26 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供了用于支撑衬底的装置。在一个实施例中，提供了一种具有主体和上部分的衬底支撑件，所述上部分具有承窝和球体，所述球体适合使所述衬底支撑件与支撑于其上的衬底之间的摩擦和/或化学反应最小化。所述衬底支撑件可以被用在例如负载封闭的室以及进行热处理的各种室中。
衬底支撑

[发明专利]衬底支撑件和衬底台-CN202180015881.2在审
发明人： C·H·M·伯尔蒂斯;N·坦凯特;M·M·P·A·沃姆伦;S·A·特姆普;F·P·A·范德别尔克莫特尔;N·J·J·罗塞;G·克拉默;N·P·M·布兰吉斯;M·T·J·芳廷 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-01-25 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于在光刻设备中支撑衬底的衬底支撑件，该衬底支撑件包括：第一支撑体，该第一支撑体被配置成支撑衬底；主本体，该主本体与第一支撑体分离，并且被配置成支撑第一支撑体，主本体包括热调节器，该热调节器被配置成热调节主本体和/或第一支撑体和/或衬底；以及提取件本体，该提取件本体围绕主本体和支撑体，其中提取件本体包括第一提取通道，该第一提取通道被配置成从衬底的周边部分的附近提取流体。
衬底支撑

[发明专利]旋转衬底支撑件-CN202110612556.6在审
发明人：森幸博 -专利权人： ASMIP私人控股有限公司
申请日： 2021-06-02 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：一种用于处理衬底的设备可以包括：反应室；衬底支撑件，其设置在反应室内并设置有支撑表面以支撑衬底；以及提供旋转运动的马达，其中马达被控制和配置成在反应室和衬底支撑件之间围绕垂直于支撑表面的轴线产生双向旋转运动
旋转衬底支撑

[发明专利]衬底支撑件、半导体处理系统及制造衬底支撑件的方法-CN202211724949.7在审
发明人： Z.周;H.高 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：一种衬底支撑件包括加热器主体、加热器元件和加热器端子。加热器主体由陶瓷材料形成，并具有由厚度分开的上表面和下表面。加热器元件布置在上表面和下表面之间，并嵌入形成加热器主体的陶瓷材料内。圆形表面与上表面相对，并嵌入陶瓷材料内，以在加热位于加热器主体的上表面上的衬底期间限制陶瓷材料内的应力。还描述了半导体处理系统和制造用于半导体处理系统的衬底支撑件的方法。
衬底支撑半导体处理系统制造方法

[发明专利]快速衬底支撑件温度控制-CN201210378624.8有效
发明人：理查德·弗威尔;保罗·比瑞哈特;桑·音·伊;安尼苏尔·H·卡恩;吉维克·帝尼威;谢恩·奈威尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2009-05-29 - 公布日： 2013-01-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及快速衬底支撑件温度控制。本发明提供用于控制衬底支撑件温度的方法和设备。在部分实施例中，用于控制衬底支撑件的温度的设备包括第一热传递回路和第二热传递回路。可以提供第一和第二流量控制器，以各别将第一和第二热传递流体提供到衬底支撑件。一个或多个回流管路可以将衬底支撑件的一个或多个出口耦接到第一和第二浴槽，用以使得第一和第二热传递流体回流到第一和第二浴槽。
快速衬底支撑温度控制

[发明专利]无螺栓衬底支撑件组件-CN201880015101.2有效
发明人：郝芳莉;付越虹;陈志刚 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2018-03-07 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：一种衬底支撑件包括被布置为支撑陶瓷层的导电基板。所述导电基板包括沿垂直于由所述导电基板限定的水平平面的轴线延伸的第一腔。耦合组件被布置在所述第一腔内。所述耦合组件包括被配置为围绕所述轴线旋转的齿轮。
螺栓衬底支撑组件

[发明专利]快速衬底支撑件温度控制-CN200980120803.8有效
发明人：理查德·弗威尔;保罗·比瑞哈特;桑·音·伊;安尼苏尔·H·卡恩;吉维克·帝尼威;谢恩·奈威尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2009-05-29 - 公布日： 2011-05-11 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供用于控制衬底支撑件温度的方法和设备。在部分实施例中，用于控制衬底支撑件的温度的设备包括第一热传递回路和第二热传递回路。可以提供第一和第二流量控制器，以各别将第一和第二热传递流体提供到衬底支撑件。一个或多个回流管路可以将衬底支撑件的一个或多个出口耦接到第一和第二浴槽，用以使得第一和第二热传递流体回流到第一和第二浴槽。
快速衬底支撑温度控制

[发明专利]使用双平台光刻设备的方法以及光刻设备-CN202080095082.6在审
发明人：沃特·扬·科内利斯·维塞尔;H·T·洛耶斯汀 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种使用双平台光刻设备的方法，其中，光刻设备包括：两个衬底支撑件，每个衬底支撑件被布置成移动和支撑衬底；测量场，这两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件被选择性地定位在测量场中，测量场用于测量被这两个衬底支撑件中的相应的衬底支撑件支撑的衬底的特征；以及曝光场，这两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件被选择性地定位在曝光场中，曝光场用于将被这两个衬底支撑件中的相应的衬底支撑件支撑的衬底曝光至被图案化的辐射束，其中，方法包括使被装载在这两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件上的衬底进行热弛豫的步骤
使用平台光刻设备方法以及

[发明专利]衬底支撑结构、含有上述衬底支撑结构的反应腔室-CN201210309006.8无效
发明人：黄允文 -专利权人：光达光电设备科技（嘉兴）有限公司
申请日： 2012-08-28 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底支撑结构和含有上述衬底支撑结构的反应腔室，所述衬底支撑结构包括：衬底支撑盘和圆筒状支撑件，所述圆筒状支撑件竖直设置，所述衬底支撑盘支撑于所述圆筒状支撑件的顶端；所述圆筒状支撑件的顶端具有支撑件突起或支撑件凹槽，所述衬底支撑盘具有与对应所述支撑件突起或支撑件凹槽相对应的支撑盘凹槽或支撑盘突起，所述支撑件突起与支撑盘凹槽相配合或所述支撑件凹槽与支撑盘突起相配合，将所述衬底支撑盘锁紧于所述圆筒状支撑件。本发明解决了放置衬底的衬底支撑盘在转动过程中容易飞出去、转动不稳定的问题。
衬底支撑结构含有上述反应

[发明专利]衬底支撑件和光刻工艺-CN200710199778.X有效
发明人：彼得·雷纳特·马里亚·埃尼;弗里茨·范德尔默伦;约斯特·叶罗因·奥腾斯;彼得·保罗·斯泰厄特;胡贝特·马蒂厄·理查德·斯泰尼斯;彼得·史密兹 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2007-12-10 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种用于浸没式光刻工艺的衬底支撑件，所述衬底支撑件构建用于支撑衬底。该衬底支撑件具有中心部分和外围部分，所述外围部分包括被设置用于从衬底支撑件的顶部表面提取液体的提取管道，所述提取管道连接到构造成将液体从衬底支撑件输出的排出管道。衬底支撑件进一步包括热分离器，所述热分离器被设置在外围部分中，被配置为设置用于减少中心部分和外围部分之间的热传递。
衬底支撑光刻工艺

[实用新型]衬底托盘-CN202221630768.3有效
发明人：许翔;倪健;薛聪 -专利权人：迪希埃（北京）半导体技术有限公司
申请日： 2022-06-28 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： C30B23/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种衬底托盘，包括基座以及多个支撑件。基座具有通孔，多个支撑件沿通孔的孔壁的周向彼此间隔设置，支撑件用于沿第一方向支撑衬底。其中，支撑件被构造为能够与衬底形成线接触。本实用新型提供了的衬底托盘，支撑件与衬底线接触，能够减少支撑件与衬底之间的热传导，在确保了可靠支撑衬底的同时，减少衬底托盘对衬底温度均匀性和热应力的影响，进而提升外延片的质量。
衬底托盘

[发明专利]衬底支撑件、光刻设备、衬底检查设备、器件制造方法-CN201980055297.2在审
发明人： J·P·M·B·弗穆伦;L·L·A·M·姆伦迪卡斯;A·F·J·德格罗特;J·A·C·M·皮南伯格 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-07-16 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于支撑衬底(W)的衬底支撑件(1)，支撑件包括具有用于支撑所述衬底的支撑表面(11)的支撑主体(WT)和被配置成引起衬底与支撑主体的支撑表面之间的绕垂直于支撑表面的旋转轴线的相对旋转抖动运动的旋转抖动装置
衬底支撑光刻设备检查器件制造方法

[发明专利]系统、光刻设备和减少衬底支撑件上的氧化或去除衬底支撑件上的氧化物的方法-CN201880044201.8有效
发明人： L·H·J·斯特文斯;N·V·德兹沃姆基娜;L·M·费尔南德斯迪亚兹;J·A·C·M·皮耶宁堡 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-06-08 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种系统，包括：衬底支撑件，所述衬底支撑件配置成保持衬底；导电或半导电元件，所述导电或半导电元件与衬底支撑件接触并覆盖衬底支撑件的至少一部分；和充电装置，所述充电装置配置成相对于衬底支撑件的被导电或半导电元件覆盖的部分向所述导电或半导电元件施加正电位
系统光刻设备减少衬底支撑氧化去除氧化物方法

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