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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]使用双平台光刻设备的方法以及光刻设备-CN202080095082.6在审
发明人： 沃特·扬·科内利斯·维塞尔;H·T·洛耶斯汀 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种使用双平台光刻设备的方法，其中，光刻设备包括：两个衬底支撑件，每个衬底支撑件被布置成移动和支撑衬底；测量场，这两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件被选择性地定位在测量场中，测量场用于测量被这两个衬底支撑件中的相应的衬底支撑件支撑的衬底的特征；以及曝光场，这两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件被选择性地定位在曝光场中，曝光场用于将被这两个衬底支撑件中的相应的衬底支撑件支撑的衬底曝光至被图案化的辐射束，其中，方法包括使被装载在这两个衬底支撑件中的一个衬底支撑件上的衬底进行热弛豫的步骤，其中，热弛豫在曝光场处被至少部分地执行，和/或在测量场与曝光场之间传递时被至少部分地执行。
使用平台光刻设备方法以及

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