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[实用新型]一种用于连续制备石墨烯材料的胶体磨装置-CN202021997956.0有效
发明人：不公告发明人 -专利权人：烯泽韩力石墨烯应用科技（无锡）有限公司
申请日： 2020-09-14 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： C01B32/19 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于连续制备石墨烯材料的胶体磨装置，属于胶体磨装置技术领域，包括底座，所述底座表面安装有电机，所述底座表面安装有研磨底座，所述研磨底座表面焊接有研磨仓，所述研磨底座表面配合转动连接有转杆，所述转杆表面焊接有研磨块，所述研磨块表面均匀安装有研磨凸起，所述研磨块表面均匀安装有研磨纹，所述研磨仓表面贯穿有水管，所述水管表面安装有循环泵，所述水管表面配合滑动连接有循环管，通过研磨仓和研磨块的相互配合，让石墨烯能在研磨仓内进行循环的进行研磨并且研磨时逐渐增大压力防止了被强行破坏而造成的成品的损坏，并且通过循环管进行循环连续的进行研磨，增大了研磨的效率。
一种用于连续制备石墨材料胶体磨装置

[发明专利]研磨方法及研磨垫的温度调整区域的决定方法-CN201410424687.1有效
发明人：丸山徹;松尾尚典;本岛靖之 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2014-08-26 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：本发明提供一种通过调整研磨垫的表面温度可使研磨率提高，并且也可控制研磨的基板的研磨轮廓的研磨方法及研磨装置。将基板按压在研磨台上的研磨垫上来研磨基板的研磨方法具备：研磨垫(3)的表面温度调整工序，其是调整研磨垫(3)的表面温度的工序；及研磨工序，其是在调整后的表面温度下将基板按压在研磨垫(3)上来研磨基板；研磨垫(3)的表面温度调整工序，为调整基板接触的研磨垫(3)的一部分区域的表面温度，以使在研磨工序中，在研磨垫(3)的表面的径向上的温度轮廓的温度变化率在研磨垫径向保持一定。
研磨方法装置

[发明专利]研磨装置-CN201910120242.7有效
发明人：丸山徹;松尾尚典;本岛靖之 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2014-08-26 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：本发明提供一种通过调整研磨垫的表面温度可使研磨率提高，并且也可控制研磨的基板的研磨轮廓的研磨方法及研磨装置。将基板按压在研磨台上的研磨垫上来研磨基板的研磨方法具备：研磨垫(3)的表面温度调整工序，其是调整研磨垫(3)的表面温度的工序；及研磨工序，其是在调整后的表面温度下将基板按压在研磨垫(3)上来研磨基板；研磨垫(3)的表面温度调整工序，为调整基板接触的研磨垫(3)的一部分区域的表面温度，以使在研磨工序中，在研磨垫(3)的表面的径向上的温度轮廓的温度变化率在研磨垫径向保持一定。
研磨装置

[发明专利]表面研磨方法、工件、沉积设备和研磨站-CN202210023325.6有效
发明人：刘晓刚;黄来国;刘超;李仁杰;权太植;蔡广云 -专利权人：合肥微睿光电科技有限公司
申请日： 2022-01-10 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： B24B7/24 文献下载
摘要：本发明涉及研磨技术领域，公开一种表面研磨方法、工件、沉积设备和研磨站。该表面研磨方法包括：提供研磨装置，研磨装置包括连接臂、研磨头承载装置和研磨头，研磨头承载装置包括能够进行摆动的承载板，研磨头安装在承载板上，研磨头包括能够转动的研磨盘组件；研磨时，连接臂移动以使得研磨盘组件接触待研磨表面，承载板进行摆动以带动研磨头摆动，同时研磨盘组件转动，并且连接臂移动以带动研磨头承载装置沿着待研磨表面以预定移动路径移动，以使得研磨盘组件对待研磨表面进行研磨作业，以能够进行自动化研磨，使得表面均匀性和生产效率都能得到质的提升，使得表面的光泽度、粗糙度都能有效达到特定要求，同时品质重现性良好，返工率显著降低。
表面研磨方法工件沉积设备

[发明专利]研磨产品及其制造方法-CN201680032783.9在审
发明人： S.林德瓦尔;M.森德尔 -专利权人： KWH米尔卡有限公司
申请日： 2016-05-25 - 公布日： 2018-02-13 - 主分类号： B24D3/00 文献下载
摘要：本发明涉及具有研磨表面的研磨产品、研磨产品带、研磨产品卷以及用于制造研磨产品的方法。根据实施例的研磨产品包括背衬和研磨表面。研磨表面至少包括第一研磨区域和第二研磨区域，其中，第一研磨区域的研磨特性不同于第二研磨区域的研磨特性。
研磨产品及其制造方法

[实用新型]利用光辅助的化学机械研磨装置及研磨系统-CN202022924723.4有效
发明人：郑雯;郭顺华 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2020-12-09 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本申请公开了一种利用光辅助的化学机械研磨装置及研磨系统，涉及化学机械研磨装置相关技术领域，该装置包括固定平台、用于承载待研磨物的承载台、研浆管道、紫外光源和研磨装置；研浆管道用于在待研磨表面上供应研浆；紫外光源位于承载台上方，在研浆铺设在待研磨表面后，紫外光源照射待研磨表面，并使该待研磨表面光化学改性；研磨装置包括研磨头，研磨装置使研磨头与待研磨表面接触并施加预定研磨压力，以及驱动研磨头按照预设路径运动本申请利用紫外光源辅助待研磨物的研磨制程，使紫外光源对待研磨表面进行光化学改性，提高了待研磨表面的氧化速率，进而提高研磨速率，降低研浆的使用量。
利用辅助化学机械研磨装置系统

[发明专利]研磨装置-CN201310239374.4有效
发明人：杨顺 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2013-06-17 - 公布日： 2013-09-25 - 主分类号： B24B21/06 文献下载
摘要：本发明公开一种研磨装置，用于面板（300）的研磨，该研磨装置包括：研磨带（210），夹持所述面板（300）的上表面（310）和下表面（320），以同时研磨所述面板（300）的两面；带传动机构（220），将所述研磨带（210）进行传动；带按压机构，用于将所述研磨带（210）按压于所述面板（300）的上表面（310）和下表面（320）。本发明的研磨装置，只使用一根研磨带对面板的上表面和下表面同时进行研磨，减少一次研磨周期耗用的研磨带数量，节约了生产成本，而且一根研磨带同时转动，使得研磨带对面板的上表面和下表面施加均匀的力，提高面板的两表面的平整度
研磨装置

[实用新型]晶圆研磨装置和研磨垫-CN202022436959.3有效
发明人：李兆松;魏健蓝;毛晓明;高晶 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种晶圆研磨装置和研磨垫。所述晶圆具有待研磨表面以及晶边表面，所述晶圆研磨装置包括研磨平台、晶圆载具、研磨垫和晶边研磨部。晶圆载具用以承载晶圆。研磨垫放置于所述研磨平台上，用以研磨所述晶圆的所述待研磨表面。晶边研磨部设置在所述研磨垫边缘，用于研磨所述晶圆的所述晶边表面。
研磨装置

[实用新型]一种巧克力加工的粉料研磨装置-CN202120856770.1有效
发明人：许明发;许嘉伟;豆秀丽;张双双;王甫龙;严旭;魏珊珊;郭培培 -专利权人：安徽省甘滋罗生物科技有限公司
申请日： 2021-04-22 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： B02C7/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种巧克力加工的粉料研磨装置，包括粉碎箱体，粉碎箱体内部设置有研磨腔，研磨腔内表面两侧向右凸，研磨腔内表面设置有减速电机驱动的与研磨腔内表面适配的研磨盘，粉碎箱体内表面左侧还设置有可拆卸的研磨壁；本实用新型由于研磨腔内表面两侧向右凸，其内表面左侧与研磨盘做功，磨损程度大，设置可拆卸的研磨壁，便于更换，提高研磨效率。
一种巧克力加工研磨装置

[发明专利]轨道表面研磨装置和使用该装置的轨道表面研磨方法-CN201580084579.7在审
发明人：郑宇泰;李秀炯;姜润锡 -专利权人：韩国铁道技术研究院
申请日： 2015-10-26 - 公布日： 2018-07-17 - 主分类号： E01B31/17 文献下载
摘要：本发明涉及一种轨道表面研磨装置，其能够由操作者搬运和使用，能够根据轨道的弯曲形状在使磨石倾斜的同时研磨轨道表面，能够在进行研磨的同时测量轨道表面的研磨精度，并且也能够应用于槽形轨道；以及使用所述轨头表面研磨装置的轨头表面研磨方法
轨道表面研磨研磨装置轨头表面槽形轨道弯曲形状磨石搬运测量轨道应用

[实用新型]一种塔式生产线的原料研磨装置-CN202220660903.2有效
发明人：蔡春鹏;林亚聪 -专利权人：协宝（重庆）建材股份有限公司
申请日： 2022-03-24 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： B02C23/00 文献下载
摘要：一种塔式生产线的原料研磨装置，包括研磨机座、研磨底座、夹座、研磨架、驱动组件和研磨盘，所述研磨底座安装在研磨机座上表面中间位置，所述夹座对称安装在研磨底座内部，所述研磨机座上表面固定连接研磨架，所述驱动组件插接在研磨架表面，且驱动组件的传动端与研磨盘传动连接，所述研磨机座表面设置有凹槽，且研磨机座的凹槽位置插接有防护罩，所述防护罩表面固定连接电动推杆。在研磨机座表面插接防护罩，防护罩位于研磨底座外部，物料摆放在研磨底座表面并使用夹座夹紧固定，在进行研磨作业之前，通过电动推杆纵向抬升防护罩，防护罩对研磨底座的工作区域进行遮挡防护，有效地降低噪音，提高工作环境的舒适度
一种塔式生产线原料研磨装置

[实用新型]一种新型超微粉粹机的研磨罐-CN202320053690.1有效
发明人：王宜亮 -专利权人：淄博金藏新材料科技有限公司
申请日： 2023-01-09 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： B02C7/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型超微粉粹机的研磨罐，包括研磨罐，研磨罐的底部呈对称安装有四组支腿，研磨罐的内部转动安装有转动杆，且转动杆的一端连接有驱动电机，驱动电机通过支架固定安装于研磨罐的顶部，通过驱动电机输出轴带动上研磨盘和下研磨盘转动，通过两组研磨块上下两端表面设置的第二研磨齿分别与上研磨盘下表面第一研磨齿和下研磨盘上表面第三研磨齿配合，对通过进料斗进入到研磨罐的淀粉原料进行初次研磨，初次研磨后的淀粉原料随着下研磨盘转动落入到研磨板的上表面，通过研磨板上表面设置的第四研磨齿与下研磨盘下表面设置的第三研磨齿配合，对淀粉原料进行进一步研磨，使淀粉研磨彻底，达到研磨要求。
一种新型超微粉粹机研磨

[实用新型]磨砂轮-CN201320207914.6有效
发明人：罗玉文 -专利权人：梅州市南宇磨具有限公司
申请日： 2013-04-23 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： B24D5/00 文献下载
摘要：一种磨砂轮，包括轮轴和套于轮轴的研磨部，所述研磨部包括两个研磨体，两所述研磨体成阶梯设置。故使用本实用新型的磨砂轮研磨具有阶梯式表面的产品时，两个研磨体可以分别与被研磨产品的阶梯式表面接触，同时研磨被研磨产品的两个表面，这样可以提高研磨效率。且同时研磨被研磨产品的两个阶梯式表面，不会出现研磨其中一个表面时刮花另一个表面的情况，因而本实用新型的磨砂轮具有较好的研磨效果。
磨砂

[发明专利]化学机械研磨设备-CN202111489311.5有效
发明人：熊超;段贤明 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2021-12-07 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：本申请提供了一种化学机械研磨设备。该化学机械研磨设备包括壳体、设置有研磨垫的抛光盘、研磨头和检测装置，其中，壳体具有容纳腔，抛光盘、研磨头和检测装置均位于所述容纳腔内，检测装置用于检测预定表面是否发生形变，预定表面为研磨垫远离抛光盘的表面该化学机械研磨设备中加入了检测装置，检测装置根据检测到的研磨垫的预定表面，确定预定表面是否发生形变，相比现有技术中使用肉眼观察研磨垫的预定表面是否发生形变，不能对研磨垫的表面状态进行实时监控的方案来说，本申请的化学机械研磨设备的检测装置可以对研磨垫的表面进行监控，从而解决了现有技术中缺乏可以监控研磨垫表面状态的方案的问题。
化学机械研磨设备

[发明专利]晶圆表面氧化层的研磨方法-CN201510080427.1在审
发明人：孙涛;沈叶舟;唐强 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2015-02-13 - 公布日： 2016-10-05 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆表面氧化层的研磨方法，将一表面形成有氧化层的晶圆置于研磨头上，所述研磨头施加一定压力使所述晶圆的表面紧压到研磨垫上，所述研磨垫上具有多个同心的环形凹槽；根据要研磨掉的氧化层的厚度，向所述研磨垫注入研磨液，同时选定所述研磨垫上距离研磨垫中心不同位置的凹槽注入相应流量的氨水，并设定研磨头的转速及承载所述研磨垫的转盘的转速，以对所述晶圆表面的氧化层进行研磨，较为合理的设定影响研磨均匀度的因素实现对晶圆表面氧化层的研磨，研磨后的氧化层表面较为平整，研磨掉的厚度较为均匀，提高了产品的良率。
表面氧化研磨方法