专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]视角补偿、视角补偿的制造方法及其应用-CN201610396956.7有效
  • 樫下幸志;德久博昭 - JSR株式会社
  • 2016-06-07 - 2021-03-30 - G02F1/1337
  • 本发明提供一种视角补偿用聚合物组合物,其能够获得液晶显示元件的显示品质的改良效果高的视角补偿。本发明的视角补偿用聚合物组合物是在包括第一光学各向异性层(12)、以及与第一光学各向异性层(12)不同的第二光学各向异性层(13)来作为光学各向异性层,且第一光学各向异性层(12)包括液晶取向(14)及液晶层(15)的视角补偿(10)中,用于形成液晶取向(14),并且在该组合物中含有聚有机硅氧烷作为聚合物成分。本发明另提供一种视角补偿、视角补偿的制造方法及其应用。
  • 视角补偿制造方法及其应用
  • [发明专利]色散补偿结构和近眼显示设备-CN202110170938.8在审
  • 王旭;陈益千;张韦韪 - 深圳惠牛科技有限公司
  • 2021-02-07 - 2021-05-18 - G02B5/30
  • 本发明公开了一种色散补偿结构和近眼显示设备,色散补偿结构包括:相位延迟片和补偿补偿设于相位延迟片的入射光路或出射光路;补偿包括第一补偿和/或第二补偿,在可见光的波段范围内具有第一波长范围和/或第二波长范围,所述第一波长范围不同于所述第二波长范围;在第一波长范围内,相位延迟片的实际相位延迟量大于其理想延迟量,第一补偿满足:在第一波长范围的实际相位延迟量随着波长的增加而减小;在第二波长范围内,相位延迟片的实际相位延迟量小于其理想延迟量,第二补偿满足:在第二波长范围内的实际相位延迟量随着波长的增加而增加。
  • 色散补偿结构显示设备
  • [实用新型]一种具有贴合粘附塑形功能的等效组织补偿组件-CN201921804157.4有效
  • 李艳 - 李艳
  • 2019-10-25 - 2020-10-27 - A61N5/10
  • 本实用新型涉及一种具有贴合粘附塑形功能的等效组织补偿组件,其包括补偿材料和负压抽气装置,所述补偿材料包括位于芯层的基础材料层和覆盖在该基础材料层上、下表面的弹性覆盖层,所述基础材料层为凡士林或石蜡;所述弹性覆盖层为可伸缩弹性树脂;所述补偿材料上表面四周设有延伸至其边缘之外的双面胶宽带,补偿材料上方设有低温热塑板,补偿材料下表面四周边缘内侧设有密封胶圈;所述补偿材料一角设有一圆形的负压过气孔本新型能够使得补偿材料与皮肤表面的紧密贴合,进而达到了让补偿材料完美贴合体表皮肤的效果。
  • 一种具有贴合粘附功能等效组织补偿组件
  • [实用新型]一种高效能的正负显两用液晶显示器-CN202121074679.0有效
  • 李翠新 - 亚世光电(集团)股份有限公司
  • 2021-05-19 - 2021-11-12 - G02F1/1335
  • 本实用新型提供一种高效能的正负显两用液晶显示器,所述的液晶显示器的特点在于:1)所述的下偏光片为TDF型偏光片;2)还包括背光,背光安装在下偏光片的下方;3)所述的上偏光片为复合型偏光片,其下部依次贴有两层补偿:上片补偿和下片补偿,上片补偿的贴片角度为30°,下片补偿的贴片角度为65°,两层补偿之间的补偿夹角为35°。下偏光片采用TDF型偏光片,与背光配合,能够实现正负显两用的显示功能;并且在此基础上,通过上偏光片的两层补偿与液晶光程差配合,可以达到对STN产品的颜色和视角的补偿作用,视角更宽,并且正显时颜色更白,
  • 一种高效能正负两用液晶显示器
  • [发明专利]一种检测掩版与掩台接触面污染的方法-CN201711127716.8有效
  • 金乐群;王彩虹;廖剑锋 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2017-11-15 - 2020-05-01 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种检测掩版与掩台接触面污染的方法,包括:S1:提供掩版和晶圆,所述掩版安放在光刻机的掩台上与所述晶圆对准;S2:收集掩版的对准补偿参数的参考值;S3:多次重复步骤S1和S2,从而收集到多个对准补偿参数的参考值,根据收集到的多个对准补偿参数的参考值设置对准补偿参数的上限值和下限值;S4:重复步骤S1,收集此次对准的对准补偿参数值,如果所述对准补偿参数值超出其上限值或下限值,则光刻机停止工作并清洗掩台或者掩版;如果所述对准补偿参数在其上限值与下限值之间,则光刻机继续进行工作。本发明所提供的检测掩版和掩台接触面污染的方法,可以实时监控掩版和掩台接触面的情况。
  • 一种检测掩膜版掩膜台接触面污染方法

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