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[发明专利]BOPP膜厚均匀度控制方法-CN201710429685.5有效
发明人：邹细勇;王月真;陈利红 -专利权人：中国计量大学
申请日： 2017-05-28 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： B29C48/92 文献下载
摘要：本发明公开了一种BOPP膜厚均匀度控制方法，周期性地采集薄膜厚度，获取从薄膜测厚仪输出的薄膜剖面图像，基于该图像提取膜厚曲线上挤出机模头各螺栓位置对应的厚度值，对中部螺栓计算其所对应位置的厚度偏差及其左右临近螺栓所对应位置的厚度偏差均值基于模头唇口开度控制的专家操作经验，本发明通过模糊控制实现了模头相邻螺栓之间的解耦，使得BOPP薄膜在生产中能保持厚度的均匀与稳定。
bopp 均匀控制方法

[发明专利]薄膜成形设备及方法-CN00137513.X有效
发明人：山崎舜平;福永健司 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2000-12-27 - 公布日： 2001-07-04 - 主分类号： H05B33/10 文献下载
摘要：提供了一种用于形成膜厚非常均匀的薄膜的设备。使用的是一个蒸发源,在蒸发源中有一个或多个具有纵向的蒸发单元,而通过沿与蒸发源的纵向垂直的方向移动蒸发源,就可以在基片上沉积薄膜。通过增大蒸发源的长度,可以提高纵向上膜厚的均匀度。移动蒸发源,在整个基片上进行薄膜成形,因而整个基片上的膜厚均匀度就可以提高。
薄膜成形设备方法

[发明专利]显示装置的制造方法-CN200510128685.9有效
发明人：山崎舜平;福永健司 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2000-12-27 - 公布日： 2006-06-21 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：提供了一种用于形成膜厚非常均匀的薄膜的设备。使用的是一个蒸发源，在蒸发源中有一个或多个具有纵向的蒸发单元，而通过沿与蒸发源的纵向垂直的方向移动蒸发源，就可以在基片上沉积薄膜。通过增大蒸发源的长度，可以提高纵向上膜厚的均匀度。移动蒸发源，在整个基片上进行薄膜成形，因而整个基片上的膜厚均匀度就可以提高。
显示装置制造方法

[发明专利]改善原子层沉积膜厚均匀度的方法和用于承载晶圆的晶舟-CN201810446713.9有效
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-05-11 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明提供一种改善原子层沉积膜厚均匀度的方法、电容器的制造方法、用于承载晶圆的晶舟及原子层沉积炉管，其中改善原子层沉积膜厚均匀度的方法，包括：提供用于承载晶圆的晶舟，包括将顶部稳流件可抽取式地插入第一凹槽包括将多个晶圆中的每一个可抽取式插入第三凹槽；进行原子层沉积工艺，包括由原子层沉积炉管的气体注射器排入制程气体，经由所述晶舟沉积于多个晶圆以形成薄膜，顶部稳流件和底部稳流件改善制程气体在晶舟的顶部和底部的气体流布均匀度本发明可以改善沉积膜厚均匀度，降低微尘污染，并提升良率。
改善原子沉积均匀方法用于承载

[发明专利]BOPP膜厚均匀度控制器-CN201710429702.5有效
发明人：邹细勇;王月真;胡晓静 -专利权人：中国计量大学
申请日： 2017-05-28 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： G05B13/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种BOPP膜厚均匀度控制器，其包括膜厚图像拾取模块、图像处理模块和计算与输出模块，其中膜厚图像拾取模块捕获测厚仪输出的薄膜剖面图像；由图像处理模块获取标记有模头螺栓位置的薄膜剖面厚度值集合基于模头唇口开度控制的专家操作经验，本发明通过模糊控制实现了模头相邻螺栓之间的解耦，使得BOPP薄膜在生产中能保持厚度的均匀与稳定。
bopp 均匀控制器

[发明专利]氮化硅膜层剥离过程中调控多晶硅膜层之膜厚的方法-CN201811216532.3有效
发明人：徐兴国;姜波;张凌越 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2018-10-18 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开一种氮化硅膜层剥离过程中调控多晶硅膜层之膜厚的方法，包括：步骤S1：提供硅基衬底，并沉积底层耦合氧化物膜层、多晶硅膜层、氮化硅膜层；步骤S2：配制含有HNO3溶液的H3PO4溶液；步骤S3：将其浸入溶液；步骤S4：根据多晶硅膜层的蚀刻量，调控多晶硅膜层之膜厚和均匀度。本发明根据多晶硅膜层的刻蚀率要求进行溶液之质量配合比设置，依据多晶硅膜层之膜厚及刻蚀后目标厚度值进行浸入高度设置，以及根据多晶硅膜层的刻蚀量及前馈量测的多晶硅膜层之厚度设置工艺制程时间，以实现氮化硅膜层的剥离和准确的控制多晶硅膜层的膜厚及均匀度，不仅操作简单、实施方便，而且可以通过多晶硅膜层的厚度和均匀度控制极大的提升产品良率，值得业界推广应用。
氮化硅膜层剥离过程调控多晶方法

[实用新型]一种塑料吹膜机的冷却水环-CN01215359.1无效
发明人：陈新辉;田德中;杨开和 -专利权人：马镇鑫
申请日： 2001-02-27 - 公布日： 2001-12-19 - 主分类号： B29C55/28 文献下载
摘要：这种形状使冷却水对塑料膜的冷却均匀度得到有效的提高从而有效地提高了塑料膜厚的均匀度、光亮度、平整度等物理指标。
一种塑料吹膜机冷却水

[发明专利]半导体工艺设备及其晶舟旋转速度的确定方法-CN202310622414.7在审
发明人：程诗垚;史小平;翟立君 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：该方法包括：获取目标晶圆在预设晶舟转速下一次薄膜沉积的第一膜厚分布数据；根据第一膜厚分布数据和薄膜沉积周期，对目标晶圆进行多个不同的晶舟转速下的M次薄膜沉积的膜厚分布计算，得到多个第二膜厚分布数据，M为大于或等于第一预设阈值的正整数；计算并比对所有第二膜厚分布数据的均匀度值，找出均匀度值最小的第二膜厚分布数据对应的晶舟转速作为目标晶舟转速。本技术方案，其可大大减少实验时间和实验耗材的同时，大大提升实验效率，以及确保晶舟在薄膜沉积过程中能以最优转速旋转，进而大大提升产品的薄膜沉积均匀性。
半导体工艺设备及其旋转速度确定方法

[发明专利]压印系统的膜厚均匀度控制方法-CN201310477489.7在审
发明人：陈赞仁;邱建清;施誌华 -专利权人：东捷科技股份有限公司
申请日： 2013-09-30 - 公布日： 2015-04-15 - 主分类号： B29C43/18 文献下载
摘要：本发明提供一种压印系统的膜厚均匀度控制方法，其包括下列步骤：首先，提供一压印系统及一基板。压印系统包括一压印软模、一载台及一供气控制设备。接着，载台承载基板。随后，于压印软模的工作区提供一胶体。然后，将载台与压印软模相互压合，以使基板抵压胶体，并借由供气控制设备对载台的气体通道供应一正压气体，以使基板的部分变形挤压胶体，来控制形成于基板上的一压印膜的厚度均匀度，压印膜是由胶体形成。
压印系统均匀控制方法

[发明专利]一种提升栅氧膜厚均匀性的方法-CN202010992800.1在审
发明人：周春;沈耀庭;成鑫华 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2020-09-21 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：本发明提供一种提升栅氧膜厚均匀性的方法，在N个衬底样品上进行离子注入，形成阱区；分别在N‑1个衬底样品阱区表面掺杂相同能量、不同剂量的氮离子形成氮掺杂层；对N‑1个衬底样品退火以激活氮掺杂层中的氮离子；分别在没有氮掺杂层的衬底样品阱区上及N‑1个衬底样品的氮掺杂层上生长栅氧；量测栅氧的膜厚和均匀度；选择均匀度最佳氮离子注入剂量用于新产品的栅氧生长。本发明采用氮离子掺杂改变衬底表面吸热能力从而降低其对氧化的敏感度，进而在相同的温度和时间下生长的氧化膜厚度差异变小，均一性变好的特征，并且进一步地，在氮掺杂能量一定的条件下，在上述膜厚允许的范围内优化出栅氧均匀度最佳的氮掺杂剂量
一种提升栅氧膜厚均匀方法

[发明专利]均匀粉末喷涂装置及其工作方法和粉末喷涂生产线-CN201811614939.1有效
发明人：郭黎晓;郭亦之;杜俊山;张孟杰;徐磊 -专利权人：江苏变色龙微粉技术有限公司
申请日： 2018-12-27 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： B05B12/08 文献下载
摘要：本发明属于涂装设备技术领域，具体涉及一种均匀粉末喷涂装置，包括：至少一个喷枪和出粉调节机构；所述喷枪适于喷出粉末涂料；以及所述出粉调节机构适于调节喷出的粉末涂料的形状、均匀度和数量，再使其喷涂在工件表面，能够控制涂层均匀度和膜厚。
均匀粉末喷涂装置及其工作方法生产线

[发明专利]抛光工艺的控制方法-CN200510137553.2有效
发明人：邓清文;林进坤;梁文中 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2005-12-30 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： H01L21/321 文献下载
摘要：量测薄膜在晶片上的数个区域的膜厚，以得到平均膜厚的分布。之后，依据这些平均膜厚的分布设定一个抛光速率配方。接着，依据此抛光速率配方对该晶片进行抛光工艺。此方法可以改善抛光后膜厚的均匀度，进而提升抛光工艺的效率与晶片的良率。
抛光工艺控制方法

[实用新型]均匀粉末喷涂装置和粉末喷涂生产线-CN201822227334.9有效
发明人：郭黎晓;郭亦之;杜俊山;张孟杰;徐磊 -专利权人：江苏变色龙微粉技术有限公司
申请日： 2018-12-27 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： B05B12/08 文献下载
摘要：本实用新型属于涂装设备技术领域，具体涉及一种均匀粉末喷涂装置和粉末喷涂生产线。其中均匀粉末喷涂装置包括：至少一个喷枪和出粉调节机构；所述喷枪适于喷出粉末涂料；以及所述出粉调节机构适于调节喷出的粉末涂料的形状、均匀度和数量，再使其喷涂在工件表面，能够控制涂层均匀度和膜厚。
粉末涂料均匀粉末喷涂装置均匀度喷出喷枪本实用新型粉末喷涂工件表面涂装设备膜厚喷涂

[发明专利]一种铝型材表面氧化膜厚均匀度的控制设备-CN202011638477.4有效
发明人：刘俊森;张朝军 -专利权人：河南海螺嵩基新材料有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： B24B47/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种铝型材表面氧化膜厚均匀度的控制设备及控制方法，包括底板，所述底板上端左侧和上端右侧分别固定安装有一号侧板和二号侧板，所述二号侧板上部贯穿有驱动装置，所述底板上端中部固定安装有气缸，所述气缸输出端固定安装有推杆本发明所述的一种铝型材表面氧化膜厚均匀度的控制设备，通过气缸、推杆、夹持装置、控制装置和光线发射器的配合安装，可实时监控氧化膜体的厚度值并对氧化膜进行精确抛光操作，便于控制氧化膜厚度；而驱动装置可对铝基材表面的氧化膜体进行均匀的打磨抛光操作，保证抛光表面的均匀性，保证铝型材成型效果。
一种铝型材表面氧化均匀控制设备

[发明专利]用于医疗密封瓶的注吹成型工艺-CN202211444699.1有效
发明人：王辉;许燕 -专利权人：张家港众辉医用塑料科技有限公司
申请日： 2022-11-18 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： B29C49/78 文献下载
摘要：本发明涉及塑料瓶注塑技术领域，尤其涉及一种用于医疗密封瓶的注吹成型工艺，包括在密封瓶脱模后，对密封瓶表面的光洁度进行检测并在判定密封瓶表面的光洁度不符合标准时对熔融的塑化料的均匀度进行检测，并在生产过程中及时调整不符合标准的工艺参数，以使密封瓶表面的光洁度符合标准，同时对密封瓶的壁厚均匀度进行检测并在判定密封瓶的壁厚均匀度不符合标准时根据壁厚不均匀的类型对相关的工艺参数进行调整，以使密封瓶的壁厚均匀度符合标准，提高了本发明所述注吹成型工艺在生产医疗密封瓶时的生产质量和生产效率
用于医疗密封成型工艺

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