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[发明专利]一种监控靶材消耗状况的装置及方法-CN201710285979.5有效
发明人：刘思洋 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2017-04-27 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：一种监控靶材消耗状况的装置，一种监控靶材消耗状况的装置，包括:靶材背板；靶材，所述靶材通过粘合层粘接到所述靶材背板上；回路组件，当所述靶材未消耗至指定程度时，所述回路组件能够与所述靶材构成完整的回路，当所述靶材消耗至指定程度时，所述回路组件无法与所述靶材构成完整的回路。可以实时监控靶材消耗状况，最大程度利用靶材，避免靶材击穿问题发生，提高产品良率和靶材使用效率。
靶材消耗回路组件靶材背板监控产品良率实时监控使用效率粘合层击穿

[实用新型]一种电镀陶瓷靶材用密封保护装置-CN202020629461.6有效
发明人：高明;张花蕊;张虎;陈浩杰 -专利权人：北京航大微纳科技有限公司
申请日： 2020-11-03 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： C25D5/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种电镀陶瓷靶材用密封保护装置，包括包覆靶材(1)的非电镀面的保护套(2)，分别将所述保护套(2)与所述靶材(1)的两个端面压紧的第一盖板(3)、第二盖板(4)，用于固定第一盖板(3)、第二盖板该种保护装置在电镀过程中，对陶瓷靶材的非电镀面具有良好的密封保护效果。
一种电镀陶瓷靶材用密封保护装置

[实用新型]溅射式镀膜机用靶材结构-CN200420011041.2无效
发明人：张向东 -专利权人：河南中光学集团有限公司
申请日： 2004-06-15 - 公布日： 2005-10-12 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型属于光学镀膜技术领域，是一种溅射式镀膜机用靶材结构。其主要特点是：靶材是由镀膜材料层和电极背板组合构成，其中，镀膜材料层采用条板状的成型镀膜块，电极背板为板块式，并与镀膜块粘合连接，构成一种组合体的块状板式靶材结构。使用该靶材，具有更换方便、镀制膜层均匀、效率高等优点，并可用于加工高精度产品。
溅射镀膜机用靶材结构

[实用新型]一种拼接靶材-CN201721749467.1有效
发明人：黄勇彪;林文宝;刘海燕;李宝英 -专利权人：深圳市众诚达应用材料科技有限公司
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及拼接靶材，包括背板、设置在所述背板上的靶材组合件；所述靶材组合件包括若干靶材单元；所述若干靶材单元相互拼接形成所述靶材组合件；所述靶材组合四周边缘高度高于所述靶材组合件的中间高度。该拼接靶材通过在背板上设置由若干靶材单元相互拼接形成的靶材组合件，可以满足溅射或者半导体生成过程中对靶材尺寸的要求，另外，该靶材组合件四周边缘的高度高于该靶材组合件的中间高度，形成中间凹陷的结构，使得，溅射过程中，避免溅射粒子向靶材区域外溅射，从而提高了靶材的利用率，避免靶材资源浪费。
靶材组合件拼接靶材背板四周边缘溅射拼接本实用新型靶材区域溅射粒子中间凹陷对靶外溅半导体

[实用新型]脉冲激光沉积系统的靶材装载装置及系统-CN201821635929.1有效
发明人：朱新华;李炳坤;张晓军;陈志强;方安安;姜鹭;潘恒;王岩;王峻岭 -专利权人：深圳市矩阵多元科技有限公司
申请日： 2018-10-09 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本实用新型涉及薄膜制造技术领域，公开了一种脉冲激光沉积系统的靶材装载装置及系统。所述脉冲激光沉积系统的靶材装载装置包括靶材转盘、至少一个靶座、靶座自转齿轮、靶座自转驱动齿轮、靶材挡板、靶材挡板单向轴承、靶材挡板单向轴承座、公转主轴、靶材转盘自转齿轮、靶材转盘单向轴承和驱动机构，所述驱动机构用于驱动所述公转主轴转动以带动所述靶材转盘转动、驱动所述公转主轴转动带动靶材挡板单向转动以使所述靶材转盘上的靶座可正对所述靶材挡板的靶材孔、以及驱动所述靶座自转驱动齿轮带动所述靶座自转齿轮转动以使所述靶座自转。通过控制旋转靶材挡板就方便快捷地实现了靶材的快速切换，提升了薄膜制造的工作效率。
靶材靶座挡板脉冲激光沉积系统转盘公转主轴装载装置自转齿轮转动自转驱动齿轮单向轴承驱动机构驱动薄膜制造技术本实用新型薄膜制造单向转动工作效率控制旋转快速切换转盘转动轴承座正对自转

[实用新型]一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶-CN200520011542.5无效
发明人：刘阳 -专利权人：北京实力源科技开发有限责任公司;刘阳
申请日： 2005-04-08 - 公布日： 2007-02-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：这种磁控溅射靶的靶材为圆管形或圆盘形或圆环形，可绕其中心轴线旋转，在旋转所经过的部分圆周区域用屏蔽壁形成局部空间，其中充入惰性气体；通过内部磁场控制，在靶材的圆管形外表面上，形成两组发射方位基本固定的轴向长条形溅射跑道，主溅射电源连接于靶材与镀膜机主阳极之间，进行溅射镀膜，辅助清洗电源连接于靶材与局部空间内的清洗阳极之间，对靶材表面溅射刻蚀清洗。这种磁控溅射靶在较高的反应气体浓度下，也能够保持靶面的溅射工作状态稳定，提高了化合物薄膜的沉积速率，本实用新型还便于对靶材进行离子刻蚀清洗，基本防止了工件表面污染和靶材之间的交叉污染。
一种具有在线清洗功能磁控溅射

[发明专利]一种ITO平面靶快速烧结脱脂方法及其使用的承托板-CN202211420188.6在审
发明人：李帅;尹琳;李叶;李明鸿;林宇鹏 -专利权人：先导薄膜材料（广东）有限公司
申请日： 2022-11-14 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C04B35/453 文献下载
摘要：本发明公开了一种ITO平面靶快速烧结脱脂的方法，属于靶材制备技术领域。该方法通过使用特殊结构的承托板承托ITO平面靶材进行烧结，并配合特定的烧结工艺，不仅可有效解决传统ITO平面靶烧结脱脂过程中耗时长且上下面温差较大的问题，同时不会造成ITO靶材发生额外变形的问题，所得产品翘曲度低本发明还公开了应用于所述方法的ITO平面靶烧结脱脂用承托板。
一种 ito 平面快速烧结脱脂方法及其使用承托

[发明专利]一种铜铬靶材焊接用端面螺纹加工方法-CN202311005525.X在审
发明人：姚力军;潘杰;谢焕焕;凌培文 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2023-08-10 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： B23P13/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种铜铬靶材焊接用端面螺纹加工方法，所述加工方法包括如下步骤：对铜铬靶坯焊接用端面依次进行精车削以及螺纹车削；所述螺纹车削中使用的刀片包括50°螺纹刀片；所述精车削中，刀片沿所述铜铬靶坯焊接用端面的直径方向朝所述铜铬靶坯焊接用端面的中心给进；所述螺纹车削中，刀片沿所述铜铬靶坯焊接用端面的直径方向朝所述铜铬靶坯焊接用端面的边沿给进。本发明提供的铜铬靶材焊接用端面螺纹加工方法简单易操作，可以有效缩短工序，节约加工时间；此外通过限定螺纹车削的刀具和工艺参数可以获得强度稳定、形貌规则的端面螺纹，解决螺纹牙底产生积屑瘤的问题。
一种铜铬靶材焊接端面螺纹加工方法

[发明专利]靶材及其制作方法-CN202110580678.1在审
发明人：韩刚;戚延龄;郭若冰;程兴德;韩启航 -专利权人：江苏集萃先进金属材料研究所有限公司
申请日： 2021-05-26 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种靶材及其制作方法，其中，靶材制作方法包括：提供靶材原料，所述靶材原料由多个靶材原料颗粒组成，所述靶材原料颗粒经球形化处理形成；对所述靶材原料进行热等静压工艺处理，形成靶材。所述制作方法能够提高热等静压工艺处理后靶材材料组织均匀性，提高靶材在加工过程中的变形均匀性以及靶材良率，改善形成的靶材致密度，降低制造成本。
及其制作方法

[实用新型]微小空间的二次靶靶材精密切换装置-CN201620498222.5有效
发明人：刘小东;江红;陈光华 -专利权人：深圳市华唯计量技术开发有限公司
申请日： 2016-05-26 - 公布日： 2016-10-19 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：本实用新型公开一种微小空间的二次靶靶材精密切换装置，包括：滑轨座、驱动电机、丝杠、滑块、靶材转动电机、靶材转动块、靶材和靶材限位装置，驱动电机固定在滑轨座上，驱动电机驱动丝杠转动，丝杠驱动滑块在滑轨座上滑动，靶材转动电机固定在滑块上，靶材转动电机带动靶材转动块转动，限位装置限制靶材转动块运动，靶材转动块上安装有靶材且各靶材的安装角度不同。
微小空间二次靶靶材精密切换装置

[实用新型]一种沉积DLC薄膜的磁控溅射镀膜机-CN201921085726.4有效
发明人：王福贞 -专利权人：王福贞
申请日： 2019-07-12 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：在镀膜室的周边安装多个旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶，相邻两个靶的磁极性反向排列，镀膜室内形成闭合磁场。多个旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶的靶材成分有金属靶、化合物靶、石墨靶。在镀膜前用阴极电弧源产生的弧光等离子体中的电子流把氩气电离，用高密度的氩离子流清洗工件。在镀膜时先用金属靶材和化合物靶材镀过渡层膜，然后用石墨靶镀DLC膜。
一种沉积 dlc 薄膜磁控溅射镀膜

[发明专利]一种溅射靶材研磨装置及加工方法-CN202111116516.9在审
发明人：周桂媚;刘佰玲;胡智向;童培云;朱刘 -专利权人：先导薄膜材料（广东）有限公司
申请日： 2021-09-23 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： B24B5/04 文献下载
摘要：本发明涉及靶材加工技术领域，公开了一种溅射靶材研磨装置及加工方法，所述溅射靶材研磨装置包括机架和研磨用砂轮，所述机架的一端可移动地设有尾顶，所述机架的另一端对应所述尾顶可转动地设有工作头，所述工作头上设有工装夹具，所述工装夹具内可拆卸地插接有靶材套筒，所述砂轮可移动地设置在所述工装夹具与所述尾顶之间。采用本发明溅射靶材研磨装置及加工方法，研磨靶材内径时在工装夹具上安装靶材套筒，然后将靶材坯料固定在靶材套筒内进行内表面的研磨，避免了其在研磨过程中的圆跳动，不仅方便对内表面进行研磨，而且研磨外表面时也不用多次研磨，从而提高了对长管形溅射靶材的研磨精度及研磨速率，提高了产品合格率，降低了成本。
一种溅射研磨装置加工方法

[实用新型]一种真空镀膜行业溅射靶材中的铜靶材-CN202122283247.7有效
发明人：王刚 -专利权人：苏州联鑫新材料技术有限公司
申请日： 2021-09-22 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空镀膜行业溅射靶材中的铜靶材，包括靶材背板，所述靶材背板的上表面设置有铜靶材块，所述靶材背板的一侧设置有加压装置，所述铜靶材块的上表面位于铜靶材块的一侧设置有固定定位架，所述靶材背板的上表面位于铜靶材块的另一侧设置有活动定位架本实用新型所述的一种真空镀膜行业溅射靶材中的铜靶材，属于靶材领域，能够对铜靶材块于靶材背板上的位置进行确定，有利于提高铜靶材块焊接位置的准确率，活动定位架和固定定位架对内部区域放置的铜靶材块进行侧向加压，能够提高第一铜靶材与第二铜靶材的贴合程度，降低在焊接过程中第一铜靶材与第二铜靶材晃动导致拼接缝隙扩大的风险。
一种真空镀膜行业溅射中的铜靶材

[发明专利]一种改性钨铌合金靶制备工方法-CN201610656572.4在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：苏州思创源博电子科技有限公司
申请日： 2016-08-12 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种改性钨铌合金靶制备工方法，制作工艺简单，成品质量好，综合性能优良，用物理气相沉积方法使靶材表面金属化改性，解决钨铌合金靶材表面金属化改性这一难题。
一种改性合金制备方法

[发明专利]一种提高利用率的平面磁控溅射靶-CN200910154939.2有效
发明人：范家秋 -专利权人：范家秋
申请日： 2009-11-25 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种提高利用率的平面磁控溅射靶，其特征在于包括靶材磁控管外套，靶材磁控管外套的底面连接盖板，盖板与靶材磁控管外套之间有冷却水，靶材磁控管外套内部放置磁额，磁额中制有通水孔，磁额上安装永久磁铁，靶材磁控管外套上安装靶材条和靶材条外侧有靶材条固定块，靶材条成平行相间排列，靶材条之间互相交叠，靶材条的表面为平整面，在靶材磁控管外套和靶材条固定块外有靶材屏蔽罩，靶材磁控管外套内与磁额相连的永久磁铁的磁极为NSN或者SNS平行排列，并垂直于靶材条的表面
一种提高利用率平面磁控溅射

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