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- [实用新型]灶膛壁用清洗烟腔环及烟腔环组-CN201220229317.9有效
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陈其明
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浙江邦的电器有限公司
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2012-05-18
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2012-12-05
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B08B3/02
- 本实用新型涉及一种灶膛壁用清洗烟腔环及烟腔环组，灶膛壁用清洗烟腔环包括安装在灶膛壁外侧的环形管体，环形管体上设置有供清洗液流入的入口，环形管体的靠近灶膛壁的内缘开设有多个供清洗液喷射出的喷射口。灶膛壁用清洗烟腔环组，包括串联连接的多个灶膛壁用清洗烟腔环，灶膛壁用清洗烟腔环之间的连接部上设置有供清洗液流入的入口，串联构成的灶膛壁用清洗烟腔环组的两端均封闭。灶膛壁用清洗烟腔环组，包括串联连接的多个灶膛壁用清洗烟腔环，串联构成的灶膛壁用清洗烟腔环组的一端作为供清洗液流入的入口，另一端封闭。本实用新型提供一种清洗方便、省时省力的灶膛壁用清洗烟腔环及烟腔环组。
- 灶膛清洗烟腔环烟腔环组
- [发明专利]单环有源的双环耦合共振腔-CN200610143429.1无效
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段子刚;施炜
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深圳大学
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2006-10-27
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2008-04-30
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G02B6/26
- 一种单环有源的电控双环耦合共振腔元器件。它由一个有源环形共振腔、一个无源环形共振腔、一个耦合两环形共振腔的耦合器与另外若干个耦合器组成。两环形共振腔上均制作有电极，分别独立地通过电流注入载流子对光波进行调制，调制速度可达到纳秒以下。有源环形共振腔对光波的强度进行调制的同时，也对光波的相位进行调制，而无源环形共振腔仅调制光波的相位。该元器件实现了增益和波导折射率的分别独立调制，提高了微环共振腔的可调性，使损耗和相位能够同时满足基于微环共振腔的光器件的要求。
- 有源耦合共振
- [发明专利]压环装置及反应腔室-CN201510214695.8有效
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张新云
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2015-04-30
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2018-12-11
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H01L21/687
- 本发明提供一种压环装置及反应腔室，包括压环以及用于带动压环上下移动的支撑件，支撑件包括台阶面，在台阶面上设置有销柱，且在压环上与销柱相对应的位置处设置有第一通孔，销柱穿过与其对应的第一通孔并且高于压环的上表面，销柱上高出压环上表面的位置设置有阻挡件，当支撑件将压环顶起时，压环的上表面与阻挡件的下表面之间具有预设距离H。本发明提供的压环装置，其可以避免压环倾斜或者脱离支撑件，从而可以保证压环能够准确地压住晶片边沿，进而可以避免损坏晶片，确保取放片操作的正常进行。
- 装置反应
- [实用新型]上部改善环及蚀刻腔室-CN201220293484.X有效
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隆均
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中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
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2012-06-20
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2012-12-26
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H01L21/67
- 本实用新型公开了一种上部改善环，包括环状本体，环状本体的上、下表面的内侧端分别设有环形凹口。还公开了一种蚀刻腔室，包括腔体以及位于腔体内的静电卡盘、下部绝缘环和上部改善环，静电卡盘具有向上凸出的中部，向上凸出的中部由下至上依次穿设于下部绝缘环和上部改善环，上部改善环采用如上所述的上部改善环。通过在上部改善环的环状本体的上、下表面的内侧端分别设有环形凹口，当环状本体的上表面或者下表面由于蚀刻工艺的影响变薄或其表面变粗糙或出现小凹槽，致使无法继续使用，就可以继续使用上部改善环的相反面，从而，在不影响上部改善环功能情况下，使上部改善环的使用寿命增加双倍而不会增加材料成本，有效降低上部改善环的使用量。
- 上部改善蚀刻
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