专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种PERC太阳能电池-CN201521132007.5有效
  • 蒋建宝;李科伟 - 无锡赛晶太阳能有限公司
  • 2015-12-30 - 2016-08-10 - H01L31/0224
  • 本实用新型公开一种PERC太阳能电池,其包括硅片、位于硅片上表面的正面氮化钝化和银、位于硅片下表面的氧化铝钝化、位于氧化铝钝化下表面的背面氮化钝化,在背面氮化钝化上间隔开设有若干个开孔,在开孔中填充有腐蚀掉氧化铝钝化后与硅片形成铝硅合金的铝。本实用新型在背面氮化钝化上通过激光开孔方式开孔,孔的深度控制在打穿背面氮化钝化而不打穿氧化铝钝化,然后印刷铝浆,通过烧结工艺,铝浆腐蚀掉氧化铝钝化后与硅片形成铝硅合金,形成良好的欧姆接触。
  • 一种perc太阳能电池
  • [发明专利]PERC太阳能电池及其制备方法-CN201511023431.0在审
  • 蒋建宝;李科伟 - 无锡赛晶太阳能有限公司
  • 2015-12-30 - 2016-04-06 - H01L31/18
  • 本发明公开一种PERC太阳能电池及其制备方法,其中PERC太阳能电池包括硅片、位于硅片上表面的二氧化硅和银、位于二氧化硅上表面的正面氮化钝化、位于硅片下表面的氧化铝钝化、位于氧化铝钝化下表面的背面氮化钝化,在背面氮化钝化上间隔开设有若干个开孔,在开孔中填充有腐蚀掉氧化铝钝化后与硅片形成铝硅合金的铝。本发明在背面氮化钝化上通过激光开孔方式开孔,孔的深度控制在打穿背面氮化钝化而不打穿氧化铝钝化,然后印刷铝浆,通过烧结工艺,铝浆腐蚀掉氧化铝钝化后与硅片形成铝硅合金。本发明在正面氮化钝化与硅片之间制备了二氧化硅,能够有效的解决PERC太阳能电池电位诱导衰减问题。
  • perc太阳能电池及其制备方法
  • [实用新型]PERC太阳能电池-CN201521129987.3有效
  • 蒋建宝;李科伟 - 无锡赛晶太阳能有限公司
  • 2015-12-30 - 2016-07-13 - H01L31/068
  • 本实用新型公开一种PERC太阳能电池,其包括硅片、位于硅片上表面的二氧化硅和银、位于二氧化硅上表面的正面氮化钝化、位于硅片下表面的氧化铝钝化、位于氧化铝钝化下表面的背面氮化钝化,在背面氮化钝化上间隔开设有若干个开孔,在开孔中填充有腐蚀掉氧化铝钝化后与硅片形成铝硅合金的铝。本实用新型在背面氮化钝化上通过激光开孔方式开孔,孔的深度控制在打穿背面氮化钝化而不打穿氧化铝钝化,然后印刷铝浆,通过烧结工艺,铝浆腐蚀掉氧化铝钝化后与硅片形成铝硅合金。本实用新型在正面氮化钝化与硅片之间制备了二氧化硅,能够有效的解决PERC太阳能电池电位诱导衰减问题。
  • perc太阳能电池
  • [发明专利]一种PERC太阳能电池及其制备方法-CN201511022501.0在审
  • 蒋建宝;李科伟 - 无锡赛晶太阳能有限公司
  • 2015-12-30 - 2016-04-06 - H01L31/068
  • 本发明公开一种PERC太阳能电池及其制备方法,其中PERC太阳能电池包括硅片、位于硅片上表面的正面氮化钝化和银、位于硅片下表面的氧化铝钝化、位于氧化铝钝化下表面的背面氮化钝化,在背面氮化钝化上间隔开设有若干个开孔,在开孔中填充有腐蚀掉氧化铝钝化后与硅片形成铝硅合金的铝。本发明在背面氮化钝化上通过激光开孔方式开孔,孔的深度控制在打穿背面氮化钝化而不打穿氧化铝钝化,然后印刷铝浆,通过烧结工艺,铝浆腐蚀掉氧化铝钝化后与硅片形成铝硅合金,形成良好的欧姆接触。
  • 一种perc太阳能电池及其制备方法
  • [实用新型]一种基于钝化接触的太阳能电池片-CN202020490147.4有效
  • 赵保星;时宝;魏青竹;倪志春;连维飞;符欣 - 苏州腾晖光伏技术有限公司
  • 2020-04-07 - 2020-10-27 - H01L31/0216
  • 本实用新型公开了一种基于钝化接触的太阳能电池片法,其制备工艺较为简单。一种基于钝化接触的太阳能电池片,包括硅基体,所述太阳能电池片还包括:第一钝化,其形成于所述硅基体的正面之上;第一多晶/非晶硅,其形成于所述正面钝化之上;第一掺杂氮化,其形成于所述第一多晶/非晶硅之上;第二钝化,其形成于所述硅基体的背面之上;第二多晶/非晶硅,其形成于所述第二钝化之上;及第二掺杂氮化,其形成于所述第二多晶/非晶硅之上;其中,所述第一掺杂氮化和所述第二掺杂氮化中的一者为P型掺杂氮化,另一者为N型掺杂氮化
  • 一种基于钝化接触太阳能电池
  • [发明专利]用于薄膜晶体管的富氮氮化-CN202080061205.4在审
  • 罗德尼·顺隆·利马;金正倍;王家锐;崔羿;任东吉;崔寿永 - 应用材料公司
  • 2020-06-19 - 2022-04-08 - H01L23/29
  • 本公开内容的多个实施方式一般涉及富氮氮化和多个用以沉积富氮氮化的方法,和包含富氮氮化的多个晶体管和其他装置。在一个或多个实施方式中,一种钝化膜堆叠物包含氧化硅,氧化硅设置于工件上;和富氮氮化,富氮氮化设置于氧化硅上。富氮氮化具有约20原子百分比(at%)至约35at%的硅浓度、约40at%至约75at%的氮浓度和约10at%至约35at%的氢浓度。在一个或多个例子中,钝化膜堆叠物包含氧化硅、富氮氮化和第三,第三包含任何类型的氮化,例如是富氮氮化和/或富氢氮化
  • 用于薄膜晶体管氮化

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