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[发明专利]气体阻隔性膜及其制造方法-CN201280034525.6有效
发明人：本田诚 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2012-07-10 - 公布日： 2014-03-19 - 主分类号： B32B7/02 文献下载
摘要：本发明提供具有高的气体阻隔性能的气体阻隔性膜及连续生产率优异的气体阻隔性膜的制造方法。所述气体阻隔性膜为在树脂基材上层叠了至少1层气体阻隔性层的气体阻隔性膜，其中，与该气体阻隔性层邻接的至少1层的硬度及弹性回复率，在利用纳米压痕法的测定时，为0.5GPa≤硬度≤5.0GPa、且50%≤弹性回复率
气体阻隔及其制造方法

[发明专利]气体阻隔性层叠膜-CN201080034077.0有效
发明人：高津洋二;津曲祐美;大川刚;森原芳治;松田修成 -专利权人：东洋纺织株式会社
申请日： 2010-07-27 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： B32B27/28 文献下载
摘要：本发明提供即使在蒸煮袋处理后，气体阻隔性的下降也小、不发生层间剥离的气体阻隔性层叠膜。本发明的气体阻隔性层叠膜，在塑料膜的至少一个表面借助或不借助其他层依次层叠无机薄膜层和气体阻隔性树脂组合物层，上述气体阻隔性树脂组合物层由气体阻隔性树脂组合物形成，该气体阻隔性树脂组合物含有包含乙烯-乙烯醇系共聚物的气体阻隔性树脂和无机层状化合物和添加剂，该气体阻隔性树脂组合物中的无机层状化合物的含量为0.1质量％～9.0质量％，并且上述添加剂为偶联剂和/或交联剂，上述气体阻隔性树脂组合物层的厚度为0.05μm～0.5μm。
气体阻隔层叠

[实用新型]气体阻隔性层叠膜和波长变换片-CN201621233309.6有效
发明人：村田光司;正田亮 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2016-11-17 - 公布日： 2017-06-16 - 主分类号： G02F1/13357 文献下载
摘要：本实用新型提供气体阻隔性层叠膜和波长变换片。上述气体阻隔性层叠膜具有第1阻隔膜，该第1阻隔膜具有第1基材、第1无机薄膜层和第1气体阻隔性被覆层；以及第2阻隔膜，该第2阻隔膜具有第2基材、第2无机薄膜层和第2气体阻隔性被覆层，其中，第1阻隔膜和第2阻隔膜处于以第1气体阻隔性被覆层与第2气体阻隔性被覆层相对置的方式经由粘接层层叠而成的状态，第1无机薄膜层与第2无机薄膜层之间的距离为1.0μm以上。
气体阻隔层叠波长变换

[发明专利]气体阻隔性叠层薄膜及其制造方法-CN200580035390.5有效
发明人：藤井均;秋田纪雄;柴田步;千叶大道;三上浩一;坂元寿 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2005-08-15 - 公布日： 2007-09-19 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种既具有优异的气体阻隔性又具有透明性、耐冲击性也优异的气体阻隔性叠层薄膜及其制造方法。本发明的气体阻隔性叠层薄膜是在基材上设置无机氧化物的蒸镀膜，再在该蒸镀膜上设置气体阻隔性涂布膜而形成的气体阻隔性叠层薄膜，其特征在于，是在基材的、待形成蒸镀膜的表面侧实施预处理或者底涂处理而成，所述的气体阻隔性涂布膜是通过在所述的无机氧化物膜上涂布气体阻隔性涂布液后
气体阻隔性叠层薄膜及其制造方法

[发明专利]气体阻隔性膜-CN201280042577.8有效
发明人：上林浩行;吉田实 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2012-09-04 - 公布日： 2014-04-30 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种高气体阻隔性、并且气体阻隔性的反复再现性优异的气体阻隔性膜。本发明的气体阻隔性膜，其特征在于，是在高分子膜基材的至少一面依次配置有3个无机化合物层即［A］层、［B］层、［C］层的气体阻隔性膜，所述［B］层的厚度为0.2～20nm，且密度比［A］层和［C］层的任何一个的密度都高
气体阻隔

[发明专利]气体阻隔性层叠薄膜-CN201080058534.X有效
发明人：津曲祐美;高津洋二;稻垣京子;大川刚;森原芳治;松田修成 -专利权人：东洋纺织株式会社
申请日： 2010-12-22 - 公布日： 2012-10-31 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种气体阻隔性层叠薄膜，即使在长时间暴露于高温高湿的环境下时，或在蒸煮处理后，气体阻隔性的降低也很少，不会引起层间剥離，具有优异的气体阻隔性及层间密合性。在塑料薄膜的至少一方的表面，夹隔或不夹隔其他层地依次层叠有(A)第一无机薄膜层、(C)气体阻隔性树脂组合物层及(D)第二无机薄膜层，(C)气体阻隔性树脂组合物层由含有包含乙烯-乙烯醇系共聚物的气体阻隔性树脂(a)、无机层状化合物(b)、选自偶联剂及交联剂中的至少1种添加剂(c)而成的气体阻隔性树脂组合物形成，对于无机层状化合物(b)的含量，在气体阻隔性树脂(a)、无机层状化合物(b)及所述添加剂(c)的合计
气体阻隔层叠薄膜

[发明专利]气体阻隔性膜-CN201480057575.5在审
发明人：新真琴;铃木一生 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2014-10-23 - 公布日： 2016-06-08 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供气体阻隔性能优异、构成气体阻隔性膜的层彼此的密合性提高、进而即使将气体阻隔性膜弯曲也抑制气体阻隔性能的下降的气体阻隔性膜。本发明涉及气体阻隔性膜，其依次包含：基材；通过等离子体化学气相生长法形成、含有硅、氧及碳的第1层；和将涂布含有聚硅氮烷的液体而形成的涂膜进行改性处理所得到的第2层，构成上述第1层的最表面的粒子的平均粒径为
气体阻隔

[发明专利]层叠体及包含其的器件-CN201780070736.8有效
发明人：伊藤丰;山下恭弘 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2017-11-17 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：在气体阻隔性膜与粘合剂层层叠而成的层叠膜的最外层具有剥离性膜的层叠体中，在将粘合剂层侧的剥离性膜剥离时，粘合剂层侧的相反侧的剥离性膜会发生剥离，或者产生气泡，或者发生气体阻隔性膜的断裂。本发明提供一种层叠体，其具有气体阻隔性膜、位于该气体阻隔性膜的一个表面的粘合剂层、位于该气体阻隔性膜的另一个表面的剥离性膜1、和位于该粘合剂层的与气体阻隔性膜侧呈相反侧的表面的剥离性膜2，前述气体阻隔性膜具有至少包含挠性基材的基材层、和位于该基材层的一个表面的无机薄膜层，所述层叠体满足式(1)及式(2)。
层叠包含器件

[发明专利]气体阻隔性膜及包含其的器件-CN201780065240.1在审
发明人：大关美保;山下恭弘 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2017-11-06 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于向用于柔性显示器的以防湿为目的的气体阻隔性膜赋予耐光性，从而实现对比气体阻隔性膜更靠下层的器件内部的UV劣化的抑制、及/或对气体阻隔性膜本身的UV劣化的抑制。本发明提供气体阻隔性膜，其依次具有至少包含挠性基材的基材层、无机薄膜层、含有紫外线吸收剂的有机层，其中，前述无机薄膜层含有硅原子、氧原子及碳原子，前述气体阻隔性膜的380nm处的透光率为20％以下。
气体阻隔性膜无机薄膜层劣化紫外线吸收剂柔性显示器对比气体挠性基材硅原子基材层耐光性碳原子透光率氧原子有机层阻隔性下层赋予

[发明专利]涂布液、气体阻隔性层合体-CN200980145685.6有效
发明人：藤村千里;樫村雅之;河口克己 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2009-10-23 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： C09D167/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种无机化合物超细粒子的分散性良好的水性涂布液，并提供一种具有由该涂布液形成的层、透明性及气体阻隔性优异的气体阻隔性层合体。本发明的涂布液含有无机化合物超细粒子、聚酯树脂、聚羧酸钠盐及水，本发明的气体阻隔性层合体为具有基材和形成于基材上的气体阻隔层的气体阻隔性层合体，上述气体阻隔层包含由上述涂布液形成的层(A)及含有聚羧酸类聚合物的层
涂布液气体阻隔合体

[发明专利]气体阻隔性基材、其制造方法、具备该气体阻隔性基材的电子器件-CN201980035362.5在审
发明人：井宏元;牧岛幸宏 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供可采用在成本和生产率上有利的涂布等湿式形成法且具有可用于电子器件的优异的气体阻隔性的气体阻隔性基材、其制造方法、具备该气体阻隔性基材的电子器件。本发明的气体阻隔性基材的特征在于，在基材上至少设置有气体阻隔层，在上述基材与上述气体阻隔层之间具有分子转化层，该分子转化层通过与使用上述气体阻隔性基材的环境下的气体成分的反应而含有释放出氟化物的有机金属氧化物的单体或缩聚物
气体阻隔基材制造方法具备电子器件

[发明专利]气体阻隔性膜的卷体和气体阻隔性膜的制造方法-CN201380074861.8有效
发明人：森孝博 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2013-03-21 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本发明的目的是提供具有高的气体阻隔性、且具有良好的平面性的气体阻隔性膜。本发明是具有基材和气体阻隔性层的气体阻隔性膜的卷体，气体阻隔性层含有硅原子、氧原子和碳原子，将从气体阻隔性层的表面起的距离设为X值，将碳原子的含量相对于硅原子、氧原子和碳原子的合计量的比率设为Y值的碳分布曲线具有极大值和极小值，基材的与配置有气体阻隔性层的一侧为相反侧的面具有500～10000个/mm²的从粗糙中心面起的高度为大于等于10nm且小于100nm的突起A、以及0～500个/mm²的从粗糙中心面起的高度为100nm以上的突起B，并且基材的按照JIS K‑7136测定而得的雾度为1％以下，气体阻隔性膜在特定条件下测定的平面性指标在0～5的范围。
气体阻隔性膜气体阻隔性层碳原子基材硅原子平面性氧原子中心面突起卷体粗糙气体阻隔性碳分布曲线相反侧雾度面具配置制造

[发明专利]用于形成气体阻隔层的涂料组合物、气体阻隔性薄膜以及气体阻隔性薄膜的制造方法-CN201280009610.7有效
发明人：高桥贤一;宇留野学;木村千也;花田和行 -专利权人：大日精化工业株式会社;浮间合成株式会社
申请日： 2012-02-22 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： C09D175/04 文献下载
摘要：本发明提供用于形成气体阻隔层的涂料组合物、气体阻隔性薄膜以及气体阻隔性薄膜的制造方法，所述涂料组合物被构成为以使所述气体阻隔层是以多羟基聚氨酯树脂为主成分来形成的，所述多羟基聚氨酯树脂是通过使具有两个以上五元环环状碳酸酯基的特定化合物以官能团当量比0.8～1.25与具有两个以上氨基的化合物反应而成的，所述气体阻隔性薄膜中，薄膜由单层或多层构成，构成该薄膜的至少一层为显示出气体阻隔性的气体阻隔层，并且该层由具有特定化学结构的多羟基聚氨酯树脂形成。根据上述本发明，通过使用特有的多羟基聚氨酯树脂，提供简便、气体阻隔性相对于湿度的变化少、在焚烧时不会产生有害气体、加工性优良、能够降低环境负荷本身的用于形成气体阻隔层的涂料组合物、气体阻隔性薄膜以及气体阻隔性薄膜的制造方法
用于形成气体阻隔涂料组合薄膜以及制造方法

[发明专利]气体阻隔性层叠体及包装体-CN202180084286.4在审
发明人：原田友昭;加贺谷浩之;林正宪 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2021-12-16 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B65D65/40 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种气体阻隔性层叠体，其能够以简便的工序来制造，且即使在高湿度下也可获得稳定的气体阻隔性。本发明人等利用层叠有通过气相薄膜形成法而形成的金属层(A)、及利用在结构中具有羧基的化合物而形成的(B)层的气体阻隔性层叠体可获得能够以简便的工序来制造、且即使在高湿度下也可获得稳定的气体阻隔性的气体阻隔性层叠体
气体阻隔层叠包装

[发明专利]气体阻隔性层叠体-CN201680026968.9在审
发明人：铃木信悟;的场太辅;城所雅子;野本晃 -专利权人：三井化学东赛璐株式会社
申请日： 2016-05-16 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： B32B27/34 文献下载
摘要：本发明的气体阻隔性层叠体(100)具备基材层(101)；和气体阻隔性聚合物层(103)，所述气体阻隔性聚合物层(103)设置于基材层(101)的至少一面上，并且通过对包含多元羧酸及多胺化合物的混合物进行加热而形成
气体阻隔层叠

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