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[发明专利]气体处理-CN201480045090.4有效
发明人： I·惠比特;B·施瑞娜 -专利权人：兰德股份公司
申请日： 2014-08-13 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： C01B17/04 文献下载
摘要：本发明涉及气体处理。具体来说，本发明涉及含硫化氢气体流的处理和用于进行所述方法的设备。
气体处理

[发明专利]气体处理方法、气体处理装置-CN202080047461.8在审
发明人：内藤敬祐 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B01D53/00 文献下载
摘要：本发明提供一种气体处理方法和气体处理装置，其能够使用主发光波长为180nm以下的紫外线来有效地处理含有VOC的被处理气体。本发明是一种气体处理方法，其是使属于VOC的处理对象物质在空气中混合存在而成的被处理气体在处理空间内流通、并对上述被处理气体进行处理的气体处理方法，其中，在处理空间内配置有射出主发光波长为160nm～180nm的紫外线的光源，经由与光源的光出射区域的相隔距离为10mm以下的间隙，以23m/s以下的流速流通被处理气体。
气体处理方法装置

[发明专利]气体处理方法、气体处理装置-CN202180042886.4在审
发明人：大塚优一;平冈尊宏;三浦真毅;中村谦介 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2021-06-15 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B01D53/72 文献下载
摘要：本发明提供能够通过简便的方法将以几百ppm以下这样的低浓度包含处理对象物质的被处理气体分解的技术。本发明的气体处理方法具有以下工序：使在空气中混杂有在常温下显示出挥发性、属于由碳化合物、氮化合物及硫化合物组成的组中的至少一种的对象物质而成的被处理气体通流至箱体内的工序(a)；向在箱体内被处理气体所通流的空间内在200℃以下导入臭氧的工序(b)；在工序(b)的执行后将被处理气体进行搅拌的工序(c)；和在工序(c)的执行后将被处理气体加热至300℃以上的工序(d)。
气体处理方法装置

[发明专利]气体处理装置、气体处理系统及气体处理方法-CN202080048766.0在审
发明人：内藤敬祐 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2020-07-01 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： B01D53/00 文献下载
摘要：本发明提供一种气体处理装置，能够使用具有200nm以下的波长的光效率地对含有VOC的被处理气体进行处理。气体处理装置具备：光源，辐射具有200nm以下的波长的光；壳体，具有含有VOC和氧的被处理气体的流入口和流出口，并且在所述流入口与所述流出口之间，向距所述光源的光出射面15mm以内的区域引导所述被处理气体而形成气体处理空间；及水分供给机构，向所述气体处理空间与所述流出口之间供给雾状的水分。
气体处理装置系统方法

[发明专利]气体处理装置和气体处理方法-CN201711395621.4在审
发明人：挂川崇;古屋雄一;鸟屋大辅 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-12-21 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种气体处理装置和气体处理方法。气体处理装置包括：将处理气体以喷淋状喷出到基板(W)的气体扩散板(35)；设置在气体扩散板的上方侧，沿着周向分别形成有多个气体排出口(43)的多个气体分散部(41)；和上游侧形成各气体分散部共用的共用流路，下游侧与各气体分散部连接，并且从共用流路至各气体分散部(41)的长度相互一致的处理气体的流路(5)。气体分散部(41)俯视时沿着中心分别绕该扩散空间(36)的中心部设置且沿扩散空间(36)的周向设置的多个第一圆配置，且在每一个第一圆上以与扩散空间的中心部的距离相互不同的方式配置有多个。由此，能够在该基板的面内进行均匀性高的处理。
气体分散气体处理装置扩散空间气体扩散板处理气体共用流路气体处理中心部基板气体排出口方式配置周向设置均匀性喷淋状流路喷出俯视上游配置

[发明专利]气体处理装置和气体处理方法-CN201910733817.2在审
发明人：桑田拓岳;神尾卓史;布重裕;藤井康 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供气体处理装置和气体处理方法。气体处理装置构成为具备：相向部，其与真空容器内的基板的载置部相向，并且具备多个第一气体喷出口；处理气体的第一扩散空间，其在相向部的上方以与各第一气体喷出口连通的方式设置；多个第二气体喷出口，其是在从第一扩散空间的上方与该第一扩散空间相面对的顶部沿上下方向开设出的；处理气体的第二扩散空间，其在顶部的上方以与各第二气体喷出口连通的方式设置；以及多个第三气体喷出口，其是在所述顶部中的开设各第二气体喷出口的区域的外侧沿相对于垂直轴的倾斜比第二气体喷出口相对于垂直轴的倾斜大的斜方向开设出的
气体处理装置方法

[发明专利]气体处理方法和气体处理装置-CN201980058298.2在审
发明人：夏山和都;滨地心 -专利权人：积水化学工业株式会社
申请日： 2019-09-25 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： B01D53/047 文献下载
摘要：本发明涉及一种气体处理方法，其具有：使至少包含二氧化碳和氮的原料气体通过容纳有吸附二氧化碳的吸附材料的吸附部，降低所述原料气体中的二氧化碳浓度的吸附工序；将通过所述吸附工序而降低了二氧化碳浓度的所述原料气体供给至生成有机物质的有机物质生成装置的供给工序；对通过所述吸附部之前或之后的所述原料气体中的二氧化碳浓度和氮浓度或者供给至所述有机物质生成装置的二氧化碳浓度和氮浓度进行测定的监测工序，其中，在所述监测工序中监测得到的二氧化碳浓度和氮浓度的总浓度超过阈值的情况下，所述吸附工序具有提高所述吸附部降低所述原料气体中的二氧化碳浓度的能力的能力调整工序。
气体处理方法装置

[发明专利]气体处理装置以及气体处理方法-CN202080031559.4在审
发明人：内藤敬祐 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2020-05-08 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： A61L9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制附着在吸附臭氧的过滤器的VOC的量、并长期将排出的VOC维持在低浓度的气体处理装置以及气体处理方法。气体处理装置在对从进气口进气的含有VOC及氧的处理对象气体进行处理之后，从设置在与进气口不同的位置的排气口排气，该气体处理装置具备：气体流路，构成为连接进气口与排气口；送风装置，使处理对象气体从进气口侧朝向排气口侧流通；紫外线光源，配置于气体流路内，放射波长为230nm以下的紫外线；过滤器，在气体流路内，配置于比紫外线光源靠排气口侧，至少吸附臭氧；以及控制部，进行送风装置的动作控制，控制部在开始从紫外线光源放射紫外线之后
气体处理装置以及方法

[发明专利]气体处理方法和气体处理装置-CN202080032955.9在审
发明人：松井一真 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2020-07-16 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： B01D53/04 文献下载
摘要：本发明提供一种能有效去除溴氟乙烯的气体处理方法和气体处理装置。通过使含有溴氟乙烯的气体，在0℃以上且低于120℃的温度环境下接触具有平均细孔径0.4nm以上4nm以下的细孔的吸附剂(7)，使溴氟乙烯吸附于吸附剂(7)，而从前述气体中分离溴氟乙烯。
气体处理方法装置

[发明专利]气体处理方法以及气体处理装置-CN202080038216.0在审
发明人：前田基秀;岸本启;中西健;町田洋;山口毅;则永行庸 -专利权人：株式会社神户制钢所;国立大学法人东海国立大学机构
申请日： 2020-04-10 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： B01D53/14 文献下载
摘要：本发明一个方面涉及气体处理方法，其包括以下步骤：吸收步骤，通过使含有二氧化碳和硫化合物的被处理气体与通过吸收二氧化碳而进行相分离的吸收液接触，从而使所述吸收液吸收所述二氧化碳和所述硫化合物；以及第一释放步骤，通过将与所述被处理气体接触后的吸收液加热至被吸收到所述吸收液中的二氧化碳从所述吸收液释放的温度以上且低于被吸收到所述吸收液中的硫化合物从所述吸收液释放的温度，从而使所述二氧化碳从所述吸收液释放出来。
气体处理方法以及装置

[发明专利]气体处理装置及气体处理方法-CN202080048764.1在审
发明人：内藤敬祐 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2020-07-01 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： B01D53/00 文献下载
摘要：本发明提供一种气体处理装置，在使用主要的峰值波长为160～180nm的光来分解含有VOC的被处理气体时，使水分的效率的供给方式及供给量明确，并以该供给方式及供给量来供给水分。气体处理装置具备：气体混合空间，将含有VOC及氧的第一气体和含有水蒸气的第二气体混合，生成含有9g/m3以上的水蒸气的被处理气体；光源，辐射主要的峰值波长为160～180nm的光；及气体处理空间，将所述被处理气体引导到距所述光源的光出射面10mm以内的区域，并对引导到所述区域的所述被处理气体照射所述光。
气体处理装置方法

[发明专利]气体处理方法以及气体处理装置-CN201810359946.5有效
发明人：岸本启;松冈亮;秋山胜哉;西村真;町田洋;山口毅;江崎丈裕;堀添浩俊 -专利权人：株式会社神户制钢所;国立大学法人名古屋大学
申请日： 2018-04-20 - 公布日： 2021-04-27 - 主分类号： B01D53/18 文献下载
摘要：本发明提供一种气体处理方法以及气体处理装置。气体处理装置使用包含溶解于水而生成酸的酸性化合物的被处理气体和通过吸收酸性化合物而相分离的处理液，从被处理气体分离酸性化合物。气体处理装置包括：使被处理气体接触于处理液的吸收器；加热与被处理气体接触后的处理液，使酸性化合物分离的再生器；以及将在吸收器与被处理气体接触后的处理液输送到再生器的送液部。在吸收器，与被处理气体接触后的处理液相分离为酸性化合物的含有率高的第一相部分和酸性化合物的含有率低的第二相部分。送液部在相分离的第一相部分和第二相部分被混合的状态下将处理液导入到再生器内。
气体处理方法以及装置

[发明专利]气体处理方法及气体处理装置-CN201880075687.1有效
发明人：岸本启;秋山胜哉;町田洋;山口毅;江崎丈裕;则永行庸 -专利权人：株式会社神户制钢所;国立大学法人东海国立大学机构
申请日： 2018-11-12 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： B01D53/14 文献下载
摘要：气体处理方法包括：吸收工序，使包含二氧化碳等酸性化合物的被处理气体与吸收酸性化合物的处理液在吸收器(12)内接触；和再生工序，将吸收了酸性化合物的处理液输送到再生器(14)中，对处理液进行加热，从该处理液分离酸性化合物在再生工序中，使氢气等几乎不溶于处理液的气体与处理液接触。
气体处理方法装置

[发明专利]气体处理装置及气体处理方法-CN200710100810.4无效
发明人：加藤利明;后藤清一;今村启志 -专利权人：康肯科技股份有限公司
申请日： 2007-04-18 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：本发明提供一种气体处理装置，其采用将氮用作工作气体的大气压等离子体，能够热分解处理对象气体而不副产氮氧化物。对于围绕大气压等离子体P及向大气压等离子体P供给的处理对象气体F、其内部具有进行处理对象气体F的热分解的反应器22、使用氮气作为工作气体G的等离子体分解机12，设置在含有从等离子体分解机12排出的热分解后的处理对象气体F与工作气体G的排气R中不混入氧和水分的状态下，将排气R冷却到至少不生成氮氧化物的温度的冷却部14，从而制成解决了上述课题的气体处理装置10。
气体处理装置方法

[发明专利]气体处理方法及气体处理装置-CN201780067477.3在审
发明人：赵文卿;朴柱勇;崔惠知;沈亨度;权雨泽;张世得;崔汉永 -专利权人：株式会社POSCO
申请日： 2017-10-30 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： B01D53/52 文献下载
摘要：根据本发明的气体处理方法包括：将待处理气体和氨气混合而成的混合气体供应至二氧化碳捕集器，通过冷却混合气体生成捕集所述二氧化碳的碳酸铵盐，由此从所述待处理气体中分离所述二氧化碳的过程；以及，从分离二氧化碳后从所述二氧化碳捕集器排出的待处理气体中捕集硫化氢因此，根据本发明实施方式的气体处理装置通过在捕集硫化氢之前选择性地捕集二氧化碳，能够提高硫化氢捕集率，进而能够提高所生产的硫化氢钠的品质。
硫化氢捕集处理气体二氧化碳氨气二氧化碳捕集气体处理装置混合气体硫化氢钠气体处理分离二氧化碳碳酸铵盐器排冷却生产

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