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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]极间式靶材阴极装置-CN201620312480.X有效
发明人：叶崇宇;苏晖家;叶承朋;颜嘉宏;黄琬瑜;卢木森;黄一原 -专利权人：凌嘉科技股份有限公司
申请日： 2016-04-14 - 公布日： 2016-09-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种极间式靶材阴极装置，包含一个主要磁铁单元、一个靶材及一个辅助磁铁单元。主要磁铁单元包括一个外环磁铁组件与一个具反向延伸的两个端缘的内磁铁组件。靶材设于外环磁铁组件与内磁铁组件间且具一个溅射面及一个相反于溅射面的背面，并包括两个各具反向延伸的第一端缘与第二端缘的主体部与至少一个弯曲部。辅助磁铁单元与靶材间隔设置且相对溅射面靠近背面，并包括至少一个间隔设置于内磁铁组件的该两个端缘中的一者与外环磁铁组件间以邻近弯曲部的第一辅助磁铁组件，令垂直溅射面的磁场强度均匀分布。
极间式靶材阴极装置

[发明专利]一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法-CN202110730485.X在审
发明人：赵勇 -专利权人：苏州光昛智能科技有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及电致变色领域，公开了一种无机电致变色薄膜的溅射镀膜方法，包括以下步骤：制作第一靶材和第二靶材；第一靶材和第二靶材中至少有一个靶材包含电致变色薄膜的主要构成金属元素，至少有一个靶材包含电致变色薄膜所要掺杂的金属元素；将第一靶材和第二靶材分别连接到双极电源的两极；所述双极电源能够发出方波脉冲状的连续式正负电压脉冲；通过调整施加在第一靶材和第二靶材上电压脉冲的宽度比，改变掺杂金属元素在电致变色薄膜中的占比；能够低成本
一种机电变色薄膜溅射镀膜方法

[发明专利]液滴靶产生装置、方法和极紫外光源产生系统-CN202011480518.1在审
发明人：马修泉;张琳;吴寒;闻锦程;王力波;王新兵;左都罗;陆培祥 -专利权人：广东省智能机器人研究院
申请日： 2020-12-15 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种液滴靶产生装置、方法和极紫外光源产生系统，其中，该装置包括靶材盒、限制装置、非接触式加热器和控制器；靶材盒内放置有预设规格的固体靶材，限制装置和所述非接触式加热器依次设置于靶材盒和真空环境中的预设激光击打位置之间的靶材运动路径上；控制器连接限制装置和非接触式加热器，用于控制限制装置限制每次只有一个固体靶材通过；固体靶材通过限制装置后，在外力场的作用下继续沿靶材运动路径运动，在通过非接触式加热器的加热区域时，控制器控制非接触式加热器将固体靶材加热至熔融状态，形成液滴靶。上述液滴靶产生装置，具有成本低的优点。
液滴靶产生装置方法紫外光源系统

[发明专利]磁靶及具有该磁靶的磁控溅射设备-CN200910078077.X有效
发明人：赵鑫;张文余 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2009-02-13 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁靶及具有该磁靶的磁控溅射设备，涉及磁控溅射技术领域，用以改善靶材区域性消耗严重的问题。本发明实施例提供的磁靶，包括固定板和磁铁，而且所述固定板的板面上枢接有绕枢接轴转动的连杆，所述枢接轴排成阵列，且每个连杆的自由端连接有磁铁；所述磁铁包括间插排布的外围S极磁铁和外围N极磁铁。本发明实施例提供的磁靶及具有该磁靶的磁控溅射设备适用于改善磁控溅射设备中靶材区域性消耗严重的问题。
具有磁控溅射设备

[发明专利]旋转式多靶材磁控溅射阴极-CN202011536381.7在审
发明人：李伟 -专利权人：长沙元戎科技有限责任公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及磁控溅射技术领域，提出了旋转式多靶材磁控溅射阴极，包括阳极及磁铁组件，所述阳极上开设有溅射孔，所述磁铁组件与所述阳极之间设置有靶材支架及一组靶材，所述溅射孔与所述靶材之间形成溅射区，所述靶材设置在所述靶材支架上，所述靶材与所述磁铁组件大小适配，任一所述靶材借助所述靶材支架旋转至所述溅射区，只有旋转到磁铁组件正上方的靶材会发生磁控溅射，其他靶材因所处位置处磁场极弱、溅射气流不足，无法起辉溅射，解决了现有技术中一个溅射阴极只能固定一个靶材及无法同一位置溅射不同材料的问题
旋转式多靶材磁控溅射阴极

[实用新型]旋转式多靶材磁控溅射阴极-CN202023140752.8有效
发明人：李伟 -专利权人：长沙元戎科技有限责任公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及磁控溅射技术领域，提出了旋转式多靶材磁控溅射阴极，包括阳极及磁铁组件，所述阳极上开设有溅射孔，所述磁铁组件与所述阳极之间设置有靶材支架及一组靶材，所述溅射孔与所述靶材之间形成溅射区，所述靶材设置在所述靶材支架上，所述靶材与所述磁铁组件大小适配，任一所述靶材借助所述靶材支架旋转至所述溅射区，只有旋转到磁铁组件正上方的靶材会发生磁控溅射，其他靶材因所处位置处磁场极弱、溅射气流不足，无法起辉溅射，解决了现有技术中一个溅射阴极只能固定一个靶材及无法同一位置溅射不同材料的问题
旋转式多靶材磁控溅射阴极

[实用新型]大回路闭合溅射轨迹柱状磁控靶-CN95219498.8无效
发明人：郑世民;范毓殿;李云松 -专利权人：郑世民
申请日： 1995-01-24 - 公布日： 1996-11-06 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种磁控溅射镀膜机所用的大回路闭合溅射轨迹的柱状磁控靶。该柱状靶的靶材为圆管，靶材两端置有N极板和S极板，靶管内部的空腔为水冷通道，中间置有N极靴、N极片、S极靴、S极片和永磁体。本实用新型设计的柱状磁控靶采用平行靶材的轴向的磁路系统，使溅射区与靶管轴向平行且形成大回路闭合溅射轨道，使溅射区沿靶管轴向均匀刻蚀，提高靶材利用率和镀膜均匀性。
回路闭合溅射轨迹柱状磁控靶

[实用新型]大回路闭合溅射轨迹柱状磁控靶-CN95200005.9无效
发明人：郑世民;范毓殿;李云松 -专利权人：郑世民
申请日： 1995-01-24 - 公布日： 1996-07-31 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种磁控溅射镀膜机所用的大回路闭合溅射轨迹的柱状磁控靶。该柱状靶的靶材为圆管，靶材两端置有N极板和S极板，靶管内部的空腔为水冷通道，中间置有N极靴、N极片、S极靴、S极片和永磁体。本实用新型设计的柱状磁控靶采用平行靶材的轴向的磁路系统，使溅射区与靶管轴向平行且形成大回路闭合溅射轨道。使溅射区沿靶管轴向均匀刻蚀，提高靶材利用率和镀膜均匀性。
回路闭合溅射轨迹柱状磁控靶

[发明专利]一种表面金属镀膜设备用靶极系统-CN200610044770.1无效
发明人：毕研文;王乃用;宋小斌;张强;江衍勤 -专利权人：菏泽天宇科技开发有限责任公司
申请日： 2006-06-14 - 公布日： 2006-11-22 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种靶极系统，特别公开了一种表面金属镀膜设备用靶极系统。该表面金属镀膜设备用靶极系统，包括固定轴、与固定轴连接的导磁芯轴，固定轴外为密封室、固定架，固定架的一侧固定有靶极门及防护罩，其特殊之处在于：所述固定轴上固定有传动链轮，传动链轮依次连接转动轴、靶极连接法兰、靶材连接法兰及靶材。本发明由于靶材产生旋转，表面均匀溅射，利用率由原来的10％提高到60％以上。组成了一整套可旋转的真空镀膜靶极，不仅提高了靶材利用率，而且提高了设备效率，延长了设备维护周期，降低了镀膜成本。
一种表面金属镀膜备用系统

[实用新型]一种表面金属镀膜设备用靶极系统-CN200620085536.9无效
发明人：毕研文;王乃用;宋小斌;张强;江衍勤 -专利权人：菏泽天宇科技开发有限责任公司
申请日： 2006-06-14 - 公布日： 2007-07-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种靶极系统，特别公开了一种表面金属镀膜设备用靶极系统。该表面金属镀膜设备用靶极系统，包括固定轴、与固定轴连接的导磁芯轴，固定轴外为密封室、固定架，固定架的一侧固定有靶极门及防护罩，其特殊之处在于：所述固定轴上固定有传动链轮，传动链轮依次连接转动轴、靶极连接法兰、靶材连接法兰及靶材。本实用新型由于靶材产生旋转，表面均匀溅射，利用率由原来的10％提高到60％以上。组成了一整套可旋转的真空镀膜靶极，不仅提高了靶材利用率，而且提高了设备效率，延长了设备维护周期，降低了镀膜成本。
一种表面金属镀膜备用系统

[发明专利]用于实施磁控溅射的磁控管-CN202010619335.7在审
发明人：来华杭;俞峰;刘杰;施成亮;江嘉;周海龙 -专利权人：浙江上方电子装备有限公司
申请日： 2020-06-30 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于实施磁控溅射的磁控管，包括筒状的靶材，靶材内部作为安装室并设置有阴极磁棒，安装室沿靶材轴向间隔排布有多个支撑架，在多个支撑架固定有沿靶材轴向延伸的冷却水管；阴极磁棒包括沿靶材轴向延伸的极靴以及固定在极靴顶面的多个磁块，极靴底面与冷却水管通过间距调节座相连，在极靴顶面还扣设有遮蔽各磁块的密封罩。通过设置间距调节座使得到达靶材上的磁场强度可调节，在极靴顶面设置有密封罩，以保证磁铁在隔绝水的情况下工作。采用本发明，可延长磁控管寿命，提高镀膜质量。
用于实施磁控溅射磁控管

[发明专利]基于固体液体组合靶材的极紫外光源产生装置及光源系统-CN201310015937.1有效
发明人：马蓉;王新兵;左都罗;卢宏;陆培祥 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2013-01-16 - 公布日： 2013-05-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种极紫外光源产生装置，包括聚焦透镜、电机、轴承、温度控制器、液体靶材、器皿和固体靶材；固体靶材位于聚焦透镜的焦平面上，器皿用于放置液体靶材，器皿位于固体靶材的下方，固体靶材部分浸入液体靶材中；温度控制器用于给器皿中的液体靶材加热使之保持液态；轴承位于固体靶材的中心，电机与轴承相连，电机用于驱动固体靶材绕轴承转动，固体靶材转动时粘附液体靶材；工作时，激光光束通过聚焦透镜聚焦后轰击粘附在所述固体靶材上方的液体靶材，激光与液体靶材相互作用产生等离子体，等离子体辐射出极紫外光。
基于固体液体组合紫外光源产生装置系统

[发明专利]用于在真空沉积工艺中在基板上进行材料沉积的设备、用于在基板上进行溅射沉积的系统和用于制造用于在基板上进行材料沉积的设备的方法-CN201680086715.0在审
发明人：细川昭弘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-06-16 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：所述设备包括：靶材支撑件；两个或更多个靶材分段，所述两个或更多个靶材分段由所述靶材支撑件支撑，其中在所述两个或更多个靶材分段的相邻靶材分段之间设有第一间隙；和两个或更多个粘合层部分，两个或更多个粘合层部分的每个粘合层部分将所述两个或更多个靶材分段中的相应靶材分段粘合到所述靶材支撑件，其中相邻靶材分段的粘合层部分由大于所述第一间隙的第二间隙彼此分开。
靶材分段粘合层基板材料沉积支撑件真空沉积工艺彼此分开溅射沉积内容提供粘合支撑制造

[实用新型]定向式圆柱磁控溅射靶-CN201120285696.9有效
发明人：李旭光;罗毅彪;韩成明;王青山 -专利权人：北京清华阳光能源开发有限责任公司
申请日： 2011-08-08 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种定向式圆柱磁控溅射靶，广泛应用于各种涂层的制备设备中，属于薄膜制备技术领域。本实用新型包括靶材、条形永磁体、极靴和120°环形永磁体，其中条形永磁体沿靶的轴向嵌于极靴内，120°环形永磁体安装在极靴的两个端头。其中条形永磁体总共有4列，分为三列溅射工作用条形永磁体和一列清靶工作用条形永磁体。本实用新型的优点是：通过后面的单条清靶工作用永磁体磁钢产生的磁场，在靶材非溅射工作区域形成弱溅射区，由此实现非溅射工作区域的靶材清理工作，提高了溅射过程的稳定性，使得生产过程更为安全、可靠。
定向圆柱磁控溅射

[发明专利]用于脉冲功率装置的颗粒压结式二极管阳极靶及制备方法-CN202111443685.3有效
发明人：胡杨;孙江;蔡丹;张金海;孙剑锋;苏兆锋;赵博文 -专利权人：西北核技术研究所
申请日： 2021-11-30 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提出了一种用于脉冲功率装置的颗粒压结式二极管阳极靶及制备方法，克服了每次实验须更换整个阳极靶的限制，进而减小实验成本，提升阳极寿命。阳极靶包括由一种或多种靶材颗粒压结而成的成型靶；靶材颗粒的材料为钽、碳化钽、石墨、钨、碳化钨或铝，成型靶根据目标射线参数选取不同的靶材颗粒和放置组合进行压结；靶材颗粒直径为0.05～1mm，靶材颗粒之间的间隙＜100μm；成型靶的厚度应至少为靶材颗粒直径的3～4倍。该阳极靶由靶材颗粒经机床压结和轧制成型，在具备长寿命的同时可根据二极管输出指标灵活调整靶物质组分，具有调节输出辐射场辐射品质的能力。
用于脉冲功率装置颗粒结式二极管阳极制备方法

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