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[发明专利]一种离子束传输控制优化方法-CN200610072967.6无效
发明人：罗宏洋;唐景庭;孙勇;王玮琪 -专利权人：北京中科信电子装备有限公司
申请日： 2006-04-07 - 公布日： 2006-11-22 - 主分类号： H01J37/147 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子束传输控制优化方法，包括如下步骤：(1)调节偏转电源，使得聚焦杯获得束流极大值；(2)调节Q1电源，使得聚焦杯获得束流极大值；(3)调节Q2电源，使得聚焦杯获得束流极大值；(4)调节引出电极Y，使得聚焦杯获得束流极大值。其中四极透镜Q1用于X方向聚焦、四极透镜Q2用于Y方向聚焦。本发明可以极大地缩短束流调节时间，提高束流传输率，减少溅射污染并且调整后的束斑形状较好。
一种离子束传输控制优化方法

[发明专利]一种电子帘加速器-CN202211191741.3在审
发明人：李金海;秦成;张立锋;王常强 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2022-09-28 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H05H7/00 文献下载
摘要：本申请涉及电子加速技术领域，提供一种电子帘加速器，电子帘加速器包括电子枪、束斑处理装置和聚焦装置，电子枪包括阴极，阴极具有用于发射电子束流的发射面，电子束流沿Z方向传输；束斑处理装置与电子枪连通，束斑处理装置用于对电子束流进行束斑扩大和均匀化操作；聚焦装置位于束斑处理装置沿Z方向的下游，聚焦装置与束斑处理装置连通，聚焦装置被配置为将电子束流操作为汇聚束或平行束，以辐照物体。本申请通过束斑处理装置扩大束斑并整型为均匀分布，通过聚焦装置对电子束流进行聚焦操作，如此，阴极可以采用发射面发射电子束流，以便通过束斑处理装置和聚焦装置将电子束流处理成电子帘，不需要采用灯丝状的阴极实现电子帘
一种电子加速器

[发明专利]束流发射度自动测量和粒子束聚集自动调节方法与装置-CN02138043.0无效
发明人：吴瑜;余增亮;王绍虎;胡素华;陈斌;张束清;李军;吴李君 -专利权人：中国科学院等离子体物理研究所
申请日： 2002-07-26 - 公布日： 2004-01-28 - 主分类号： G21K1/00 文献下载
摘要：粒子束发射度测量和聚焦透镜的研究始终伴随着加速器的发展而发展。但以往的研究基本上将粒子束测量与聚焦分立，各自单独进行的。本发明是将束流测量和聚焦结合起来，由计算机(PC机)对测量和聚焦同时进行自动控制。由计算机发出测量指令，读取数据，获得发射度参数，经过计算得出所需要的束斑参数和相应的聚焦参数，再将该聚焦参数传给聚焦装置(透镜)，改善束流品质。束流品质提高了，就可能减少束流与瞄准器的碰撞机会，可使现有的束斑缩小至2－3μm或更小。本发明可用于加速器束线自动进行束流监测和束品质改进，特别适用需要小束斑的装置上，也可广泛用于离子光学、电子光学及粒子加速器等领域。
发射自动测量粒子束聚集调节方法装置

[发明专利]一种应用于超高能电子束的束流聚焦传输系统及放疗设备-CN202310566713.3在审
发明人：鲁巍;万阳;郭致远;周兵;华剑飞 -专利权人：清华大学
申请日： 2023-05-18 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本公开涉及一种应用于超高能电子束的束流聚焦传输系统及放疗设备，该系统包括：传输模块与聚焦模块，传输模块中四极铁用于在聚焦出射方向上对进入的电子束流进行发散以及在平行出射方向上对进入的电子束流进行聚焦；传输模块中偏转二极铁用于在平行出射方向上将进入的电子束流偏转指定角度；聚焦模块用于在聚焦出射方向上对传输模块射出的电子束流进行聚焦以及在平行出射方向上对传输模块射出的电子束流进行发散，聚焦模块射出的电子束流中的不同电子以不同位置射入目标对象并聚焦到目标对象内的目标靶区。根据本公开实施例的系统，能够使电子束流进行扁平式聚焦以增加在目标对象内的剂量沉积峰值深度，同时提高了整个束流聚焦传输系统的紧凑性。
一种应用于高能电子束聚焦传输系统放疗设备

[发明专利]一种奥氏体不锈钢管与铌管的焊接方法-CN201510695605.1有效
发明人：罗洪义;秦少鹏;刘国辉;唐显 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2015-10-23 - 公布日： 2015-12-09 - 主分类号： B23K15/04 文献下载
摘要：其特征在于，该方法包括以下步骤：1)焊接接头的设计；2)焊接前预处理；3)焊接；其中焊接是先调整电子束焊机的加速电压为60kV；启动束流开关，并调节束流聚焦斑点中心至焊缝位置并向奥氏体不锈钢工件一侧偏移；然后调节电子束焊机的聚焦电流至0.60～0.62mA，此时束流聚焦斑点在焊缝表面聚焦；转动焊台，将聚焦电流散焦至0.70～0.75mA，并调整束流聚焦斑点为上聚焦；调整束流强度为3～4mA，对焊缝进行预热，预热时间20～25s；调节束流强度至18～20mA，启动焊接开关，焊接10～14s，完成焊接。
一种奥氏体不锈钢管焊接方法

[发明专利]大能散电子束流聚焦扫描方法、系统以及放疗设备-CN202310252560.5在审
发明人：鲁巍;万阳;华剑飞;周兵;郭致远 -专利权人：清华大学
申请日： 2023-03-15 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本公开涉及大能散电子束流聚焦扫描方法、系统以及放疗设备，该方法包括：利用低能过滤模块过滤掉不同发次的大能散电子束流中的低能电子，得到大能散高能电子束流；通过控制发散二极铁与聚焦二极铁产生变化的且方向相反的磁感应强度，使发散二极铁将大能散高能电子束流偏转至不同位置射入聚焦二极铁，并使聚焦二极铁将射入的大能散高能电子束流偏转至不同角度射入目标对象并聚焦到目标靶区。根据本公开实施例，能够利用二极铁对大能散高能电子束流的色散和偏转，将大能散高能电子束流大角度地聚焦于目标靶区内，尤其是在深层的目标靶区并形成剂量峰值，从而降低对目标对象内其他正常组织的照射剂量，且对电子束流的能散容忍度较高
大能散电子束聚焦扫描方法系统以及放疗设备

[发明专利]快速确定电子束焊接参数的方法-CN201010523476.5有效
发明人：王远荣;刘雁斌;魏光明;曾雄辉;刘志远 -专利权人：成都四威高科技产业园有限公司
申请日： 2010-10-29 - 公布日： 2011-01-26 - 主分类号： B23K15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种快速确定电子束焊接参数的方法，包括以下步骤：确定焊接工作距离S，选定加速电压Ua和焊接速度ν；通过临界穿透束流Ic确定焊接电流Ib；通过表面聚焦电流Iof确定聚焦电流If；修正焊接束流Ib本发明的积极效果是：利用电子束焊接束流对焊缝形状的影响较小，焊缝形状随焊接束流变化近似于整体缩放；聚焦电流对焊缝形状影响较大，随聚焦电流的变化，焊缝的熔宽、熔深及成形都急剧变化等规律，率先将试验方法的着重点放在了确定聚焦电流，而非通常重点确定焊接束流，在工程实际应用中具有明显的优势。
快速确定电子束焊接参数方法

[发明专利]一种基于电二极磁铁的电子束聚焦调控装置及方法-CN202211690964.4在审
发明人：铁维昊;邵永纯;李瑞坚;方进勇;黄惠军;周钦;孙静 -专利权人：西安空间无线电技术研究所
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H05H7/04 文献下载
摘要：一种基于电二极磁铁的电子束聚焦调控装置及方法，用于大型电子束加速器的束流精确控制技术。针对地磁场下高能电子束传输轨迹畸变、束流发散等问题，提出了一种基于电二极磁铁的电子束聚焦调控方法：首先，根据地磁场、靶坐标和束流等参数，代入到束流聚焦控制算法进行解算，得到不同能量电子束的发射角度；其次，将解算出来的束流发射角度转换为加速器指向和电二极磁铁的磁场强度和方向；最终，设置两组电二极磁铁的励磁电流幅值或者一组电二极磁铁的励磁电流幅值和旋转结构的旋转角度，从而实现对电子束的聚焦。
一种基于二极磁铁电子束聚焦调控装置方法

[发明专利]准分子激光退火设备-CN201711449637.9在审
发明人：张伟彬;谢锐;曾凡林 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2018-06-22 - 主分类号： B23K26/70 文献下载
摘要：本发明提供一种准分子激光退火设备，用于对基板进行激光退火，包括束流消耗器、聚焦镜片以及激光器，束流消耗器设于基板与激光器之间，聚焦镜片位于束流消耗器与激光器之间，并且位于激光器的激光束照射基板的光路上，聚焦镜片的焦点在激光器的激光束射向基板的光路上并位于基板上，束流消耗器上设有贯穿束流消耗器的透过腔以及与透过腔连通的反射腔，反射腔包括设有反射膜的表面，反射腔的表面朝向基板，激光器产生的激光束通过聚焦镜片聚焦后穿过透过腔射向基板，基板将聚焦后的激光束反射至反射膜，再经反射膜反射回至基板。本发明的准分子激光退火设备解决了束流消耗器温度升高的技术问题。
基板激光器消耗器束流聚焦镜片准分子激光退火反射膜反射腔透过腔激光束聚焦激光束照射基板激光束反射激光退火对基板反射连通穿过焦点贯穿

[发明专利]一种利用同步可控电子束提高聚焦离子束加工精度的方法-CN201010569692.3无效
发明人：王荣明;罗浒;崔益民;姚骏恩 -专利权人：北京航空航天大学
申请日： 2010-12-02 - 公布日： 2011-05-18 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种利用同步可控电子束提高聚焦离子束加工精度的方法，该方法有四大步骤：一、对刻蚀加工的样品进行清洗、烘干，然后装入双束系统的样品台上，并抽取真空；二、移动样品台到该双束系统的工作距离，调节该双束系统电压、束流等参数，调节好电子束与离子束象散，最终使该系统中的电子束与离子束的焦点汇聚于样品表面。三、在聚焦离子束曝光软件-图形发生器上设计好需要加工的图形；同时打开聚焦离子束和电子束辅助聚焦离子束刻蚀加工，根据聚焦离子束束流大小选择好合适的电子束束流范围；四、关闭该双束系统中电子束与离子束的高压，
一种利用同步可控电子束提高聚焦离子束加工精度方法

[发明专利]一种超导质子装置能量选择系统及其实现方法-CN201710875427.X有效
发明人：郑金星;宋云涛;支博;江峰;朱雷;张午权;韩曼芬;王鹏彧;李明;曾宪虎;王成 -专利权人：合肥中科离子医学技术装备有限公司
申请日： 2017-09-25 - 公布日： 2018-08-14 - 主分类号： H05H13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种超导质子装置能量选择系统及其实现方法，该能量选择系统包括：降能段A：对进入的质子束流进行降能、能散度和发散度的调节；聚焦校正段B：对束流的发散度进行检测，将信号反馈到控制系统，控制系统调节磁场的大小，对束流的运动轨迹进行校正；偏转段C：能散度越大的质子在径向偏离束流中心轨道的幅度也越大；二次聚焦段D：使束流在该段再一次的聚焦；能量选择段E：使只有在设计中心位置的质子束流能够通过，实现对束流的初步筛选本发明能够对质子束流的能量和发散度进行调节，对质子束流的品质进行筛选，使其满足治疗端的需求。
一种超导质子装置能量选择系统及其实现方法

[发明专利]一种带电粒子束流磁场聚焦结构及应用该结构的离子注入机-CN201510741661.4有效
发明人：张丛 -专利权人：北京中科信电子装备有限公司
申请日： 2015-11-04 - 公布日： 2018-08-14 - 主分类号： H01J37/21 文献下载
摘要：本发明涉及用于聚焦带电粒子束流的磁场结构。本发明提供了一种新型磁场聚焦结构，使束流在某一平面内实现非均匀的聚焦效果。当该磁场结构应用于离子注入机时，可矫正束流非均匀的空间或角度分布。
一种带电粒子束磁场聚焦结构应用离子注入

[发明专利]电子束流能量密度分布测量系统及方法-CN201910300519.4有效
发明人：林峰;赵德陈;张磊;郭超;马旭龙 -专利权人：清华大学;天津清研智束科技有限公司
申请日： 2019-04-15 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： G01T1/29 文献下载
摘要：本发明公开了一种电子束流能量密度分布测量系统及方法，其中，该系统包括：电子束发生偏转聚焦装置用于控制电子束的产生、聚焦和偏转；电子束能量密度测量装置用于测量漏过电子束能量密度测量装置顶部直角缺口的电子束流强度，并记录电子束的偏转信号；控制器用于控制电子束发生偏转聚焦装置产生、聚焦和偏转电子束，同时控制电子束能量密度测量装置采集电子束强度信号和记录电子束偏转信号；数据处理装置用于将电子束流强度信号根据电子束偏转信号构建成二维数据矩阵，以采用二阶微分方法计算获得电子束能量密度分布。该系统简化测量装置的加工，无需假定电子束能量密度圆周对称，也可以准确测量不规则的电子束流能量密度分布。
电子束能量密度分布测量系统方法

[发明专利]一种离子束垂直聚焦装置-CN201410324394.6有效
发明人：张进学 -专利权人：北京中科信电子装备有限公司
申请日： 2014-07-09 - 公布日： 2014-09-10 - 主分类号： H01J37/21 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子束垂直聚焦装置，所述离子束垂直聚焦装置包括具有透镜腔体的壳体，以及装在壳体上的盖板；所述盖板上装有冷却液接头和电器接头；所述壳体的透镜腔体内装有至少一对用于产生对称磁场对离子束进行垂直聚焦的磁铁，每对磁铁之间形成用于通过离子束的扇形的束流通道，该束流通道左右两侧壁与相应侧的磁铁产生的磁力线垂直；所述磁铁竖向布置，所述束流通道横向布置；所述束流通道与磁铁之间设有防止金属污染透镜腔体的石墨防护板。本发明可以调节经过分析器分析后束流的垂直聚焦状态，保证在不同束流状态下的分析精度和束流的传输效率。
一种离子束垂直聚焦装置

[发明专利]一种基于太空环境下的电子束焊接方法及焊接设备-CN202310020214.4在审
发明人：付鹏飞;毛智勇;唐振云;王永锋;李立航;赵桐 -专利权人：中国航空制造技术研究院
申请日： 2023-01-06 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B23K15/00 文献下载
摘要：本发明属于焊接技术领域，尤其涉及一种基于太空环境下的电子束焊接方法及焊接设备。包括调控60kV的真空电子束焊接设备，获得10～20kV的电子束加速电压、0～2kW的低功率以及1×10‑2～10‑3Pa的真空度；设定电子枪到待焊工件表面的距离，在选定的工作距离下，进行束流聚焦状态调控，其中，所述束流聚焦状态调控包括：选择束流聚焦斑点为上聚焦，将束斑直径确定在2～5mm范围内；在真空状态下，选取所述电子束加速电压、功率以及所述束流聚焦状态，按照2～7mm/s的焊接速度、100mA以下的束流在1×10‑2～10‑3Pa的真空度环境下进行热传导熔化焊接；其目的是解决如何在低电压和低功率的高真空环境下实现电子束焊接。
一种基于太空环境电子束焊接方法焊接设备

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