专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]太阳能电池的电极制作方法-CN200910089818.4无效
  • 吴桂龙 - 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
  • 2009-07-24 - 2011-02-02 - H01L31/18
  • 本发明提供一种太阳能电池的电极制作方法,包括:在基底上沉积氧化薄膜;对所述氧化薄膜进行掺杂,以形成掺杂氧化薄膜。所述掺杂采用离子注入工艺或者扩散工艺。所述离子注入工艺包括:向氧化薄膜内注入掺杂物,然后对注入后的薄膜进行热处理。所述基底为玻璃基板,则所述掺杂氧化薄膜为前电极。采用所述太阳能电池的电极制作方法,将氧化薄膜沉积工艺和掺杂工艺分为两个步骤,先沉积薄膜而后才进行掺杂,这样一来,薄膜的掺杂浓度或掺杂元素种类就并不依赖于靶材,方便的在更宽的范围内调整掺杂浓度和掺杂元素种类,从而改善掺杂氧化薄膜制作工艺的可调性、增大工艺窗口。
  • 太阳能电池电极制作方法
  • [实用新型]一种硫化亚锡薄膜太阳能电池-CN201520436776.8有效
  • 罗云荣;陈慧敏;陈春玲 - 湖南师范大学
  • 2015-06-24 - 2015-09-23 - H01L31/0445
  • 实用新型公开了一种硫化亚锡薄膜太阳能电池,所述太阳能电池具有玻璃衬底,在玻璃衬底上制备有P电极和N电极,P电极和N电极呈插指状,P电极上完全覆盖有P型硫化亚锡薄膜,P型硫化亚锡薄膜上完全覆盖有氧化薄膜,氧化薄膜与N电极不直接接触,氧化薄膜表面、N电极表面、氧化薄膜和N电极之外的间隙完全覆盖有N型硫化薄膜,N型硫化薄膜上制备有抗反射的氟化镁薄膜。此结构的优点在于,一方面,增加了太阳能电池的光吸收面积;另一方面,利用氧化的钝化作用,有效减少P型硫化亚锡薄膜和N型硫化薄膜的表面缺陷态密度,减少载流子的复合几率,增大光电流,提高太阳能电池的光电转换效率
  • 一种硫化薄膜太阳能电池
  • [发明专利]一种双结薄膜太阳能电池及其制作方法-CN202111031385.4在审
  • 陈园;丁志武;雷佳 - 上饶捷泰新能源科技有限公司
  • 2021-09-03 - 2021-12-03 - H01L31/0336
  • 申请公开了一种双结薄膜太阳能电池及其制作方法,该电池包括由下至上依次层叠的衬底、背电极、p型CIGS吸收层、n型CdS缓冲层、p型CdTe吸收层、绝缘层、顶电极,绝缘层包括由下至上层叠的氧化层和n型氧化层。申请电池包括两个吸收层,吸收的光子能量增加,且在p型CIGS吸收层和p型CdTe吸收层两个吸收层之间设置n型CdS缓冲层,从而形成一个梯度的带隙,使得光电转换效率提升;绝缘层设置在顶电极和p型CdTe吸收层之间,隔绝空气中的水汽,防止电池性能失效,并且,绝缘层包括氧化层和n型氧化层两层,氧化层导电性差,透光性高,减小漏电同时提高光学利用率,进一步提升光电转换效率。
  • 一种薄膜太阳能电池及其制作方法
  • [发明专利]一种镀氧化膜层的玻璃-CN02136642.X无效
  • 叶志镇 - 浙江大学
  • 2002-08-20 - 2003-02-26 - C03C17/23
  • 本发明的镀氧化膜层的玻璃是由玻璃和镀在玻璃表面的氧化膜层组成。由于氧化能带结构(3.3eV)的特点,可透过太阳光的可见光,而吸收绝大部分的紫外光,因此本发明的镀氧化膜层玻璃具有很强的屏蔽紫外线功能。这种镀膜玻璃可以广泛应用于建筑和汽车上。
  • 一种氧化锌玻璃
  • [实用新型]镀纳米氧化膜层的玻璃-CN02266543.9无效
  • -
  • 2002-08-20 - 2003-08-13 - C03C17/23
  • 实用新型的镀纳米氧化膜层的玻璃是由玻璃和镀在玻璃表面的纳米氧化膜层组成。由于氧化能带结构(3.3eV)的特点,可透过太阳光的可见光,而吸收绝大部分的紫外光,因此实用新型的镀氧化膜层玻璃具有很强的屏蔽紫外线功能,而且纳米氧化活性高,可以分解有机物,具有自清洁和杀菌
  • 纳米氧化锌玻璃
  • [发明专利]一种氧化基透明电极发光二极管及其制作方法-CN201010102817.1有效
  • 王书方;张建华 - 上海大学
  • 2010-01-29 - 2010-07-07 - H01L33/02
  • 本发明涉及一种氧化基透明电发光二极管及其制作方法。发光二极管包括:蓝宝石衬底、缓冲层、层、n型氮化镓、量子阱、p型氮化镓、氧化基透明电流扩展层、n型金属电极(PAD)、p型金属电极(PAD),其中缓冲层、层、n型氮化镓、量子阱、p型氮化镓是在MOCVD中依次生长完毕;利用干法刻蚀将n型氮化镓暴露出来,利用光刻胶掩膜的方法是利用磁控溅射方法沉积氧化基透明电流扩展层,然后再利用热蒸发或电子束蒸发等薄膜沉积方法生长金属电极。该芯片制备工艺先进行p型氮化镓的刻蚀,再进行氧化透明电极的沉积,克服了氧化与氮化镓不同材料需分别刻蚀的问题。而且由于无须刻蚀氧化电极层,节约了工艺时间,简化了生产工艺,提高了生产效率。
  • 一种氧化锌透明电极发光二极管及其制作方法
  • [发明专利]透明电极发光二极管及其制作方法-CN201010102725.3无效
  • 王书方;张建华 - 上海大学
  • 2010-01-29 - 2010-07-28 - H01L33/42
  • 发光二极管包括:蓝宝石衬底、缓冲层、层、n型氮化镓、量子阱、p型氮化镓、氧化基透明电流扩展层、n型金属电极(PAD)、p型金属电极(PAD),其中缓冲层、层、n型氮化镓、量子阱、p型氮化镓是在MOCVD中依次生长完毕;氧化基透明电流扩展层是利用磁控溅射方法沉积在p型氮化镓表面;用湿法刻蚀将氧化透明导电层腐蚀掉,再利用干法刻蚀将n型氮化镓暴露出来,利用热蒸发或电子束蒸发等薄膜沉积方法生长金属电极氧化材料湿法腐蚀简单,彻底、快捷。氧化透明电极提高了LED芯片光提取效率,从而提高LED芯片的可靠性。
  • 透明电极发光二极管及其制作方法

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