专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种用于薄膜波导的耦合方式及其实现方法-CN201610518118.2在审
  • 华平壤;陈朝夕 - 派尼尔科技(天津)有限公司
  • 2016-06-30 - 2016-11-23 - G02B6/30
  • 本发明公开了一种用于薄膜波导的耦合方式及其实现方法,包括单模光纤、氧化钽波导光栅、纳米线波导、二氧化硅缓冲层和硅衬底,其中,二氧化硅下包层可以采用热氧化的方式;薄膜层直接键合在二氧化硅缓冲层表面在薄膜表面制备氧化钽波导和光栅结构,最后将经过特殊抛磨的单模光纤直接压在氧化钽波导表面。光信号可以直接从单模光纤进入氧化钽薄膜波导然后通过氧化钽光栅耦合到薄膜波导中。本发明解决了在表面很难直接刻蚀光栅的难题,相比于端面耦合,难度大大降低;同时采用抛光后的普通光纤直接与基片压合的方式,在机械强度上有很大提高,不易受温度变化影响,提高了纳米级薄膜材料的耦合效率
  • 一种用于铌酸锂薄膜波导耦合方式及其实现方法
  • [发明专利]一种自支撑薄膜及其制备方法-CN202010645070.8在审
  • 欧欣;徐文慧;游天桂;沈正浩 - 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 2020-07-07 - 2020-10-30 - C30B29/30
  • 本发明公开了一种自支撑薄膜的制备方法,包括:获取具有抛光面的单晶晶片;获取高阻衬底,并在所述高阻衬底上沉积一层介电层;在所述介电层的表面刻蚀沟槽;将所述单晶晶片的所述抛光面与所述介电层具有所述沟槽的表面键合形成第一复合结构;对所述第一复合结构进行减薄处理后得到第二复合结构;对所述第二复合结构进行表面处理后得到第三复合结构;将所述第三复合结构放入处理液中进行腐蚀,得到所述自支撑薄膜。通过上述方法得到的自支撑薄膜与单晶晶片的质量一样,从而解决了现有技术中制备薄膜时由于离子束作用而造成的薄膜缺陷问题。
  • 一种铌酸锂支撑薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种干法刻蚀的方法-CN202110697917.1在审
  • 冯英雄;戴海成;刘建;车东晨;彭泰彦;许开东 - 江苏鲁汶仪器有限公司
  • 2021-06-23 - 2022-12-23 - C30B33/12
  • 本发明涉及一种干法刻蚀的方法,属于半导体加工领域。干法刻蚀的方法的刻蚀步骤包括,将已图形化的放入刻蚀机中;向刻蚀机的刻蚀腔内通入混合后的刻蚀气体Cl2,H2与惰性气体,刻蚀机射频点火起辉,开始刻蚀;达到刻蚀时间后,刻蚀完成。本发明采用干法刻蚀的方法,其气体采用Cl2/H2进行刻蚀,不同于传统的氟基刻蚀体系。本发明可以使用介质材料或光刻胶做掩膜,应用于产线后,可优化生产流程,极大提升产能,节约成本。干法刻蚀可以使用传统的光刻胶掩膜或SiO,SiN,Si等介质材料作为硬掩膜,并获得较好的选择比和良好的形貌。
  • 一种刻蚀铌酸锂方法
  • [实用新型]调制器偏置电压供给系统-CN202220813411.2有效
  • 焦康平 - 世维通河北科技有限公司
  • 2022-04-08 - 2022-09-23 - H01R12/71
  • 本实用新型公开一种调制器偏置电压供给系统,包括:调制器、偏压控制器、偏压控制夹具、以及光源,光源与调制器的输入端连接,调制器的输出端与偏压控制器的输入端连接,偏压控制器的输出端与偏压控制夹具的一端电连接,调制器的偏置端的引针插入偏压控制夹具的另一端并电接触。本实用新型偏压控制器通过偏压控制夹具给调制器施加偏置电压。本实用新型的偏压控制夹具使用简单易操作,提高了效率,增大了接触面积,避免虚接短接,保证偏压控制器给调制器施加电压时的稳定性,另外还可以根据环境的实际情况改变电路板的大小,非常方便。
  • 铌酸锂调制器偏置电压供给系统
  • [实用新型]一种小型化的光器件-CN202223544921.3有效
  • 朱赟 - 合肥芯智华光子科技有限公司
  • 2022-12-26 - 2023-04-07 - G02F1/03
  • 本实用新型公开了一种小型化的光器件,其技术方案要点是:包括封装外壳,所述封装外壳的顶面固定安装有顶板,所述封装外壳的两侧均固定安装有两个固定块,所述固定块的顶面设置有螺栓,所述封装外壳的内部设置有薄膜调制器芯片;控温组件,所述控温组件设置在所述封装外壳的内部,用于对薄膜调制器芯片控温,通过设置薄膜调制器芯片,通过薄膜调制器芯片可以有效减少实现光器件所需要的光路长路和封装尺寸,通过温度传感器可以对封装外壳的内部温度进行感应,防止了封装外壳内部温度过高与过低,从而改善薄膜调制器芯片的加热与散热能力,进而提高了工作温度的稳定性。
  • 一种小型化铌酸锂光器件
  • [发明专利]一种高能太赫兹波产生装置-CN201710979132.7在审
  • 吴晓君;戴军;方兆吉 - 北京航空航天大学
  • 2017-10-19 - 2018-01-09 - G02F1/35
  • 本发明提供一种高能太赫兹波产生装置,包括飞秒激光器、用于波前倾斜的光栅以及晶体,所述光栅制备在所述晶体的入射面上;所述飞秒激光器发射的泵浦飞秒激光通过所述光栅射入所述晶体中,从而在所述晶体中产生太赫兹辐射,其中,所述泵浦飞秒激光通过所述光栅射入到所述晶体时的所述泵浦飞秒激光的偏振方向与所述晶体的晶轴平行。
  • 一种高能赫兹产生装置

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