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[发明专利]一种双光路双远心光学系统-CN201910055291.7有效
发明人：韦晓孝;李雪宸;万新军;吕元 -专利权人：上海理工大学
申请日： 2019-01-21 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种双光路双远心光学系统，包括投影系统和成像系统，所述成像系统从物面到像面依次设置有共光路物镜组、分光棱镜、光阑一和成像物镜组，所述投影系统从照明系统到物面包括有照明系统、投影物镜组、光阑二、分光棱镜和共光路物镜组，所述投影系统将所述照明系统产生的调制条纹光投影到物面上，所述成像系统将物面反射的条纹光信息成像在像面上；本发明集成度高、精度高、分辨率高、远心度高、畸变小，可有效提高成像质量，
一种双光路双远心光学系统

[发明专利]一种调焦调平检测装置-CN200510025462.X有效
发明人：李小平;陈飞彪;李志丹;关俊;杨志勇 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2005-04-27 - 公布日： 2005-10-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种应用于投影光刻系统中的调焦调平检测装置，它的主要功能是对被曝光硅片的表面相对于投影物镜之间的距离和倾斜度进行高精度、低成本的检测。主要是在投影物镜和硅片之间放置了一组浮筒装置，该组浮筒装置与投影物镜或投影物镜支承进行刚性联接，该组浮筒装置对硅片表面的位置信息进行测量，测量结果送往调焦调平控制系统，经过信号处理和调焦调平量的计算后，
一种调焦检测装置

[发明专利]一种投影曝光装置及曝光方法-CN201611073752.6有效
发明人：陈跃飞;陈飞彪;于大维;潘炼东 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-11-29 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种投影曝光装置及曝光方法，包括沿光路方向依次设置的照明光源、掩模版、掩模台、投影物镜阵列、对准测量系统阵列和工件台，所述工件台上设有玻璃基板，所述对准测量系统阵列中的对准测量系统与所述投影物镜阵列中的投影物镜一一对应本发明提高了对准标记和对准测量系统的空间布局灵活性；减少了对准标记和对准检测系统的数量，对准检测系统的数目和投影物镜的数目相同，减少了对准过程的时间消耗，提高了检测效率。
对准测量投影物镜对准标记系统阵列对准标记阵列对准检测系统投影曝光装置玻璃基板空间布局时间消耗依次设置照明光源曝光工件台掩模版掩模台光路对准检测

[实用新型]一种投影式卧式测量仪-CN201921878149.4有效
发明人：黎志勇 -专利权人：东莞市亿辉光电科技有限公司
申请日： 2019-11-01 - 公布日： 2020-09-08 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种投影式卧式测量仪，包括机架、发射光线均匀的光线发射机构、物镜、可调折射反光镜及投影显示屏，机架包括用于放置待测量零件的置物台，光线发射机构、物镜分立于置物台两侧，光线发射机构由一侧照射位于置物台上的零件，物镜从另一侧接收零件的成像光线，由物镜出射的成像光线投射于可调折射反光镜上，通过可调折射反光镜反射于投影显示屏上。该投影式卧式测量仪将零件轮廓成像清晰、测量精度更高，且可将零件成像显示于投影显示屏上，方便操作者较易查看。
一种投影卧式测量仪

[实用新型]一种全光路投影蔽光写真仪-CN201520593121.1有效
发明人：林嘉豪;姜久财 -专利权人：李志玲;林嘉豪
申请日： 2015-08-08 - 公布日： 2015-12-23 - 主分类号： G03B21/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种全光路投影蔽光写真仪。本实用新型的目的在于提供一种改进的全光路投影蔽光写真仪。本实用新型包括用于经度和纬度调节的经纬仪以及设在经纬仪上的望远镜，望远镜包括物镜以及设在物镜后端的转角目镜，其特征在于：所述物镜后端还设有天顶正光投影镜，天顶正光投影镜上套设有斗形投影暗箱，斗形投影暗箱上方设有盖板，盖板上设有与天顶正光投影镜相配合的可透光的投影写真板，通过相应光路可将远处的影像投射到投影写真板上，方便蒙纸写真或者直接拍照，具有结构精巧、成本低廉、适应性广的特点。
一种全光路投影写真

[实用新型]轮廓测量投影仪-CN201821492486.5有效
发明人：谭小艳;王正云;孙志坚;吴永宏;吴慧敏 -专利权人：深圳市泰科检测有限公司
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2019-04-23 - 主分类号： G01B9/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及测量技术领域，针对检测数据精度下降的问题，提供了一种轮廓测量投影仪，该技术方案如下：包括水平滑动的工作台、位于工作台上方的放大物镜、位于工作台上并朝向放大物镜照射光线的光源以及显示放大物镜所成图形的投影屏幕，投影屏幕上标记有标准线，工作台上设有夹持组件，夹持组件包括至少三块竖直设置的夹持杆以及驱动夹持杆沿水平方向靠近或远离光源中心的驱动件，相述夹持杆至光源中点的水平连线间夹角小于180°。通过夹持杆夹持待测零件，使得待测零件的侧壁处于竖直状态，进而使得通过光源与放大物镜配合投影处的影像为待测件欲测量尺寸的平面的正投影，使得投影影像的精度较高，进而使得测量厚度等尺寸时精度较高。
放大物镜夹持杆光源投影仪待测零件夹持组件轮廓测量投影屏幕工作台测量测量技术领域本实用新型光源中心检测数据竖直设置竖直状态水平滑动投影影像照射光线标准线待测件平面的驱动件正投影侧壁夹持连线投影影像驱动配合

[发明专利]光刻机投影物镜偏振像差原位检测方法-CN201310140728.X有效
发明人：涂远莹;王向朝;步扬 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2013-04-22 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻机投影物镜偏振像差原位检测方法，所述检测方法使用的检测系统包括光源、照明系统、掩模台、包含检测标记的掩模、投影物镜、工件台、像传感器、用于掩模台与工件台的定位系统、数据处理系统及反馈控制系统。所述的检测方法采用偏振照明方式并选取大的投影物镜数值孔径进行检测，然后利用像传感器测量所述检测标记的成像位置偏移量与最佳焦面偏移量，再根据标定的偏振像差灵敏度系数计算所述投影物镜的偏振像差。
光刻投影物镜偏振原位检测方法

[实用新型]一种高精度投影检测装置-CN202021307867.9有效
发明人：夏楠 -专利权人：绍兴炫通流体连接件制造有限公司
申请日： 2020-07-07 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高精度投影检测装置，包括主体、主体上设置有投影箱、显示控制器、以及水平滑动的工作台，工作台上方设置有与投影箱相连的放大物镜，工作台内设有朝向放大物镜照射光线的光源，所述主体上安装有气泡水平仪本实用新型提供了一种方便将投影检测装置水平放置、方便放大物镜调换、适合不同身高使用者观察操作的高精度投影检测装置。
一种高精度投影检测装置

[发明专利]一种光刻投影物镜内部腔室气体环境采集控制系统-CN201410591253.0无效
发明人：于淼;崔洋;李佩玥;彭吉;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2014-10-27 - 公布日： 2015-01-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻投影物镜内部腔室气体环境采集控制系统属于光刻投影物镜控制领域，目的在于解决现有技术中由于光刻物镜内部腔室气体环境变化导致光刻精度低、光刻物镜可靠性和稳定性差的问题。环境控制机箱包括机箱背板和固定在机箱背板上的机箱主控卡、气体环境采集卡和气体环境控制卡，上位机的网络接口通过网络接口线路与环境控制机箱的机箱主控卡连接，气体环境采集卡和气体环境控制卡分别通过模拟放大线路与气体环境测量单元和气体环境控制单元连接，光刻投影物镜内部腔室与气体环境控制单元之间通过高纯供给线路和回气线路构成气体回路，气体环境测量单元通过待测气路与光刻投影物镜内部腔室连接。
一种光刻投影物镜内部气体环境采集控制系统

[发明专利]极紫外光刻机中匹配多个物镜的照明系统调整与设计方法-CN201310467422.5有效
发明人：李艳秋;梅秋丽;刘菲 -专利权人：北京理工大学
申请日： 2013-10-09 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种极紫外光刻机中匹配多个物镜的照明系统调整与设计方法，该方法适用的照明系统包括光源、聚光镜、视场复眼、光阑复眼以及中继镜组；该方法的具体步骤为：在极紫外光刻机更换投影物镜前：利用光线追迹，计算中继镜A的出射光线在子午面和弧矢面上的孔径角；在极紫外光刻机更换投影物镜后：取出瞳面的中心点作为物点进行光线追迹；通过调整中继镜A和B的倾斜角和位置，以及调整光阑复眼和视场复眼上中心复眼元的倾斜角度，直至当前照明系统的像面与投影物镜对应的弧形像面相近为止基于本发明调整方法对照明系统进行调整，可得到与该投影物镜系统相匹配的照明系统，从而大大降低了投影式光刻机的设计成本。
紫外光刻匹配物镜照明系统调整设计方法

[发明专利]光刻机投影物镜及其镜片支架的通孔设计方法-CN201410742951.6有效
发明人：张洪博;赵丹丹;聂宏飞;龚辉 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-12-07 - 公布日： 2018-03-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机投影物镜及其镜片支架的通孔设计方法，该光刻机投影物镜包括镜筒、若干镜片和与镜片相对应的镜片支架，所述镜筒的顶部设有一出气口和底部设有一进气口，镜片支架的一侧设有若干通孔，且各通孔的气体流量和压力损失值相同本发明根据每个镜片的照明视场情况，在相应的镜片支架上按照特定方法设置孔径不同的通孔，并使相邻镜片支架的通孔呈对角分布，不仅保证了投影物镜内气压的稳定性，而且实现了投影物镜内部气体充分流通，提高了散热性能和光路区域的温度稳定性，同时光路区域充分填充惰性气体，有效降低了投影物镜对温度和压力的敏感度，提高了光刻质量。
光刻投影物镜及其镜片支架设计方法

[发明专利]一种投影物镜像差校正机构及方法-CN201710035870.6有效
发明人：韩建;郭银章 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2017-01-17 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种投影物镜像差校正机构及方法，包括投影物镜、设于所述投影物镜光路中且由若干相互独立的分立式变形镜组成的阵列式反射镜、测试机构、控制器和调整机构，所述测试机构检测特定波长下投影物镜的像质数据根据投影物镜的像质数据获得反射镜阵列中每个分立式变形镜的调整量，通过调整机构根据每个分立式变形镜的调整量对其进行垂向调整，以得到所需的面型，本发明能够生成任何反射面型且不存在串扰，不需要加工复杂的面型，
一种投影物镜校正机构方法

[发明专利]自适应全反射极紫外投影光刻物镜-CN02123753.0无效
发明人：张强;姚汉民;刘业异;胡松 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2002-06-24 - 公布日： 2004-01-07 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：自适应全反射极紫外EUV(Extreme Ultraviolet)投影光刻物镜，可用于EUV投影光刻机中，它包括2－4片球面或非球面反射镜和一片变形反射镜构成的投影光学系统及成像探测器和控制器，极紫外光照射掩模后，依次通过2－4片球面或非球面反射镜以及变形反射镜构成的投影光学系统到达工件，由成像探测器在工件表面进行探测，其探测的信号通过控制器控制变形反射镜的反射镜面，对投影光刻物镜自身像差进行校正。其主要光学参数为：缩小倍率4～6倍，数值孔径0.1～0.4，成像视场20～30mm×1～2mm，本发明不仅可以简化投影光刻物镜结构，降低非球面反射镜的面形精度要求，而且能够消除环境变化等动态因素对投影光刻物镜像差的影响
自适应全反射紫外投影光刻物镜

[发明专利]平面物形成球面象的投影光学系统设计方法-CN00135023.4无效
发明人：杨广泽;付东辉 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2000-12-08 - 公布日： 2004-03-10 - 主分类号： G02B27/18 文献下载
摘要：本发明属于应用光学领域中的一种把平面物形成球面象的投影光学系统设计方法。该方法是在同一条光轴上用准直物镜组和同心球面物镜组形成的投影光学系统，可将一个平面物经过象方远心的准直物镜组所成的虚象，再经过同心球面物镜组后，形成一个标准的球面实象。从准直物镜组发出的射向同心球面物镜组的光是平行光，准直物镜组的光阑置于同心球面物镜组的入瞳处，同心球面物镜组的球心处设置一个正透镜，使同心球面物镜组的光焦度为正值，本发明方法为建立无限远视景显示系统创造了有利的条件
平面形成球面投影光学系统设计方法

[实用新型]一种透射比为0.79:1的变焦附加镜头组-CN202020502452.0有效
发明人：陈勇 -专利权人：武汉新视角光电科技有限公司
申请日： 2020-04-08 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： G02B13/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种透射比为0.79:1的变焦附加镜头组，自近物侧至远物侧方向依次设置第一光学物镜、第二光学物镜和第三光学物镜，第一光学物镜和第二光学物镜为弯月透镜，第三光学物镜为平凸透镜，第一光学物镜的后表面中心点与第二光学物镜的前表面中心点之间的距离为20.3921mm，第二光学物镜的后表面中心点与第三光学物镜的前表面中心点之间的距离为30.7667mm，本实用新型结构简单，适合大批量生产，应用到dlp投影机上可以实现大画面的投影，并且可以实现无色差
一种透射 0.79 变焦附加镜头