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- [发明专利]一种高硼硅玻璃生产用检测装置-CN202210806981.3在审
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贾心伟;伊全
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信和光能（安徽）有限公司
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2022-07-09
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2022-10-11
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G01N3/48
- 本发明涉及高硼硅玻璃生产技术领域，尤其涉及一种高硼硅玻璃生产用检测装置，将待检测的高硼硅玻璃通过进料传送带传输，至检测辊旁侧并将高硼硅玻璃对准运输进夹持槽中，然后检测辊转动将高硼硅玻璃顺次运输至上端靠近检测箱顶壁，然后检测螺杆转动带动敲击球对高硼硅玻璃进行敲击检测，若高硼硅玻璃破碎则掉落的碎片掉落至回收传送带上并带出检测箱，留在夹持槽上的碎片转动至下端掉落在回收传送带上并带出检测箱，未破碎的高硼硅玻璃转动至出料板侧并压动压动板，出料辊将完整的高硼硅玻璃夹住，将夹持的高硼硅玻璃夹持传送至出料传送带上并带出检测箱，无需人工处理，避免了所产生的碎渣对操作人员造成安全威胁，大大提高了检测的安全性。
- 一种高硼硅玻璃生产检测装置
- [发明专利]硅硼碳溅射靶材的制备工艺-CN202110830475.3在审
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施玉良;徐文斌
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法柯特科技（江苏）有限公司
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2021-07-22
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2021-10-15
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C23C14/34
- 本发明公开了一种硅硼碳溅射靶材的制备工艺，包括如下步骤：按照质量百分比准备如下原料：硅粉95.8%‑97.2%、硼粉2%‑3%和碳粉0.8%‑1.2%；将硅粉95.8%‑97.2%、硼粉2%‑3%和碳粉0.8%‑1.2%投入V型混粉机中混合5‑6小时，然后将硅硼碳粉末投入到烘干炉中烘干2‑3小时，烘干温度控制在温度55度‑65℃。优点是：对硅硼碳混合原料进行高温等离子热熔喷涂，一次性完成高温脱氧和喷涂工艺，硅増透效果好作为靶材的基材，制成的硅硼碳溅射靶材薄膜在可见光谱范围平均透光率在95％以上，硼使靶材具备一定的导电性，加入的碳硬度高，可以使产品硬度达到7.5，改善了溅射靶材的关键性硬度指标，提高了手机触摸屏等产品的耐磨和防划伤性能，使其使用寿命更长。
- 硅硼碳溅射制备工艺
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