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- [发明专利]一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法-CN202310262577.9在审
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李涛;宋泽琳;梁洋
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山东大学
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2023-03-17
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2023-06-23
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C03C25/6208
- 本发明公开了一种单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法,包括以下步骤布置飞秒激光器和烧蚀探头‑打开飞秒激光器,使得飞秒激光器发出的激光经烧蚀探头后,形成的光斑位于待加工样品光纤的内部,且激光传播方向与待加工样品光纤垂直,光斑中心与待加工样品光纤的圆心之间存在设定距离‑在高NA物镜下,利用光斑在待加工样品光纤的表面诱导改性,形成损伤轨迹,未被激光扫描的纤芯区域被折射率降低的改性晶体材料区包围,构成包层,从而得到Ⅱ类应力诱导形成的凹陷包层波导本发明采用上述单模单晶光纤能量场约束微结构制备方法,制备出高光学质量的单模单晶光纤,具有结构均匀、稳定性高、散热良好、无污染、无需额外引入其他材料的包层结构等优点。
- 一种单模光纤能量约束微结构制备方法
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